JP2011145497A - 磁性キャリア及び二成分系現像剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多孔質磁性粒子と樹脂を含有する磁性キャリア粒子を有する磁性キャリアであって、前記樹脂は低抵抗物質を含有し、前記低抵抗微物質の抵抗率が1.0×10-2Ω・cm以上1.0×106Ω・cm以下であり、
前記多孔質磁性粒子の1×103V/cmの電界強度における抵抗率が1.0×107Ω・cm以上1.0×1010Ω・cm以下であり、
交流インピーダンス測定により得られるインピーダンスZの周波数依存特性を、フィッティング関数によりフィッティングしたときのパラメータαが、電界強度1×103V/cmにおいて0.85以上0.95以下であることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
少なくとも前記樹脂に低抵抗物質を含有し、前記低抵抗物質の抵抗率が、1.0×10-2Ω・cm以上1.0×106Ω・cm以下であり、
前記多孔質磁性粒子の電界強度1×103V/cmにおける抵抗率が、1.0×107Ω・cm以上1.0×1010Ω・cm以下であり、
交流インピーダンス測定により得られるインピーダンスZの周波数依存特性を、下記(1)式で表されるフィッティング関数により、フィッティングしたときのパラメータαが、電界強度1×103V/cmにおいて、0.85以上0.95以下であることを特徴とする磁性キャリアに関する。
Re[Z(ω)]はインピーダンスの実部
Im[Z(ω)]はインピーダンスの虚部
iは、虚数単位
ωは、角周波数
Rs、R、T、αは、Cole−Coleの式によるフィッティングで算出されるパラメーター)
前記多孔質磁性粒子の電界強度1×103V/cmにおける抵抗率が、1.0×107Ω・cm以上1.0×1010Ω・cm以下であり、
交流インピーダンス測定により得られるインピーダンスZの周波数依存特性を、下記(1)式で表されるフィッティング関数により、フィッティングしたときのパラメータαが、電界強度1×103V/cmにおいて、0.85以上0.95以下であることを特徴とする。
Re[Z(ω)]はインピーダンスの実部
Im[Z(ω)]はインピーダンスの虚部
iは、虚数単位
ωは、角周波数
Rs、R、T、αは、Cole−Coleの式によるフィッティングで算出されるパラメーター
である。
Re[Z(ω)]はインピーダンスの実部
Im[Z(ω)]はインピーダンスの虚部
iは、虚数単位
ωは、角周波数
Rs、R、T、αは、Cole−Coleの式によるフィッティングで算出されるパラメーター
である。
1.多孔質磁性粒子の細孔に低抵抗物質を含有した樹脂を充填し、表面に低抵抗物質を含有した樹脂を被覆する。
2.多孔質磁性粒子の細孔に低抵抗物質を含有していない樹脂を充填し、表面に低抵抗物質を含有した樹脂を被覆する。
3.多孔質磁性粒子の細孔には樹脂を充填せず、表面に低抵抗物質を含有した樹脂を被覆する。
4.多孔質磁性粒子の細孔に低抵抗物質を含有した樹脂を充填し、表面に低抵抗物質を含有していない樹脂を被覆する。
5.多孔質磁性粒子の細孔に低抵抗物質を含有した樹脂を充填し、表面には樹脂を被覆せず。
1)表面が酸化された鉄粉、2)未酸化の鉄粉、3)リチウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、マンガン、クロム及び希土類元素の如き金属粒子、4)鉄、リチウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、マンガン、クロム及び希土類元素の如き金属の合金粒子、又はこれらの元素を含む酸化物粒子、5)マグネタイト粒子又はフェライト粒子。
(M12O)u(M2O)v(M32O3)w(M4O2)x(M52O5)y(Fe2O3)z
(式中、M1は1価、M2は2価、M3は3価、M4は4価、M5は5価の金属であり、u+v+w+x+y+z=1.0とした時に、u、v、w、x及びyはそれぞれ0≦(u,v,w,x,y)≦0.8であり、zは0.2<z<1.0である。)
フェライトの原料を、秤量し、混合する。フェライトの原料としては、磁性の抵抗率、パラメータαをコントロールするために以下のものが挙げられる。
混合したフェライト原料をスプレードライヤーを用いて、乾燥・造粒した後、大気中で温度700℃以上1000℃以下にして、0.5時間以上5.0時間以下仮焼成し、フェライト化する。1000℃を超えると焼結が進み、多孔質にするための粒径まで粉砕することが出来にくくなる場合がある。
