JP2011142098A - 対称および/または同心円の無線周波数整合回路網のための方法および装置 - Google Patents
対称および/または同心円の無線周波数整合回路網のための方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011142098A JP2011142098A JP2011034084A JP2011034084A JP2011142098A JP 2011142098 A JP2011142098 A JP 2011142098A JP 2011034084 A JP2011034084 A JP 2011034084A JP 2011034084 A JP2011034084 A JP 2011034084A JP 2011142098 A JP2011142098 A JP 2011142098A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- components
- axis
- connector
- matching network
- capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
- H01P5/04—Coupling devices of the waveguide type with variable factor of coupling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
- H01J37/32183—Matching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P11/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Arrangements For Transmission Of Measured Signals (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】第1の縦軸を有する第1のコネクタ202と、第2の縦軸を有する第2のコネクタ228と、1つ以上のコンポーネント204を含むコンポーネントアセンブリと、を備え、コンポーネント204の少なくとも1つが、第1のコネクタ202に結合され、コンポーネント204の少なくとも1つが、第2のコネクタ228に結合され、1つ以上のコンポーネント204が、第3の軸を中心にして対称に配置され、さらに、冷却流体がコンポーネント204に均等に供給される、流体冷却手段218を備え、かつコンポーネント204がキャパシタである。
【選択図】図4
Description
なぜなら、RF電流は、コンポーネントのそれぞれに均一に分配されるからである。これは、ホットスポットが発生する可能性を減少させ、それによって、より少ないかつそれほど高価ではないコンポーネントを含むことを可能にする。
さらに、同調キャパシタ222が、入力コア202と出力ディスク228との間に配置され、かつ、それらを結合する。入力コア202は、RF供給システム305の電気的に励振される導体に結合される。入力接地フランジ206は、RF供給システムの接地された部分に結合される。さらに、この図面には、冷却液の入力および出力が描かれ、それらの入力および出力は、外部流体チャンネル218A〜218D(6つのうち4つしか示されない)に結合される。
ボルト208Aの外径は、入力接地フランジ206または入力コア202の貫通孔よりもかなり小さい寸法を有するので、流体貯蔵器214Aが、形成される。さらに、同調キャパシタ222および負荷キャパシタ204の端部は、キャパシタのそれぞれの端部にへこみを提供することによって、流体循環のためのさらなる空間を作ってもよい。あるいは、O−リング212A〜212Fは、ボルトがしっかりと締められているときにO−リングを所定の場所に保持するように形成された溝の中に設置されてもよい。平坦なチェムレッツ型(chemrez)O−リング、ニッケル黄銅単一圧縮ディスク、または、その他のこのような実施形態のような別の形態のシーリングが、シールを形成するのに採用されてもよい。それぞれの負荷キャパシタ204の近くの流体貯蔵器214Aは、入力接地フランジの中に機械加工または形成されてもよい流体チャンネル216を介して、お互いに流体連絡する状態にある。流体チャンネル216は、それぞれの流体貯蔵器214A、214B、または、214Cを連絡するように配列され、冷却流体がすべてのキャパシタに均等に供給されることを保証し、それによって、ホットスポットの形成を防止する。この実施形態における配列は、すべての流体貯蔵器214Aまたは214Bまたは214Cを接続する流体チャンネル216からなる同心円のループである。流体チャンネルからなるスポークおよび車輪の配列のような、あるいは、それぞれの流体貯蔵器または貯蔵器のそれぞれの組を接続する銅管のような入力コアまたは入力接地フランジの外に存在するその他の連絡チャンネルのような、代替の配列が実施されてもよい。あるいは、流体貯蔵器は、同心円状および/または対称に配列された冷却ループと置き換えられてもよく、その冷却ループは、入力コア202および入力接地フランジ206に取り付けられてもよい。そのような実施形態は、はんだ付け、接着剤、その他のそのような接続および/または接着方法のような技術を使用することによって、整合アセンブリのコストを減少させることができる。あるいは、RF整合回路300を冷却するために、入力コア202および入力接地フランジ206からなるハブ構造およびスポーク構造の組み合わせが、空気を流し込むことまたはその他の非内蔵流体に浸けることとともに採用され、それによって、コストを減少させてもよい。内蔵流体および非内蔵流体の様々な組み合わせが、コストと設計目標とを最適に譲歩させるのに採用されてもよい。脱イオン水が、冷却流体として使用される。
しかしながら、その他の流体が、採用されてもよい。脱イオン水のアースとの高いインピーダンスのために、脱イオン水が選択されてもよく、それによって、回路の電気的に励起された部分が、流体連絡によって、入力接地フランジ206のようなアースから電気的に分離された状態のままであることを保証する。
同軸ケーブルへの同軸接続または出力ディスク228にボルトで留められた単純な銅ケーブルのようなその他の接続手段が採用されてもよい。出力ディスク228は、可変インピーダンス負荷302に接続されるので、RF整合回路網300のRF発生器側においては有益である電気的な対称性を提供するために、対称な形状を維持しなくてもよい。しかしながら、出力ディスク228に接続する方法は、大きな接触面およびしっかりとした締結を提供するほどに堅牢なものであってもよい。なぜなら、処理チャンバへの電流経路は、このコネクタを流れるように制限されるからである。さらに、この接続を冷却する方法が、提供されてもよい。
負荷キャパシタ204は、ボルト208A(図6)によって、入力接地フランジ206’に接続される。入力接地フランジ206’は、アースに直接に結合することによって、電気的なアースであってもよく、あるいは、RF供給システムの接地されたコネクタを介して、電気的なアースの近傍に存在してもよい。同調キャパシタ222は、ボルト208Bによって、出力ディスク228’に接続される。出力ディスク228’は、電気的に励起されてもよく、RF電流をRF整合回路網500からバスバー229を介して可変インピーダンス負荷へ流す。
負荷キャパシタ204は、ボルト208Bによって、入力接地フランジ206’に結合される。入力コア202は、ねじ込みボルト224によって、同調キャパシタ222に結合される。同調キャパシタ222は、ボルト208Bによって、出力ディスク228’に結合される。出力ディスク228は、バスバー接続229(図5)によって、可変インピーダンス負荷(例えば、処理チャンバ)に結合される。
