JP2011132367A - 樹脂組成物及び積層構造体 - Google Patents

樹脂組成物及び積層構造体 Download PDF

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Abstract

【課題】簡便にかつ低いコストで製膜できる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂組成物は、重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、ラジカル発生剤(B)と、熱伝導率が10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度が3.1以上である第1の無機フィラー(C)と、該第1の無機フィラー(C)とは異なる第2のフィラー(D)とを含有する。上記第2のフィラー(D)は、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種である。上記樹脂組成物は、25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・s、かつ25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値が1〜3である。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば、電気機器及び通信機器などにおいて、絶縁層を形成するために用いることができる樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた積層構造体に関する。
近年、電気機器の小型化及び高性能化が進行している。これに伴って、電子部品の実装密度が高くなってきており、電子部品から発生する熱を放散させる必要が高まっている。熱を放散させる方法として、高い放熱性を有し、かつ熱伝導率が10W/m・K以上であるアルミニウム等の熱伝導体を、発熱源に接着する方法が広く採用されている。この熱伝導体を発熱源に接着するために、ペースト状の樹脂組成物又は樹脂シートが用いられている。
上記樹脂組成物の一例として、下記の特許文献1には、溶剤と無機フィラー又は有機フィラーとを含む溶液に、溶剤とエポキシ樹脂と添加剤とを含む溶液を添加した樹脂組成物が開示されている。この樹脂組成物はチキソトロピー性を有する。この樹脂組成物は、スクリーン印刷機、ディスペンサー又はスピンコーターなどを用いて塗布される。
特開2005−255936号公報
特許文献1に記載の樹脂組成物をスクリーン印刷した場合には、スクリーン印刷版が劣化しやすく、スクリーン印刷版の使用寿命が短いという問題がある。さらに、上記樹脂組成物の溶剤の含有量は多いため、溶剤を除去するための乾燥工程を必要とする。
ペースト状の樹脂組成物ではなく樹脂シートを用いる場合には、樹脂層の形成領域に対応した大きさに樹脂シートを予め切断しなければならないことがある。さらに、上記樹脂シートは一般的に、樹脂組成物が完全に硬化しない程度に、樹脂組成物を仮硬化させて形成されている。従って、樹脂シートを得るために、樹脂組成物を仮硬化させる必要がある。従って、ペースト状の樹脂組成物の場合と比較して、樹脂シートの作製に手間がかかり、樹脂シートのコストが高くなる。
本発明の目的は、簡便にかつ低いコストで製膜できる樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた積層構造体を提供することである。
本発明の限定的な目的は、溶剤の使用量を少なくすることができる樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた積層構造体を提供することである。
本発明の広い局面によれば、重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、ラジカル発生剤(B)と、熱伝導率が10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度が3.1以上である第1の無機フィラー(C)と、上記第1の無機フィラー(C)とは異なる第2のフィラー(D)とを含有し、上記第2のフィラー(D)が、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種であり、25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・sであり、かつ25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値が1〜3である、樹脂組成物が提供される。
本発明に係る樹脂組成物は、溶剤を含有しないか、又は溶剤を5重量%以下含有することが好ましい。
樹脂組成物100体積%中、上記第1の無機フィラー(C)の含有量が30〜80体積%、かつ上記第2のフィラー(D)の含有量が1〜40体積%であり、上記第2のフィラー(D)が上記有機フィラー(D1)を含む場合には、樹脂組成物100体積%中、上記有機フィラー(D1)の含有量が3〜40体積%であることが好ましい。
本発明に係る樹脂組成物のある特定の局面では、上記第1の無機フィラー(C)は、破砕フィラーを含む。
上記第1の無機フィラー(C)の最大粒子径は35μm以下であることが好ましい。上記第1の無機フィラー(C)は、アルミナ、合成マグネサイト、結晶性シリカ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。
本発明に係る樹脂組成物の他の特定の局面では、上記第2のフィラー(D)が上記第2の無機フィラー(D2)であり、上記第1の無機フィラー(C)及び上記第2の無機フィラー(D2)が、下記式(X)を満たす。
[{(第1の無機フィラー(C)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第1の無機フィラー(C)の含有量(体積%))}+{(第2の無機フィラー(D2)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第2の無機フィラー(D2)の含有量(体積%))}]<6 ・・・式(X)
上記第2の無機フィラー(D2)は、珪藻土、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン、クレー及びマイカからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。
上記ラジカル重合性化合物(A)は、25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。樹脂組成物100重量%中、上記ラジカル重合性化合物(A)の含有量は3〜40重量%であることが好ましい。上記ラジカル重合性化合物(A)は、(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種を含むことが好ましい。
上記ラジカル発生剤(B)は、光ラジカル発生剤又は10時間半減期温度が50℃以下である熱ラジカル発生剤であることが好ましい。
本発明に係る樹脂組成物は、pKa2〜10の官能基を有する分散剤(E)をさらに含有することが好ましい。さらに、本発明に係る樹脂組成物は、カップリング剤(F)をさらに含有することが好ましい。