工程2で作製した仮焼フェライトを粉砕機で粉砕する。粉砕機としては、以下のものがあげられる。クラッシャーやハンマーミル、ボールミル、ビーズミル、遊星ミル、ジェットミル。
仮焼フェライト微粉砕品に対し、水、バインダーと、必要に応じて、細孔調整剤として発泡剤や有機微粒子、Na2CO3を加える。バインダーとしては、ポリビニルアルコールが好適に用いられる。
次に、造粒品を800℃以上1400℃以下で、1時間以上24時間以下焼成する。更に上記範囲内で焼成温度や焼成時間を制御することが好ましい。
以上の様に焼成した粒子を解砕した後に、必要に応じて、分級や篩で篩分して粗大粒子や微粒子を除去してもよい。
(サンプルの秤量)
まず、測定するサンプルを、電極面積が4.9cm2である円筒型電極(直径2.5cm)を有するサンプルホルダに封入する。電極間に100Nの押し圧をかけたときに封入したサンプルの厚みLが0.95mm以上1.05mm以下の範囲となるように、サンプルを秤量した。
上記のサンプルホルダの電極間に図1に示すように配線を行い、サンプルホルダの電極間に100Nの押し圧をかけた状態において、サンプルホルダ内部に封入したキャリア、又はコア粒子の交流インピーダンス測定を行った。
本実施例では、Solartron社製インピーダンス測定ソフトウェアSMaRTを用いて、インピーダンスの自動測定を行った。SMaRTでは、所定の周波数fの正弦波電圧と正弦波電圧に対する応答電流から、周波数fに対する複素インピーダンス
次に、交流インピーダンス測定で得られた複素インピーダンス測定データからαを求めた方法について具体的に説明する。
=Rs+(1/R+1/((iω)αT)-1)-1
本発明のパラメータαは以下のように求めた。
磁性粒子の比抵抗は、図4に概略される測定装置を用いて測定される。なお、磁性粒子の測定には、樹脂を含有していない状態の試料を用いて測定する。
この時、試料の厚みが0.95mm以上1.04mmとなるように試料の量を適宜変えることが重要である。
比抵抗(Ω・cm)=(印加電圧(V)/測定電流(A))×S(cm2)/d(c m)電界強度(V/cm)=印加電圧(V)/d(cm)
磁性キャリア粒子の断面加工には、集束イオンビーム加工観察装置(FIB)、FB−2100(日立製作所社製)を用いた。FIB用試料台上にカーボンペーストを塗り、その上に磁性キャリア粒子を1粒子ずつ独立して存在するように少量固着させ、導電膜として白金蒸着することで試料を作製する。試料をFIB装置にセットし、加速電圧40kV、Gaイオン源を用いて、粗加工し(ビーム電流39nA)、続いて仕上げ加工(ビーム電流7nA)を行い、試料断面を削り出す。
粒度分布測定は、レーザー回折・散乱方式の粒度分布測定装置「マイクロトラックMT3300EX」(日機装社製)にて測定を行った。
SetZero時間 :10秒
測定時間 :30秒
測定回数 :10回
溶媒屈性率 :1.33
粒子屈折率 :2.42
粒子形状 :非球形
測定上限 :1408μm
測定下限 :0.243μm
測定環境 :約23℃/50%RH
SetZero時間 :10秒
測定時間 :10秒
測定回数 :1回
粒子屈折率 :1.81
粒子形状 :非球形
測定上限 :1408μm
測定下限 :0.243μm
測定環境 :約23℃/50%RH
磁性キャリアの磁化の強さは、振動磁場型磁気特性測定装置(Vibrating sample magnetometer)や直流磁化特性記録装置(B−Hトレーサー)で求めることが可能である。後述の実施例においては、振動磁場型磁気特性測定装置BHV−30(理研電子(株)製)で以下の手順で測定する。
磁性キャリアの真比重は、乾式自動密度計アキュピック1330(島津製作所社製)を用い測定する。まず、23℃/50%RHの環境に24時間放置したサンプルを5g精秤し、測定用セル(10cm3)に入れ、本体試料室に挿入する。測定は、サンプル質量を本体に入力し測定をスタートさせることにより自動測定できる。
サンプルの真比重(g/cm3)=サンプル質量(g)/サンプル体積(cm3)
低抵抗率測定器ロレスタ(三菱油化製)と粉体抵抗測定冶具を用いて、23℃、50%RH下で抵抗率を測定した。測定条件は、100MPaの圧縮下、直流電圧を100V印加して測定し、低抵抗物質の抵抗率(Ω・cm)とした。
本発明で用いられる低抵抗物質の個数平均粒径は電子顕微鏡により判定される。具体的な測定方法は、透過型電子顕微鏡(TEM)により20万倍で低抵抗物質像を撮影し、その拡大写真を測定対象として行う。任意の1000個の粒子の粒径を測定した平均値を個数平均粒径とする。