入力接地フランジ冷却ループ330A、入力コア冷却ループ330B、および出力ディスク冷却ループ330Cは、冷却流体(例えば、脱イオン水)の外部供給源に接続されてもよい。それぞれは、それぞれの冷却ループごとの2つのコネクタを介して、冷却流体(例えば、脱イオン水)の供給源および排出路に個々に接続されてもよい。入力接地フランジ冷却ループ330Aは、コネクタ320Aおよび320Eによって接続されてもよい。入力コア冷却ループ330Bは、コネクタ320Fおよび320Dによって接続されてもよく、また、出力ディスク冷却330Cは、コネクタ320Bおよび320Cによって接続されてもよい。コネクタ対における2つのコネクタのうち一方は、冷却流体を供給するためのものである。他方のコネクタは、冷却流体を戻すためのものである。それによって、流体をそれぞれの入力接地フランジ冷却ループ330A、入力コア冷却ループ330B、および出力ディスク冷却ループ330Cに循環させることができる。この実施例としての実施形態においては、入力接地フランジ冷却ループ330A、入力コア冷却ループ330B、および出力ディスク冷却ループ330Cに使用される材料は、銅であってもよい。しかしながら、実施可能ないかなる材料も、冷却流体を循環させることのできる内蔵経路を提供するのに使用することができる。そのような材料は、例えば、ステンレス鋼またはアルミニウムを含んでもよい。さらに、アレイ状の管または機械加工された表面におけるサンドイッチ格子状の孔のような様々な材料およびジオメトリーが、冷却ループに採用されてもよい。
Claims (25)
- 装置であって、
第1の縦軸を有する第1のコネクタと、
第2の縦軸を有する第2のコネクタと、
1つ以上のコンポーネントを含むコンポーネントアセンブリと、
を備え、
コンポーネントの少なくとも1つが、第1のコネクタに結合され、コンポーネントの少なくとも1つが、第2のコネクタに結合され、
1つ以上のコンポーネントが、第3の軸を中心にして対称に配置された、
装置。 - 第3の軸が、第1の縦軸および第2の縦軸と実質的に同一の直線上にある、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントが、第3の軸を中心にして同心円状に配置された、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントが、第3の軸を中心にして等距離に配置された、請求項1に記載の装置。
- コンポーネントが、RF整合回路網の同調コンポーネントおよび負荷コンポーネントである、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、キャパシタである、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、インダクタである、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、抵抗である、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、可変インピーダンスコンポーネントである、請求項1に記載の装置。
- 1つ以上のコンポーネントを含むコンポーネントアセンブリが、電流ホットスポットの形成を防止するように適合された、請求項1に記載の装置。
- システムであって、
RF電力発生器と、
電気的な負荷と、
電気的な負荷および電力発生器に結合されたRF整合回路網と、
を備え、
RF整合回路網が、軸を中心にして対称に配置された1つ以上のコンポーネントを含む、
システム。 - 1つ以上のコンポーネントが、軸を中心にして同心円状に配置された、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントが、軸を中心にして等距離に配置された、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントが、RF整合回路網の同調コンポーネントおよび負荷コンポーネントである、請求項1に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、キャパシタである、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、インダクタである、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、抵抗である、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つが、可変インピーダンスコンポーネントである、請求項11に記載のシステム。
- 1つ以上のコンポーネントを含むRF整合回路網が、電流ホットスポットの形成を防止するように配置された、請求項11に記載のシステム。
- 第1の軸を有する第1のコネクタにおいてRFエネルギーを受け取るステップと、
第1のコネクタにおいて受け取られたRFエネルギーを、第2の軸を中心にして対称に配置された1つ以上のコンポーネントを有するRF整合回路網に結合するステップと、
RF整合回路網におけるRFエネルギーを、第3の軸を有する第2のコネクタに結合するステップと、 RFエネルギーが第2のコネクタから反射されるのを防止するステップと、
を備える方法。 - RFエネルギーの反射を防止するステップが、実質的に同一の直線上に配列された状態で第1の軸、第2の軸、および第3の軸を整列させる工程を含む、請求項20に記載の方法。
- 第2のコネクタからRFエネルギーが反射されるのを防止するステップが、RFエネルギーの周波数を変える工程を含む、請求項20に記載の方法。
- 第2のコネクタからRFエネルギーが反射されるのを防止するステップが、1つ以上のコンポーネントの少なくとも1つのインピーダンスを変える工程を含む、請求項20に記載の方法。
- 第1のコネクタにおけるRFエネルギーを、第2の軸を中心にして対称に配置された1つ以上のコンポーネントを有するRF整合回路網に結合するステップが、ホットスポットの形成を防止する工程を含む、請求項20に記載の方法。
- RF整合回路網におけるRFエネルギーを第2のコネクタに結合するステップが、ホットスポットの形成を防止する工程を含む、請求項20に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US71219005P | 2005-08-29 | 2005-08-29 | |
US60/712190 | 2005-08-29 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232421A Division JP2007068179A (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-29 | 対称および/または同心円の無線周波数整合回路網のための方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011142098A true JP2011142098A (ja) | 2011-07-21 |
JP5654894B2 JP5654894B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=37496051
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232421A Withdrawn JP2007068179A (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-29 | 対称および/または同心円の無線周波数整合回路網のための方法および装置 |
JP2011034084A Active JP5654894B2 (ja) | 2005-08-29 | 2011-02-21 | 無線周波数整合装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232421A Withdrawn JP2007068179A (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-29 | 対称および/または同心円の無線周波数整合回路網のための方法および装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7518466B2 (ja) |