本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体と、該熱伝導体の少なくとも一方の面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体が積層された面とは反対側の面に積層された導電層とを備えており、上記絶縁層が、本発明に従って構成された樹脂組成物を硬化させることにより形成されている。
本発明に係る積層構造体では、上記熱伝導体は金属であることが好ましい。
本発明に係る樹脂組成物は、重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、ラジカル発生剤(B)と、熱伝導率が10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度が3.1以上である第1の無機フィラー(C)と、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種である第2のフィラー(D)を含有し、更に25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・s、かつ25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値が1〜3であるので、スクリーン印刷などの各種の塗工方法によって樹脂組成物を塗工した後、硬化させることにより、簡便に製膜できる。さらに、スクリーン印刷により樹脂組成物を塗工する場合には、スクリーン印刷版が劣化し難いので、低いコストで製膜できる。
さらに、本発明に係る樹脂組成物では、溶剤を用いなくてもよく、一方で溶剤を用いる場合でも、溶剤の使用量を少なくすることができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。
以下、本発明の詳細を説明する。
本発明に係る樹脂組成物は、重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、ラジカル発生剤(B)と、第1の無機フィラー(C)と、上記第1の無機フィラー(C)とは異なる第2のフィラー(D)を含有する。上記第1の無機フィラー(C)の熱伝導率は10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度は3.1以上である。上記第2のフィラー(D)は、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種である。本発明に係る樹脂組成物は、25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・s、かつ25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値が1〜3である。
上記組成を採用し、かつ樹脂組成物の粘度を上記のように制御することにより、樹脂組成物の塗工性を高めることができる。例えば、スクリーン印刷などの各種の塗工方法によって樹脂組成物を精度よく、簡便に塗工できる。樹脂組成物が有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種を含むので、スクリーン印刷版の劣化を抑制でき、スクリーン印刷版の使用寿命を長くすることができる。スクリーン印刷版の使用寿命が長いので、低いコストで製膜できる。
さらに、本発明に係る樹脂組成物の使用により、樹脂組成物が溶剤を含有しないか、又は溶剤を5重量%以下で含有する場合でも、言い換えれば樹脂組成物が溶剤を5重量%を超えて含有していなくても、樹脂組成物を精度よく塗工できる。溶剤の含有量が少ないと、溶剤を除去するための乾燥工程を必要としなかったり、乾燥に必要な熱量を少なくしたりすることができる。また、溶剤の含有量が少ないと、硬化時の溶剤の揮発量が少なくなり、環境負荷を低減できる。さらに、樹脂組成物の取扱い性を高めることができる。
また、ペースト状の樹脂組成物ではなく樹脂シートを用いる場合のように、絶縁層の形成領域に対応した大きさに樹脂シートを予め切断する必要がない。さらに、マスク等を用いて、必要な箇所のみに樹脂組成物を塗布できる。加えて、樹脂シートを得るための仮硬化工程なども必要としないので、樹脂シートの場合と比較して、樹脂組成物のコストを低くすることができる。
(ラジカル重合性化合物(A))
本発明に係る樹脂組成物に含まれているラジカル重合性化合物(A)は、重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するものであれば特に限定されない。ラジカル重合性化合物(A)は、ラジカル重合可能である。ラジカル重合性化合物(A)は、ラジカル発生剤(B)の作用により重合する。ラジカル重合性化合物(A)の重合により、樹脂組成物を硬化させることができる。ラジカル重合性化合物(A)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
ラジカル重合性化合物(A)の具体例としては、(メタ)アクリルモノマー、スチレンモノマー、及び(メタ)アクリルアミドモノマー等が挙げられる。ラジカル重合性化合物(A)は、(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種を含むことが好ましい。ラジカル重合性化合物(A)100重量%中、(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種の含有量は5〜100重量%の範囲内であることが好ましい。ラジカル重合性化合物(A)は、(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種であることがより好ましい。(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種の使用により、硬化物の硬化性をより一層高めることができる。上記(メタ)アクリルモノマーは、(メタ)アクリロイル基を有するモノマーである。上記スチレンモノマーは、スチレン骨格を有するモノマーである。
ラジカル重合性化合物(A)は、25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。ラジカル重合性化合物(A)100重量%中、25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物の含有量は5〜100重量%の範囲内であることが好ましい。ラジカル重合性化合物(A)は、25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物であることがより好ましい。25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物の使用により、より一層簡便にかつ低いコストで製膜できる。
樹脂組成物100重量%中、ラジカル重合性化合物(A)の含有量は3〜40重量%の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物100重量%中のラジカル重合性化合物(A)の含有量のより好ましい下限は5重量%、より好ましい上限は30重量%である。ラジカル重合性化合物(A)の含有量が上記好ましい下限を満たすと、樹脂組成物の印刷性及び硬化性をより一層高めることができる。ラジカル重合性化合物(A)の含有量が上記好ましい上限を満たすと、印刷後の形状保持性をより一層高めることができる。