トナーの重量平均粒径(D4)は、100μmのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター Multisizer3」(登録商標、ベックマン・コールター社製)と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター Multisizer 3 Version3.51」(ベックマン・コールター社製)を用いて、実効測定チャンネル数2万5千チャンネルで測定し、測定データの解析を行い、算出した。
(1)Multisizer 3専用のガラス製250ml丸底ビーカーに前記電解水溶液約200mlを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで24回転/秒にて行う。そして、解析ソフトの「アパーチャーのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去しておく。
(2)ガラス製の100ml平底ビーカーに前記電解水溶液約30mlを入れ、この中に分散剤として「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)をイオン交換水で3質量倍に希釈した希釈液を約0.3ml加える。
(3)発振周波数50kHzの発振器2個を位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力120Wの超音波分散器「Ultrasonic Dispension System Tetora150」(日科機バイオス社製)の水槽内に所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2ml添加する。
(4)前記(2)のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
(5)前記(4)のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約10mgを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。尚、超音波分散にあたっては、水槽の水温が10℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
(6)サンプルスタンド内に設置した前記(1)の丸底ビーカーに、ピペットを用いてトナーを分散した前記(5)の電解質水溶液を滴下し、測定濃度が約5%となるように調整する。そして、測定粒子数が50000個になるまで測定を行う。
(7)測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行い、重量平均粒径(D4)を算出する。尚、専用ソフトでグラフ/体積%と設定したときの、分析/体積統計値(算術平均)画面の「平均径」が重量平均粒径(D4)である。
ピーク分子量(Mp)、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、以下のようにして測定する。
装置 :HLC8120 GPC(検出器:RI)(東ソー社製)
カラム :Shodex KF−801、802、803、804、805、80
6、807の7連(昭和電工社製)
溶離液 :テトラヒドロフラン(THF)
流速 :1.0ml/min
オーブン温度 :40.0℃
試料注入量 :0.10ml
ワックスの最大吸熱ピークのピーク温度は、示差走査熱量分析装置「Q1000」(TA Instruments社製)を用いてASTM D3418−82に準じて測定する。
工程1(秤量・混合工程):
Fe2O3 60.2質量%
MnCO3 33.9質量%
Mg(OH)2 4.8質量%
SrCO3 1.1質量%
となるようにフェライト原材料を秤量した。その後、ジルコニア(φ10mm)のボールを用いた乾式ボールミルで2時間粉砕・混合した。
粉砕・混合した後、バーナー式焼成炉を用い大気中で950℃で2時間焼成し、仮焼フェライトを作製した。フェライトの組成は、下記の通り。
(MnO)a(MgO)b(SrO)c(Fe2O3)d上記式において、a=0.39、b=0.11、c=0.01、d=0.50
クラッシャーで0.5mm程度に粉砕した後に、ジルコニア(φ10mm)のボールを用い、仮焼フェライト100質量部に対し、水を30質量部加え、湿式ボールミルで2時間粉砕した。
フェライトスラリーに、バインダーとして仮焼フェライト100質量部に対してポリビニルアルコール2.0質量部を添加し、スプレードライヤー(製造元:大川原化工機)で、約36μmの球状粒子に造粒した。