EP (1) | EP1760881A3 (ja) |
JP (2) | JP2007068179A (ja) |
KR (1) | KR100829650B1 (ja) |
CN (2) | CN1925322B (ja) |
TW (1) | TWI323954B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017531282A (ja) * | 2014-08-15 | 2017-10-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマ処理システム用のコンパクトな構成可能なモジュール式高周波整合ネットワークアセンブリ |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8236144B2 (en) * | 2007-09-21 | 2012-08-07 | Rf Thummim Technologies, Inc. | Method and apparatus for multiple resonant structure process and reaction chamber |
US8834684B2 (en) | 2009-04-14 | 2014-09-16 | Rf Thummin Technologies, Inc. | Method and apparatus for excitation of resonances in molecules |
US8508057B2 (en) * | 2009-08-03 | 2013-08-13 | David J. Schulte | Power generator |
US8203224B2 (en) * | 2009-08-03 | 2012-06-19 | Schulte David J | Power generator |
WO2011116187A1 (en) | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Rf Thummim Technologies, Inc. | Method and apparatus for electromagnetically producing a disturbance in a medium with simultaneous resonance of acoustic waves created by the disturbance |
US9082589B2 (en) * | 2012-10-09 | 2015-07-14 | Novellus Systems, Inc. | Hybrid impedance matching for inductively coupled plasma system |
US9496122B1 (en) | 2014-01-10 | 2016-11-15 | Reno Technologies, Inc. | Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same |
US9844127B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-12-12 | Reno Technologies, Inc. | High voltage switching circuit |
US10455729B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-22 | Reno Technologies, Inc. | Enclosure cooling system |
US9697991B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-07-04 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9196459B2 (en) | 2014-01-10 | 2015-11-24 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9755641B1 (en) | 2014-01-10 | 2017-09-05 | Reno Technologies, Inc. | High speed high voltage switching circuit |
US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US9865432B1 (en) | 2014-01-10 | 2018-01-09 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9525412B2 (en) | 2015-02-18 | 2016-12-20 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US9306533B1 (en) | 2015-02-20 | 2016-04-05 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9729122B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-08-08 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US11017983B2 (en) | 2015-02-18 | 2021-05-25 | Reno Technologies, Inc. | RF power amplifier |
US10340879B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-07-02 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US10692699B2 (en) | 2015-06-29 | 2020-06-23 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with restricted capacitor switching |
US10984986B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-04-20 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11150283B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-10-19 | Reno Technologies, Inc. | Amplitude and phase detection circuit |
US11335540B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-17 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11342160B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Filter for impedance matching |
US11342161B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit with voltage bias |
US11081316B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-08-03 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