(ラジカル発生剤(B))
本発明に係る樹脂組成物に含まれているラジカル発生剤(B)は、ラジカル重合性化合物(A)を重合させるために用いられている。ラジカル発生剤(B)は光の照射又は熱の付与により活性化し、ラジカル重合性化合物(A)を重合させる。ラジカル発生剤(B)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
ラジカル発生剤(B)としては、光ラジカル発生剤(B1)及び熱ラジカル発生剤(B2)等が挙げられる。なかでも、光ラジカル発生剤(B1)が好ましい。光ラジカル発生剤(B1)の使用により、光の照射により樹脂組成物を硬化させることができ、樹脂組成物に付与する熱量を少なくすることができる。
光ラジカル発生剤(B1)としては、特に限定されず、例えば、アセトフェノン誘導体化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、ハロゲン化ケトン、アシルフォスフィンオキシド、アシルフォスフォナート、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス(η5−シクロペンタジエニル)ビス(ペンタフルオロフェニル)チタニウム、ビス(η5−シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム、アントラセン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ベンズアントラセン、フェノチアジン、フラビン、アクリジン、ケトクマリン、チオキサントン誘導体、ベンゾフェノン、アセトフェノン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン及びイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
上記アセトフェノン誘導体化合物としては、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン及び2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等が挙げられる。上記ベンゾインエーテル系化合物としては、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインプロピルエーテル等が挙げられる。上記ケタール誘導体化合物としては、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
ラジカル重合性化合物(A)を効率的に重合させる観点からは、光ラジカル発生剤(B1)は、ベンゾフェノン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン又はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
熱ラジカル発生剤(B2)としては、特に限定されず、有機過酸化物及びアゾ化合物等が挙げられる。
上記有機過酸化物としては、例えば、ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、ケトンパーオキサイド類、パーオキシケタール類、ジアシルパーオキサイド類、パーオキシジカーボネート類及びパーオキシエステル類等が挙げられる。
上記ハイドロパーオキサイド類としては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、tert−ヘキシルハイドロパーオキサイド及びtert−ブチルハイドロパーオキサイド等が挙げられる。上記ジアルキルパーオキサイド類としては、α,α’−ビス(tert−ブチルペルオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、ジキュミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルキュミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキシド及び2,5−ジメチル−2,5−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等が挙げられる。
上記アゾ化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−シクロプロピルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等が挙げられる。
ラジカル重合性化合物(A)を効率的に重合させる観点からは、熱ラジカル発生剤(B2)は、ジイソブチリルパーオキサイド、クミルパーオキシネオデカノエート又はジ−n−プロピルパーオキシジカーボネートであることが好ましい。
熱ラジカル発生剤(B2)の10時間半減期温度は、50℃以下であることが好ましい。この場合には、長期保存安定性をより一層高めることができる。上記「10時間半減期温度」とは、熱ラジカル発生剤(B2)の半減期が10時間となる分解温度を示す。
樹脂組成物100重量%中、ラジカル発生剤(B)の含有量は0.01〜20重量%の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物100重量%中のラジカル発生剤(B)の含有量のより好ましい下限は0.05重量%、より好ましい上限は10重量%である。ラジカル発生剤(B)の含有量が上記好ましい下限を満たすと、樹脂組成物の硬化性をより一層高めることができる。ラジカル発生剤(B)の含有量が上記好ましい上限を満たすと、樹脂組成物の長期保存安定性をより一層高めることができる。
(第1の無機フィラー(C))
本発明に係る樹脂組成物に含まれている第1の無機フィラー(C)は、新モース硬度が3.1以上であるので、新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)とは異なる。第1の無機フィラー(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
第1の無機フィラー(C)の熱伝導率は10W/m・K以上である。第1の無機フィラー(C)の熱伝導率が10W/m・K以上であると、硬化物の熱伝導率をより一層高めることができる。この結果、硬化物の放熱性が高くなる。第1の無機フィラー(C)の熱伝導率の好ましい下限は15W/m・K、より好ましい下限は20W/m・Kである。第1の無機フィラー(C)の熱伝導率の上限は特に限定されない。熱伝導率300W/m・K程度の無機フィラーは広く知られており、また熱伝導率200W/m・K程度の無機フィラーは容易に入手できる。
第1の無機フィラー(C)の新モース硬度は3.1以上である。第1の無機フィラー(C)が用いられた場合、スクリーン印刷版が劣化しやすくなる傾向がある。しかし、第1の無機フィラー(C)とともに、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種である第2のフィラー(D)を用いることにより、硬化物の熱伝導性を犠牲にすることなく、スクリーン印刷版の劣化を抑制でき、スクリーン印刷版の使用寿命を長くすることができる。第1の無機フィラー(C)の新モース硬度の好ましい下限は4、好ましい上限は14である。第1の無機フィラー(C)の新モース硬度が大きすぎると、硬化物の高い熱伝導性とスクリーン印刷版の劣化の抑制とを高いレベルで両立することが困難になることがある。