焼成雰囲気をコントロールするために、電気炉にて窒素雰囲気下(酸素濃度1.00体積%以下)で、1150℃で4時間焼成した。
凝集した粒子を解砕した後に、目開き250μmの篩で篩分して粗大粒子を除去し、多孔質の磁性粒子1を得た。
磁性粒子製造例1において、工程5の焼成温度を1150℃から1100℃に変更した以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子2を得た。
磁性粒子の製造例1において、工程3の湿式ビーズミルの粉砕時間を2時間から3時間に変更し、工程5の焼成温度を1150℃から1050℃に変更した以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子3を得た。
磁性粒子の製造例1において、工程3の湿式ボールミルのボールをジルコニアからステンレス(φ10mm)に変更し、2時間粉砕した。工程5の焼成温度を1150℃から1200℃に変更した。上記以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子4を得た。
磁性粒子製造例1において、工程5の焼成温度を1150℃から1300℃に変更した。上記以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子5を得た。
磁性粒子製造例1において、工程5の焼成雰囲気を酸素濃度0.50体積%に変更した。上記以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子6を得た。
磁性粒子製造例1において、工程1の乾式ボールミルでの粉砕時間を2時間から5時間に変更した。工程3のクラッシャーでの粉砕粒度を0.5mm程度から0.3mm程度に変更し、湿式ボールミルのボールをアルミナからステンレス(φ10mm)、粉砕時間を3時間から4時間に変更した。工程4のポリビニルアルコールの添加量を2.0質量部から1.0質量部に変更した。工程5の焼成雰囲気を酸素濃度1.00体積%に変更し、焼成温度を1150℃から1100℃に変更した。
磁性粒子製造例1において、工程5の焼成雰囲気を酸素濃度0.05体積%に変更し、焼成温度を1000℃から1300℃に変更した。上記以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、バルク状の粒子8を得た。
磁性粒子製造例1において、工程5の焼成雰囲気を酸素濃度0.05体積%に変更した。上記以外は、磁性粒子製造例1と同様にして、多孔質の磁性粒子9を得た。
樹脂液1:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
カーボンブラック(抵抗率1.0×102Ω・cm、個数平均粒径0.015μm)
2.0質量%
トルエン 79.5質量%
磁性粒子1 100質量部を万能攪拌混合機(ダルトン社製)に入れ、減圧下、80℃に加熱しながら撹拌する。続いて、樹脂液1を磁性粒子1に対し樹脂成分として10質量部になるように添加し2時間加熱を続け、溶剤を除去した。得られた試料をジュリアミキサー(徳寿工作所社製)に移し、窒素雰囲気下に200℃で2時間熱処理して、開口70μmのメッシュで分級して、充填コア粒子1を得た。
充填コア粒子1 100質量部をナウタミキサ(ホソカワミクロン社製)に投入し、さらに、樹脂液1を樹脂成分として1.0質量部になるようにナウタミキサに投入した。減圧下で70℃に加熱し、1.7s-1(100rpm)で混合し、4時間かけて溶媒除去及び塗布操作を行った。その後、得られた試料をジュリアミキサー(徳寿工作所社製)に移し、窒素雰囲気下、温度200℃で2時間熱処理した後、開口70μmのメッシュで分級して磁性キャリア1を得た。得られた磁性キャリア1のパラメータαは0.88であり、体積基準の50%粒径(D50)は、36.5μmであった。
樹脂液2:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
トルエン 79.5質量%
磁性キャリア製造例1において、工程1(樹脂充填工程)は実施せず、工程2(樹脂コート工程)では、磁性粒子2 100質量部ナウタミキサ(ホソカワミクロン社製)に投入した。さらに、樹脂液1を樹脂成分として2.0質量部になるようにナウタミキサに投入した。減圧下で70℃に加熱し、1.7s-1(100rpm)で混合し、4時間かけて溶媒除去及び塗布操作を行った。その後、得られた試料をジュリアミキサー(徳寿工作所社製)に移し、窒素雰囲気下、温度200℃で2時間熱処理した後、開口70μmのメッシュで分級して磁性キャリア3を得た。得られた磁性キャリア3のパラメータαは0.94であり、体積基準の50%粒径(D50)は、36.5μmであった。