CN106028615B (zh) * | 2016-08-03 | 2018-03-30 | 南京工业大学 | 一种大面积低温等离子体发生装置 |
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
US11315758B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-04-26 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching using electronically variable capacitance and frequency considerations |
US11393659B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-19 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10714314B1 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-14 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10483090B2 (en) | 2017-07-10 | 2019-11-19 | Reno Technologies, Inc. | Restricted capacitor switching |
US11289307B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-03-29 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11398370B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-26 | Reno Technologies, Inc. | Semiconductor manufacturing using artificial intelligence |
US11114280B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-09-07 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with multi-level power setpoint |
US11101110B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-08-24 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10727029B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-28 | Reno Technologies, Inc | Impedance matching using independent capacitance and frequency control |
US11521833B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Combined RF generator and RF solid-state matching network |
US10903811B2 (en) * | 2017-08-18 | 2021-01-26 | Avx Corporation | Coaxial RF filter with discoidal capacitor |
CN108617073B (zh) * | 2018-05-10 | 2020-08-14 | 武汉市福志成科技有限责任公司 | 一种带自补偿功能的射频匹配箱 |
US11538662B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-12-27 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method with reduced memory requirements |
CN114762079A (zh) | 2019-12-02 | 2022-07-15 | 朗姆研究公司 | 射频辅助等离子体生成中的阻抗变换 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4981858A (ja) * | 1972-12-15 | 1974-08-07 | ||
JPS4937163Y1 (ja) * | 1970-07-24 | 1974-10-11 | ||
JPS5866520U (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-06 | 株式会社東芝 | 電圧分担装置 |
JPH04301908A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 高周波インピ−ダンス整合回路 |
JPH05198390A (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-06 | Jeol Ltd | 高周波プラズマ装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5383019A (en) | 1990-03-23 | 1995-01-17 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
US5392018A (en) | 1991-06-27 | 1995-02-21 | Applied Materials, Inc. | Electronically tuned matching networks using adjustable inductance elements and resonant tank circuits |
US6616767B2 (en) | 1997-02-12 | 2003-09-09 | Applied Materials, Inc. | High temperature ceramic heater assembly with RF capability |
TW434636B (en) | 1998-07-13 | 2001-05-16 | Applied Komatsu Technology Inc | RF matching network with distributed outputs |
FR2794308A1 (fr) | 1999-05-28 | 2000-12-01 | Thomson Csf | Circuit d'adaptation d'impedance pour amplificateur |
TW492041B (en) | 2000-02-14 | 2002-06-21 | Tokyo Electron Ltd | Method and device for attenuating harmonics in semiconductor plasma processing systems |
TW502264B (en) * | 2000-08-26 | 2002-09-11 | Samsung Electronics Co Ltd | RF matching unit |
EP1237189A1 (en) | 2001-02-28 | 2002-09-04 | Motorola, Inc. | Arrangement and method for impedance matching |
JP3960808B2 (ja) * | 2001-03-01 | 2007-08-15 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス整合器 |