第1の無機フィラー(C)は特に限定されない。新モース硬度が3.1以上であるので、第1の無機フィラー(C)は、アルミナ、合成マグネサイト、結晶性シリカ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい第1の無機フィラー(C)の使用により、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。
第1の無機フィラー(C)は、球状アルミナ、破砕アルミナ及び球状窒化アルミニウムからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましく、球状アルミナ又は球状窒化アルミニウムであることがさらに好ましい。この場合には、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。
第1の無機フィラー(C)は球状フィラーであってもよく、破砕フィラーであってもよい。第1の無機フィラー(C)は、球状であることが好ましい。球状フィラーの場合には、第1の無機フィラー(C)を高密度で充填させることができるため、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。
第1の無機フィラー(C)の平均粒子径は、0.1〜40μmの範囲内であることが好ましい。平均粒子径が0.1μm以上であると、第1の無機フィラー(C)を高密度で容易に充填できる。平均粒子径が40μm以下であると、硬化物の絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。
硬化物の充填性及び耐電圧性をより一層高める観点からは、第1の無機フィラー(C)の最大粒子径は35μm以下であることが好ましい。
第1の無機フィラー(C)は、破砕フィラーであることも好ましい。破砕フィラーは、破砕されたフィラーである。上記破砕フィラーとしては、破砕アルミナ等が挙げられる。破砕フィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機フィラーを破砕することにより得られる。破砕フィラーの使用により、樹脂組成物又は樹脂組成物の硬化物中の第1の無機フィラー(C)が、橋掛け又は効率的に近接された構造となりやすい。従って、硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。また、破砕フィラーは、一般的に、通常のフィラーに比べて安価である。このため、破砕フィラーの使用により、樹脂組成物のコストを低減できる。
破砕フィラーの平均粒子径は、12μm以下であることが好ましい。平均粒子径が12μm以下であると、樹脂組成物中に、破砕フィラーを高密度に容易に分散させることができ、硬化物の絶縁破壊特性をより一層高めることができる。破砕フィラーの平均粒子径のより好ましい上限は10μm、好ましい下限は1μmである。破砕フィラーの平均粒子径が上記好ましい下限を満たすと、破砕フィラーを高密度に容易に充填させることができる。
破砕フィラーのアスペクト比は、特に限定されない。破砕フィラーのアスペクト比は、1.5〜20の範囲内にあることが好ましい。アスペクト比が1.5未満のフィラーは、比較的高価である。上記アスペクト比が20以下であると、破砕フィラーの充填が容易になる。
破砕フィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(商品名:FPA、日本ルフト社製)を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることができる。
樹脂組成物100体積%中、第1の無機フィラー(C)の含有量は30〜80体積%の範囲内であることが好ましい。第1の無機フィラー(C)の含有量が上記範囲内にあることにより、硬化物の放熱性をより一層高くすることができる。樹脂組成物100体積%中の第1の無機フィラー(C)の含有量のより好ましい下限は35体積%、更に好ましい下限は40体積%、より好ましい上限は70体積%、更に好ましい上限は60体積%である。第1の無機フィラー(C)の含有量が上記好ましい下限を満たすと、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。第1の無機フィラー(C)の含有量が上記好ましい上限を満たすと、スクリーン印刷版の劣化をより一層抑制できる。
(第2のフィラー(D))
本発明に係る樹脂組成物は、第1の無機フィラー(C)とは異なる第2のフィラー(D)をさらに含有するので、スクリーン印刷版の劣化を抑制でき、スクリーン印刷版の使用寿命を長くすることができる。第2のフィラー(D)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
第2のフィラー(D)は、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種である。第2のフィラー(D)として、有機フィラー(D1)のみが用いられてもよく、第2の無機フィラー(D2)のみが用いられてもよく、有機フィラー(D1)と第2の無機フィラー(D2)との双方が用いられてもよい。
第2のフィラー(D)は、有機フィラー(D1)であることが好ましい。有機フィラー(D1)は柔軟性が比較的高い。従って、有機フィラー(D1)の使用により、スクリーン印刷版の劣化を抑制できる。
有機フィラー(D1)は、モノマーにより形成された繰返し構造を含む不溶性粒子であることが好ましい。上記モノマーは、アクリル系モノマー又はスチレン系モノマーであることが好ましい。アクリル系モノマー及びスチレン系モノマーはそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、及びメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。
上記スチレン系モノマーとして、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン及び3,4−ジクロロスチレン等が挙げられる。
有機フィラー(D1)は、コアシェル構造を有することが好ましい。コアシェル構造を有する有機フィラーの使用により、硬化物の耐熱性をより一層高めることができる。コアシェル構造を有する有機フィラーは、コア層と、該コア層を被覆しているシェル層とを有する。上記コア層及び該コア層を被覆しているシェル層はアクリル系化合物であることが好ましい。
有機フィラー(D1)は、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物と、有機物とを含む複合フィラーであることが好ましい。この場合には、硬化物の耐熱性をより一層高めることができる。
上記コア層が、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むことが好ましい。上記シェル層が、有機物を含むことが好ましい。有機フィラー(D1)は、上記ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と、上記有機物を含むシェル層とを有する複合フィラーであることが好ましい。
上記ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物は、シロキサン系ポリマーであることが好ましい。上記有機物は、アクリル系化合物であることが好ましい。
有機フィラー(D1)の平均粒子径は、0.1〜40μmの範囲内にあることが好ましい。有機フィラー(D1)の平均粒子径の好ましい上限は20μmである。有機フィラー(D1)の平均粒子径が0.1μm以上であると、有機フィラー(D1)を高密度で容易に充填できる。有機フィラー(D1)の平均粒子径が上記好ましい上限を満たすと、硬化物の耐熱性をより一層高めることができる。
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。
スクリーン印刷版の劣化を抑制できるので、第2のフィラー(D)は、新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)であることが好ましい。
第2の無機フィラー(D2)は、珪藻土、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン、クレー及びマイカからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましく、タルクであることがより好ましい。この場合には、スクリーン印刷版の劣化をより一層抑制できる。
第2の無機フィラー(D2)は球状フィラーであってもよく、破砕フィラーであってもよい。第2の無機フィラー(D2)は、球状であることが特に好ましい。球状フィラーの場合には、第2の無機フィラー(D2)を高密度で容易に充填させることができる。
第2の無機フィラー(D2)が球状である場合には、球状のフィラーの平均粒子径は、0.1〜40μmの範囲内にあることが好ましい。平均粒子径が0.1μm以上であると、第2の無機フィラー(D2)を高密度で容易に充填できる。平均粒子径が40μm以下であると、硬化物の絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。
樹脂組成物100体積%中、第2のフィラー(D)の含有量は1〜40体積%の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物100体積%中の第2のフィラー(D)の含有量のより好ましい下限は3体積%、更に好ましい下限は5体積%、最も好ましい下限は10体積%、より好ましい上限は30体積%、更に好ましい上限は20体積%である。第2のフィラー(D)の含有量が上記好ましい下限を満たすと、スクリーン印刷版の劣化をより一層抑制できる。第2のフィラー(D)の含有量が上記好ましい上限を満たすと、第1の無機フィラー(C)と第2のフィラー(D)との合計の添加量が多くなりすぎず、硬化物の絶縁破壊特性及び接着性をより一層高めることができる。
樹脂組成物が第2のフィラー(D)として第2の無機フィラー(D2)のみを含有する場合には、樹脂組成物100体積%中の第2の無機フィラー(D2)の含有量の下限は1体積%、より好ましい下限は2体積%、更に好ましい下限は3体積%、好ましい上限は30体積%、より好ましい上限は20体積%である。
樹脂組成物が第2のフィラー(D)として有機フィラー(D1)のみを含有する場合には、樹脂組成物100体積%中の有機フィラー(D1)の含有量の好ましい下限は3体積%、より好ましい下限は5体積%、更に好ましい下限は10体積%、好ましい上限は40体積%、より好ましい上限は30体積%、さらに好ましい上限は20体積%である。
樹脂組成物100体積%中に、第1の無機フィラー(C)と第2のフィラー(D)とは合計で30〜90体積%の範囲内で含まれていることが好ましい。第1の無機フィラー(C)と第2のフィラー(D)との合計の含有量が上記好ましい下限を満たすと、スクリーン印刷版の劣化をより一層抑制できる。第1の無機フィラー(C)と第2のフィラー(D)との合計の含有量が上記好ましい上限を満たすと、硬化物の絶縁破壊特性、耐熱性及び銅の剥離強度がより一層高くなる。
本発明に係る樹脂組成物では、第2のフィラー(D)が第2の無機フィラー(D2)であり、第1の無機フィラー(C)及び第2の無機フィラー(D2)が、下記式(X)を満たすことが好ましい。この場合には、スクリーン印刷版の劣化をより一層抑制できる。
[{(第1の無機フィラー(C)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第1の無機フィラー(C)の含有量(体積%))}+{(第2の無機フィラー(D2)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第2の無機フィラー(D2)の含有量(体積%))}]<6 ・・・式(X)
上記式(X)中の右辺の値は6であり、上記式(X)中の右辺の値は5.5であることが好ましく、5であることがより好ましい。すなわち、上記式(X)中の「<6」は、「<5.5」であることが好ましく、「<5」であることがより好ましい。
(他の成分)
本発明に係る樹脂組成物は、ゴム粒子を含んでいてもよい。該ゴム粒子の使用により、樹脂組成物の応力緩和性及び柔軟性を高めることができる。
本発明に係る樹脂組成物は、pKa2〜10の官能基を有する分散剤(E)をさらに含有していてもよい。該分散剤の使用により、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
分散剤(E)は、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することが好ましい。上記分散剤が水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することで、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記pKa2〜10の官能基、及び上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、又はフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。
上記官能基のpKaのより好ましい下限は3、より好ましい上限は9である。上記官能基のpKaが上記好ましい下限を満たすと、分散剤(E)の酸性度が高くなりすぎない。従って、樹脂組成物の貯蔵安定性をより一層高めることができる。上記官能基のpKaが上記好ましい上限を満たすと、分散剤(E)としての機能が充分に果たされ、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
上記官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をさらに一層高めることができる。
分散剤(E)としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール、及びポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。上記分散剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
樹脂組成物100重量%中、分散剤(E)の含有量の好ましい下限は0.01重量%、より好ましい下限は0.1重量%、好ましい上限は20重量%、より好ましい上限は10重量%である。分散剤(E)の含有量が上記好ましい下限及び上限を満たすと、第1の無機フィラー(C)又は第2のフィラー(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の放熱性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
本発明に係る樹脂組成物は、カップリング剤(F)をさらに含有していてもよい。カップリング剤(F)の使用により、第1の無機フィラー(C)又は第2のフィラー(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の放熱性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
カップリング剤(F)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
カップリング剤(F)の具体例としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミネート系カップリング剤、及びジルコネート系カップリング剤等が挙げられる。
樹脂組成物100重量%中、カップリング剤(F)の含有量の好ましい下限は0.01重量%、より好ましい下限は0.05重量%、好ましい上限は20重量%、より好ましい上限は10重量%である。カップリング剤(F)の含有量が上記好ましい下限及び上限を満たすと、第1の無機フィラー(C)又は第2のフィラー(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の放熱性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
本発明に係る樹脂組成物は、必要に応じて、粘着性付与剤、可塑剤、硬化剤、チキソ性付与剤、難燃剤及び着色剤などを含有していてもよい。
(樹脂組成物)
本発明に係る樹脂組成物の製造方法は特に限定されない。樹脂組成物は、例えば、上述した材料を混合することにより得ることができる。
本発明に係る樹脂組成物が、光ラジカル発生剤(B1)を含有する場合には、光の照射により樹脂組成物を硬化させることができる。光を照射する際に用いる光源は特に限定されない。該光源としては、例えば、波長420nm以下に充分な発光分布を有する光源等が挙げられる。また、光源の具体例としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、及びメタルハライドランプ等が挙げられる。
本発明に係る樹脂組成物では、25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・sの範囲内であり、かつ25℃及び1rpmでの粘度(Pa・s)を25℃及び10rpmでの粘度(Pa・s)で除算したチキソトロピー値(25℃及び1rpmでの粘度(Pa・s)/25℃及び10rpmでの粘度(Pa・s))が1〜3である。従って、樹脂組成物を簡便にかつ低いコストで製膜できる。樹脂組成物をより一層簡便にかつ低いコストで製膜する観点からは、上記樹脂組成物の25℃及び1rpmでの粘度の好ましい下限は15Pa・s、より好ましい下限は25Pa・s、好ましい上限は80Pa・s、より好ましい上限は75Pa・sである。樹脂組成物をより一層簡便にかつ低いコストで製膜する観点からは、上記樹脂組成物の上記チキソトロピー値の好ましい下限は1.2、より好ましい下限は1.4、好ましい上限は2.8、より好ましい上限は2.7である。
樹脂組成物の上記粘度及び上記チキソトロピー値は、スクリーン印刷における印刷性に影響する。樹脂組成物の粘度が高すぎると、印刷版のメッシュから樹脂が充分に押し出されず、印刷が困難なことがある。印刷できたとしても、印刷後の樹脂組成物の表面にメッシュによる凹凸等の跡が残り、見た目が悪くなることがある。樹脂組成物の粘度が低すぎると、印刷時の厚みが薄くなりやすく、何度も重ね塗りをしなければならないことがある。なお、印刷後の樹脂組成物の厚みは、該樹脂組成物が硬化した硬化物の絶縁破壊電圧と相関があり、硬化物の絶縁破壊電圧を高めるためには、樹脂組成物の厚みを厚く必要がある。上記チキソトロピー値は、樹脂組成物の印刷性に大きく影響する。スクリーン印刷においては、例えば、スキージを用いて樹脂組成物をスクリーン版に押し付けて印刷する。このため、押し付け時に樹脂組成物の粘度が下がれば、綺麗に印刷することができる。
本発明に係る樹脂組成物は、溶剤を含有しないか、又は溶剤を5重量%以下含有することが好ましい。本発明に係る樹脂組成物の溶剤の含有量のより好ましい上限は1重量%、さらに好ましい上限は0.5重量%である。本発明に係る樹脂組成物は、溶剤を含有しないことが最も好ましい。溶剤の含有量が少ないと、溶剤を除去するための乾燥工程を必要としなかったり、乾燥に必要な熱量を少なくしたりすることができる。溶剤の含有量が少ないと、硬化時の溶剤の揮発量が少なくなり、環境負荷を低減できる。さらに、樹脂組成物の取扱い性を高めることができる。
樹脂組成物の硬化物の熱伝導率は、0.5W/m・K以上であることが好ましい。硬化物の熱伝導率は、1.0W/m・K以上であることが好ましく、1.5W/m・K以上であることがより好ましく、2.0W/m・K以上であることが更に好ましい。熱伝導率が高いほど、硬化物の放熱性が高くなる。
樹脂組成物の硬化物の絶縁破壊電圧は、30kV/mm以上であることが好ましく、40kV/mm以上であることがより好ましく、50kV/mm以上であることがさらに好ましく、80kV/mm以上であることがさらに好ましく、100kV/mm以上であることがさらに好ましい。絶縁破壊電圧が高いほど、硬化物が例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性が高くなる。
本発明に係る樹脂組成物は、スクリーン印刷、ディスペンサー又はスピンコーターなどを用いて塗工できる。なかでも、本発明に係る樹脂組成物は、スクリーン印刷に用いられることが好ましい。本発明に係る樹脂組成物は、スクリーン印刷用樹脂組成物であることが好ましい。
(樹脂組成物の用途)
本発明に係る樹脂組成物は、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体を導電層に接着するために好適に用いられる。また、本発明に係る樹脂組成物は、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するために好適に用いられる。
図1に、本発明の一実施形態に係る積層構造体を示す。
図1に示す積層構造体1は、熱伝導体3と、熱伝導体3の一方の面3aに積層された絶縁層2と、絶縁層2の熱伝導体3が積層された面とは反対側の面に積層された導電層4とを備える。絶縁層2は、本発明に係る樹脂組成物を硬化させることにより形成されている。熱伝導体3の熱伝導率は10W/m・K以上である。
熱伝導体3の少なくとも一方の面3aに、絶縁層2と導電層4とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体3の他方の面3bにも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。
例えば、両面に銅回路が設けられた積層板又は多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子又は半導体パッケージ等の各導電層に、樹脂組成物を介して金属体を接着した後、樹脂組成物を硬化させることにより、積層構造体1を得ることができる。
上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体としては、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム及びグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。
本発明に係る樹脂組成物は、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体を接着するために好適に用いられる。さらに、本発明に係る樹脂組成物は、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体を接着するために好適に用いられる。
半導体素子が大電流用の電力用デバイス素子である場合には、樹脂組成物の硬化物には、絶縁性又は耐熱性等により一層優れていることが求められる。従って、このような用途に、本発明の樹脂組成物は好適に用いられる。
以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。
以下の材料を用意した。
[ラジカル重合性化合物(A)]
(1)メタクリル酸メチル(三菱ガス化学社製、商品名:メタクリル酸メチル、Mw=100.12、25℃及び1rpmでの粘度0.1Pa・s)
(2)スチレン(東ソー社製、商品名:スチレン、Mw=104.15、25℃及び1rpmでの粘度0.1Pa・s)
(3)アクリル酸(日本触媒社製、商品名:アクリル酸、Mw=72.06、25℃及び1rpmでの粘度0.1Pa・s)
ラジカル重合性化合物(A)の25℃及び1rpmでの粘度は、TV−22型粘度計(東機産業社製)を用いて測定した。
[光ラジカル発生剤(B1)]
(1)ベンゾフェノン(アルドリッチ社製、商品名:ベンゾフェノン)
(2)2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(チバ・ジャパン社製、商品名:IRGACURE 651)
(3)1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・ジャパン社製、商品名:IRGACURE 184)
[熱ラジカル発生剤(B2)]
(1)ジイソブチリルパーオキサイド(日油社製、商品名:パーロイルIB、10時間半減期温度32.7℃)
(2)クミルパーオキシネオデカノエート(日油社製、商品名:パークミルND、10時間半減期温度36.5℃)
(3)ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート(日油社製、商品名:パーロイルNPP、10時間半減期温度40.3℃)
[第1の無機フィラー(C)]
(1)5μm破砕アルミナ(破砕フィラー、日本軽金属社製、商品名:LT300C、平均粒子径5μm、最大粒子径15μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(2)2μm破砕アルミナ(破砕フィラー、日本軽金属社製、商品名:LS−242C、平均粒子径2μm、最大粒子径10μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(3)6μm破砕窒化アルミニウム(破砕フィラー、東洋アルミニウム社製、商品名:FLC、平均粒子径6μm、最大粒子径20μm、熱伝導率200W/m・K、新モース硬度11)
(4)球状アルミナ(デンカ社製、商品名:DAM−10、平均粒子径10μm、最大粒子径25μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(5)合成マグネサイト(神島化学社製、商品名:MSL、平均粒子径6μm、最大粒子径20μm、熱伝導率15W/m・K、新モース硬度3.5)
(6)窒化アルミニウム(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―FLX、平均粒子径14μm、最大粒子径30μm、熱伝導率200W/m・K、新モース硬度11)
(7)結晶シリカ(龍森社製、商品名:クリスタライトCMC−12、平均粒子径5μm、最大粒子径15μm、熱伝導率10W/m・K、新モース硬度7)
(8)炭化ケイ素(信濃電気製錬社製、商品名:シナノランダムGP#700、平均粒子径17μm、最大粒子径35μm、熱伝導率125W/m・K、新モース硬度13)
(9)酸化亜鉛(堺化学工業社製、商品名:LPZINC−5、平均粒子径5μm、最大粒子径15μm、熱伝導率54W/m・K、新モース硬度5)
(10)酸化マグネシウム(堺化学工業社製、商品名:SMO Large Particle、平均粒子径1.1μm、最大粒子径7μm、熱伝導率35W/m・K、新モース硬度6)
[有機フィラー(D1)]
(1)0.1μm粒子(コアシェル型シリコーン−アクリル粒子、旭化成ワッカーシリコーン社製、商品名:P22、平均粒子径0.1μm、コアシェル構造を有する、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と有機物を含む)
(2)0.5μm粒子(コアシェル型有機粒子、ガンツ化成社製、商品名:AC−3355、平均粒子径0.5μm、コアシェル構造を有する)
(3)4μm粒子(アクリル粒子、ガンツ化成社製、商品名:GM−0401S、平均粒子径4μm)
[第2の無機フィラー(D2)]
(1)マイカ(山口雲母工業所社製、商品名:SJ005、平均粒子径5μm、新モース硬度2.8)
(2)タルク(日本タルク社製、商品名:K−1、平均粒子径8μm、新モース硬度1)
(3)窒化ホウ素(昭和電工社製、商品名:UHP−1、平均粒子径8μm、新モース硬度2)
(4)クレー(白石カルシウム社製、商品名:ST−301、平均粒子径0.7μm、新モース硬度2)
(5)カオリン(BASF社製、商品名:ASP−400P、平均粒子径4.8μm、新モース硬度2.8)
(6)水酸化アルミニウム(日本軽金属社製、商品名:B−103、平均粒子径8μm、新モース硬度3)
(7)水酸化マグネシウム(タテホ化学工業社製、商品名:PZ−1、平均粒子径1.2μm、新モース硬度2.5)
(8)炭酸カルシウム(白石カルシウム社製、商品名:BF−300、平均粒子径8μm、新モース硬度3)
(9)珪藻土(白石カルシウム社製、商品名:ST−C219、平均粒子径9μm、新モース硬度1.5)
[分散剤(E)]
(1)アクリル系分散剤(ビックケミージャパン社製、商品名:Disperbyk−2070、pKaが4のカルボキシル基を有する)
(2)ポリエーテル系分散剤(楠本化成社製、商品名:ED151、pKaが7のリン酸基を有する)
[カップリング剤(F)]
(1)エポキシシランカップリング剤(信越化学工業社製、商品名:KBE403)
[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
(実施例1〜14及び比較例1〜4)
ホモディスパー型攪拌機を用いて、下記の表1〜2に示す割合(配合単位は重量部)で各原料を配合し、混練し、樹脂組成物を調製した。
(評価)
(1)樹脂組成物の粘度及びチキソトロピー値
TV−22型粘度計(東機産業社製)を用いて、樹脂組成物の25℃及び1rpmでの粘度を求め、更に樹脂組成物の25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値を求めた。
(2)スクリーン印刷性
上記樹脂組成物をスクリーン印刷機にて印刷することにより、スクリーン印刷性を評価した。スクリーン印刷性を下記の評価基準で判定した。
[スクリーン印刷性の判定基準]
◎:ボイドがなく、かつ印刷後に形状保持性あり
○:ボイドがあるものの、印刷後に形状保持性あり
△:ボイドがなく、かつ印刷後に形状保持性なし
×:印刷不可
(3)熱伝導率
京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて、樹脂組成物の硬化物の熱伝導率を測定した。
熱硬化剤(B1)を用いた場合には、厚み50μmの離型PETシートに、上記樹脂組成物を50μmの厚みになるように塗工した。次に、120℃で1時間、その後200℃で1時間、樹脂組成物を硬化させて、PETシート上に樹脂組成物の硬化物を作製した。
光カチオン重合開始剤(B2)を用いた場合には、厚み50μmの離型PETシートに、上記樹脂組成物を50μmの厚みになるように塗工した。次に、UV照射機(オーク製作所製)を用いて、光の照射量が積算して500mJ/cmとなるように、365nmの光を樹脂組成物に照射して、PETシート上に樹脂組成物の硬化物を作製した。
(4)絶縁破壊電圧
耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、樹脂組成物の硬化物間に1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。樹脂組成物の硬化物が破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。樹脂組成物の硬化物は、熱伝導率の評価と同様にして作製した。
結果を下記の表1〜2に示す。
Figure 2011132367
Figure 2011132367
1…積層構造体
2…絶縁層
3…熱伝導体
3a…一方の面
3b…他方の面
4…導電層

Claims (16)

  1. 重量平均分子量が600以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、
    ラジカル発生剤(B)と、
    熱伝導率が10W/m・K以上であり、かつ新モース硬度が3.1以上である第1の無機フィラー(C)と、
    前記第1の無機フィラー(C)とは異なる第2のフィラー(D)とを含有し、
    前記第2のフィラー(D)が、有機フィラー(D1)及び新モース硬度が3以下である第2の無機フィラー(D2)の内の少なくとも1種であり、
    25℃及び1rpmでの粘度が10〜100Pa・s、かつ25℃及び1rpmでの粘度を25℃及び10rpmでの粘度で除算したチキソトロピー値が1〜3である、樹脂組成物。
  2. 溶剤を含有しないか、又は溶剤を5重量%以下含有する、請求項1に記載の樹脂組成物。
  3. 樹脂組成物100体積%中、前記第1の無機フィラー(C)の含有量が30〜80体積%、かつ前記第2のフィラー(D)の含有量が1〜40体積%であり、
    前記第2のフィラー(D)が前記有機フィラー(D1)を含む場合には、樹脂組成物100体積%中、前記有機フィラー(D1)の含有量が3〜40体積%である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
  4. 前記第1の無機フィラー(C)が、破砕フィラーを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  5. 前記第1の無機フィラー(C)の最大粒子径が35μm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  6. 前記第1の無機フィラー(C)が、アルミナ、合成マグネサイト、結晶性シリカ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  7. 前記第2のフィラー(D)が前記第2の無機フィラー(D2)であり、
    前記第1の無機フィラー(C)及び前記第2の無機フィラー(D2)が、下記式(X)を満たす、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
    [{(第1の無機フィラー(C)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第1の無機フィラー(C)の含有量(体積%))}+{(第2の無機フィラー(D2)の新モース硬度)×(樹脂組成物100体積%中の第2の無機フィラー(D2)の含有量(体積%))}]<6 ・・・式(X)
  8. 前記第2の無機フィラー(D2)が、珪藻土、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン、クレー及びマイカからなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  9. 前記ラジカル重合性化合物(A)が、25℃及び1rpmでの粘度が10Pa・s以下であるラジカル重合性化合物を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  10. 樹脂組成物100重量%中、前記ラジカル重合性化合物(A)の含有量が3〜40重量%である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  11. 前記ラジカル重合性化合物(A)が、(メタ)アクリルモノマー及びスチレンモノマーの内の少なくとも1種を含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  12. 前記ラジカル発生剤(B)が、光ラジカル発生剤又は10時間半減期温度が50℃以下である熱ラジカル発生剤である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  13. pKa2〜10の官能基を有する分散剤(E)をさらに含有する、請求項1〜12のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  14. カップリング剤(F)をさらに含有する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  15. 熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導体と、
    前記熱伝導体の少なくとも一方の面に積層された絶縁層と、
    前記絶縁層の前記熱伝導体が積層された面とは反対側の面に積層された導電層とを備え、
    前記絶縁層が、請求項1〜14のいずれか1項に記載の樹脂組成物を硬化させることにより形成されている、積層構造体。
  16. 前記熱伝導体が金属である、請求項15に記載の積層構造体。
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