磁性キャリア製造例1において、工程2で使用する樹脂液を、樹脂液1から樹脂2に変更し、それ以外は同様にして、磁性キャリア4を得た。得られた磁性キャリア4のパラメータαは0.90であり、体積基準の50%粒径(D50)は、36.5μmであった。
磁性キャリア製造例1において、工程1(樹脂充填工程)のみ実施し、工程2(樹脂コート工程)は実施せず、磁性キャリア5を得た。得られた磁性キャリア5のパラメータαは0.90であり、体積基準の50%粒径(D50)は、36.2μmであった。
樹脂液3:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
カーボンブラック(抵抗率1.0×102Ω・cm) 0.5質量%
TiO2(抵抗率1.0×105Ω・cm、個数平均粒径0.070μm) 1.5質量%
トルエン 79.5質量%
樹脂液4:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
カーボンブラック(抵抗率1.0×102Ω・cm、個数平均粒径0.015μm)
0.5質量%
SnO2(抵抗率1.0×103Ω・cm、個数平均粒径0.030μm) 0.5質量%
トルエン 79.5質量%
樹脂液5:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
ZnO2(抵抗率1.0×10-1Ω・cm、個数平均粒径0.060μm) 1.0質量%
トルエン 79.5質量%
樹脂液6:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
TiO2(抵抗率1.0×105Ω・cm、個数平均粒径0.070μm) 4.0質量%
トルエン 79.5質量%
樹脂液7:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
CeO2(抵抗率5.0×105Ω・cm、個数平均粒径0.150μm) 4.0質量%
トルエン 79.5質量%
磁性キャリアの製造例1において、用いる磁性粒子の種類、充填工程で使用する樹脂液の種類/数量、コート工程で使用する樹脂液の種類/数量を表2に示すように変更する以外は同様にして、磁性キャリア11乃至22を得た。得られた磁性キャリア11乃至22の物性(α、D50)を表2に示す。
樹脂液8:
ストレートシリコーン(SR2411 東レダウコーニング) 20.0質量%
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.5質量%
Al2O3(抵抗率1.0×108Ω・cm、個数平均粒径0.100μm) 1.0質量%
トルエン 79.5質量%
磁性キャリアの製造例1において、用いる磁性粒子の種類、充填工程で使用する樹脂液の種類/数量、コート工程で使用する樹脂液の種類/数量を表2に示すように変更する以外は同様にして、磁性キャリア24、25を得た。得られた磁性キャリア24、25の物性(α、D50)を表2に示す。
ポリオキシプロピレン(2.2)−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン71.0質量部、テレフタル酸28.0質量部、無水トリメリット酸1.0質量部及びチタンテトラブトキシド0.5質量部をガラス製4リットルの4つ口フラスコに入れ、温度計、撹拌棒、コンデンサー及び窒素導入管を取りつけマントルヒーター内においた。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、3時間反応せしめて結着樹脂1−1を得た。この結着樹脂1−1のGPCによる分子量は、重量平均分子量(Mw)70000、数平均分子量(Mn)3000、ピーク分子量(Mp)4000であった。
・結着樹脂1 100質量部
・フィッシャートロプシュワックス(最大吸熱ピークのピーク温度105℃) 5質量部
・3,5−ジ−t−ブチルサリチル酸アルミニウム化合物 0.5質量部
・C.I.ピグメンブルー15:3 8質量部
上記処方をヘンシェルミキサー(FM−75型、三井三池化工機(株)製)で混合した後、温度150℃に設定した二軸混練機(PCM−30型、池貝鉄工(株)製)にて回転数3.3s-1で混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて1mm以下に粗粉砕し、粗砕物を得た。得られた粗砕物を、機械式粉砕機(T−250、ターボ工業(株)製)にて微粉砕した。さらに回転型分級機(200TSP、ホソカワミクロン社製)を用い分級を行い、トナー粒子1を得た。得られたトナー粒子1は、重量平均粒径(D4)が5.8μmであった。
磁性キャリア1とトナー1を用い、上記、トナー1 10質量部と磁性キャリア1 90質量部をV型混合機により混合し、二成分系現像剤1を得た。
画像形成装置として、キヤノン製フルカラー複写機imagePress C1改造機を用い、上記二成分現像剤1を、シアン位置の現像器に上記現像剤を入れ、評価を行った。
画像のトナーの載り量を0.4mg/cm2となるように現像電圧を初期調整した。X−Riteカラー反射濃度計(500シリーズ:X−Rite社製)を使用し、画像濃度を測定した。耐久初期(1枚目)および5万枚後の画像濃度の差を以下の基準で評価とした。
A:0.05未満 非常に優れている
B:0.05以上0.10未満 良好である
C:0.10以上0.20未満 本発明では問題ないレベルである
D:0.20以上 本発明では許容できない
1画素を1ドットで形成するドット画像を作成した。即ち、紙状の1ドットあたりの面積が、20000μm2以上25000μm2以下となるように、上記改造器のレーザービームのスポット径を調整した。デジタルマイクロスコープVHX−500(レンズワイドレンジズームレンズVH−Z100・キーエンス社製)を用い、ドット1000個の面積を測定した。
(式):ドット再現性指数(I)=σ/S×100
A:4.0未満 非常に優れている
B:4.0以上6.0未満 良好である
C:6.0以上8.0未満 本発明では問題ないレベルである
D:8.0以上 本発明では許容できない
白抜けの評価は、白抜け指数を算出することにより行った。
A:50未満 非常に優れている
B:50以上200未満 良好である
C:200以上400未満 本発明では問題ないレベルである
D:400以上 本発明では許容できない
紙上にハーフトーン画像(30H)を形成し、そのハーフトーン画像上1cm2の領域内において、光学顕微鏡で、キャリアの存在個数をカウントする。
A:5個未満 非常に優れている
B:5個以上10個未満 良好である
C:10個以上20個未満 本発明では問題ないレベルである
D:20個以上 本発明では許容できない
実施例1において、下記表3に示す二成分系現像剤に変更し、それ以外は同様にして評価を行った。表4に評価結果を示す。
Claims (5)
- 多孔質磁性粒子と樹脂を少なくとも含有する磁性キャリア粒子を有する磁性キャリアであって、
少なくとも前記樹脂は低抵抗物質を含有し、前記低抵抗物質の抵抗率が、1.0×10-2Ω・cm以上1.0×106Ω・cm以下であり、
前記多孔質磁性粒子の1×103V/cmの電界強度における抵抗率が、1.0×107Ω・cm以上1.0×1010Ω・cm以下であり、
交流インピーダンス測定により得られるインピーダンスZの周波数依存特性を、下記(1)式で表されるフィッティング関数により、フィッティングしたときのパラメータαが、電界強度1×103V/cmにおいて、0.85以上0.95以下であることを特徴とする磁性キャリア。
Re[Z(ω)]はインピーダンスの実部
Im[Z(ω)]はインピーダンスの虚部
iは、虚数単位
ωは、角周波数
Rs、R、T、αは、Cole−Coleの式によるフィッティングで算出されるパラメーター) - 前記低抵抗物質が、カーボンブラック、SnO2、ZnO、TiO2、CeO2から選ばれる1種類以上であることを特徴とする請求項1に記載の磁性キャリア。
- 前記磁性キャリア粒子が、前記多孔質磁性粒子の細孔に前記低抵抗物質を含有する樹脂が充填されている粒子であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁性キャリア。
- 前記磁性キャリア粒子が、前記低抵抗物質を含有する樹脂が表面に被覆した粒子であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の磁性キャリア。
- トナーと磁性キャリアとを少なくとも含有する二成分系現像剤において、前記磁性キャリアは、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁性キャリアであることを特徴とする二成分系現像剤。
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