KR100444189B1 (ko) | 2001-03-19 | 2004-08-18 | 주성엔지니어링(주) | 유도결합 플라즈마 소스의 임피던스 정합 회로 |
US6855225B1 (en) | 2002-06-25 | 2005-02-15 | Novellus Systems, Inc. | Single-tube interlaced inductively coupling plasma source |
-
2006
- 2006-08-21 US US11/507,649 patent/US7518466B2/en active Active
- 2006-08-22 TW TW095130873A patent/TWI323954B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-08-28 EP EP06017886A patent/EP1760881A3/en not_active Withdrawn
- 2006-08-29 JP JP2006232421A patent/JP2007068179A/ja not_active Withdrawn
- 2006-08-29 CN CN200610112258.6A patent/CN1925322B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-08-29 KR KR1020060082193A patent/KR100829650B1/ko active IP Right Grant
- 2006-08-29 CN CN201410374298.2A patent/CN104319221B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-02-21 JP JP2011034084A patent/JP5654894B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4937163Y1 (ja) * | 1970-07-24 | 1974-10-11 | ||
JPS4981858A (ja) * | 1972-12-15 | 1974-08-07 | ||
JPS5866520U (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-06 | 株式会社東芝 | 電圧分担装置 |
JPH04301908A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 高周波インピ−ダンス整合回路 |
JPH05198390A (ja) * | 1992-01-22 | 1993-08-06 | Jeol Ltd | 高周波プラズマ装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017531282A (ja) * | 2014-08-15 | 2017-10-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマ処理システム用のコンパクトな構成可能なモジュール式高周波整合ネットワークアセンブリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1925322B (zh) | 2014-07-30 |
TW200715640A (en) | 2007-04-16 |
EP1760881A3 (en) | 2007-03-28 |
KR20070026093A (ko) | 2007-03-08 |
JP2007068179A (ja) | 2007-03-15 |
JP5654894B2 (ja) | 2015-01-14 |
US20070046391A1 (en) | 2007-03-01 |
CN1925322A (zh) | 2007-03-07 |
CN104319221B (zh) | 2017-08-04 |
EP1760881A2 (en) | 2007-03-07 |
CN104319221A (zh) | 2015-01-28 |
TWI323954B (en) | 2010-04-21 |
US7518466B2 (en) | 2009-04-14 |
KR100829650B1 (ko) | 2008-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5654894B2 (ja) | 無線周波数整合装置 | |
CN105122951B (zh) | 使用介质谐振器的等离子体发生器 | |
US20230197406A1 (en) | Symmetric vhf source for a plasma reactor | |
US6841943B2 (en) | Plasma processor with electrode simultaneously responsive to plural frequencies | |
US8334657B2 (en) | RF matching network of a vacuum processing chamber and corresponding configuration methods | |
CN107887241B (zh) | 磁控管 | |
US7163603B2 (en) | Plasma source assembly and method of manufacture | |
TW201448108A (zh) | 用於電漿處理腔室的多重區域加熱及冷卻靜電夾盤 | |
US8265116B2 (en) | Hermetically-sealed RF feed-through with integrated capacitor | |
JP2010199421A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法 | |
US20230170663A1 (en) | Radio Frequency Slab Laser | |
JP2003017476A (ja) | 半導体製造装置用の冷却装置と同冷却装置を備えたプラズマエッチング装置 | |
JP6872935B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP2006032821A (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR20000006505A (ko) | 고주파결합기및플라즈마를처리하는장치및방법 | |
JP2004273638A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3070718B2 (ja) | 複数段ワーク用加熱コイル | |
CN114962197A (zh) | 一种具有冷却功能的螺旋波等离子体源稳态放电装置 | |
JPH02114523A (ja) | 半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110303 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130425 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130501 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130719 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141028 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5654894 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |