JP2011129441A - 冷却試料ホールダ及び試料の冷却加工方法 - Google Patents
冷却試料ホールダ及び試料の冷却加工方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、気体もしくは液体を直接試料に吹き付けることにより、加工・観察を所望する微小領域を急冷することに関する。冷媒の照射量と照射位置を切り替えることにより、試料汚染や霜付着を防止できる。本発明によれば、冷却条件下であっても試料汚染や霜付着を防止できる。これにより、例えば、冷却条件下における試料への保護膜形成を効果的に行うことできる。
【選択図】 図7
Description
2 イオン銃
3 コンデンサーレンズ
4 絞り
5 走査電極
6 対物レンズ
7,17 試料
8 試料冷却ホールダ
9 ホールダ温度制御部
10 二次電子検出器
11 デポジション銃
12 マイクロプローブ
13 走査像表示装置
14 走査電極制御部
15 マイクロプローブ制御装置
16 イオンビーム
18 熱伝導棒
19 冷却源
20,21 冷却試料台
22 固定プレート
23 固定ネジ
24 冷媒照射管
25 冷媒照射調節機構
26 雰囲気遮断カバー
27 カバー駆動機構
28 ホールダ支持部
29 Oリング
30 冷却源容器内側
31 冷却源容器外側
32 ヒートコンダクタ
33 排気口
34 注入口
35 冷媒供給口
36 冷却領域
37 保護膜
38 周囲加工設定枠
39 スパッタ加工領域
Claims (11)
- 荷電粒子線装置に挿入可能な冷却試料ホールダであって、
試料表面の微小領域を冷却する冷媒を照射する冷媒照射機構を備えることを特徴とする冷却試料ホールダ。 - 請求項1記載の冷却試料ホールダであって、
前記冷媒が、気体または液体であることを特徴とする冷却試料ホールダ。 - 請求項1記載の冷却試料ホールダであって、
試料を保持できる試料台に接続された熱伝導棒を備え、該熱伝導棒の一端を冷却することにより前記試料を冷却できることを特徴とする冷却試料ホールダ。 - 請求項1記載の冷却試料ホールダであって、
前記冷媒照射機構が、気体または液体を切り替えて照射でき、それぞれの流出量を制御できることを特徴とする冷却試料ホールダ。 - 請求項1記載の冷却試料ホールダであって、
試料を特定雰囲気中に保つことができる開閉可能なカバーを備えることを特徴とする試料ホールダ。 - 請求項5記載の冷却試料ホールダであって、
前記カバーが、真空雰囲気を保持できることを特徴とする試料ホールダ。 - 請求項1記載の冷却試料ホールダであって、
バルクサンプルを固定できる試料台と、バルクサンプルからイオンビームにより摘出された微小試料を固定できる試料台とを備えることを特徴とする試料ホールダ。 - 試料ホールダに保持された試料の冷却加工方法であって、
試料表面の微小領域に冷媒を照射しながら、イオンビームにより試料を加工することを特徴とする冷却加工方法。 - 請求項8記載の冷却加工方法であって、
前記冷媒が、気体または液体であることを特徴とする冷却加工方法。 - 請求項8記載の冷却加工方法であって、
熱伝導棒に接続された試料台に試料を保持し、該熱伝導棒の一端を冷却することにより前記試料を冷却することを特徴とする冷却加工方法。 - 請求項8記載の冷却加工方法であって、
前記試料に気体または液体を切り替えて照射することを特徴とする冷却加工方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099435A1 (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置 |
WO2014175074A1 (ja) * | 2013-04-23 | 2014-10-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる試料作製方法 |
CN105493225A (zh) * | 2013-09-30 | 2016-04-13 | 株式会社日立高新技术 | 试样支架以及带电粒子装置 |
JP6279692B1 (ja) * | 2016-11-07 | 2018-02-14 | 株式会社メルビル | 試料ホルダー |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343468A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Hitachi Ltd | Test sample holder with sealed-up chamber used for electronic microscope, etc. |
JPS55121366A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hokusan Kk | Device for maintaining very low temperature by liquefied gas |
JPS59181571U (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡等における試料冷却装置 |
JP2003123682A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2005148003A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Canon Inc | 断面加工装置及び断面評価方法 |
JP2005158288A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Canon Inc | 電子顕微鏡用試料冷却ホルダ |
JP2007184295A (ja) * | 2007-03-29 | 2007-07-19 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
-
2009
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343468A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Hitachi Ltd | Test sample holder with sealed-up chamber used for electronic microscope, etc. |
JPS55121366A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hokusan Kk | Device for maintaining very low temperature by liquefied gas |
JPS59181571U (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡等における試料冷却装置 |
JP2003123682A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2005148003A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Canon Inc | 断面加工装置及び断面評価方法 |
JP2005158288A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Canon Inc | 電子顕微鏡用試料冷却ホルダ |
JP2007184295A (ja) * | 2007-03-29 | 2007-07-19 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099435A1 (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置 |
JP2013134814A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置 |
WO2014175074A1 (ja) * | 2013-04-23 | 2014-10-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる試料作製方法 |
JP5899377B2 (ja) * | 2013-04-23 | 2016-04-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる試料作製方法 |
US9449786B2 (en) | 2013-04-23 | 2016-09-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle radiation device and specimen preparation method using said device |
JPWO2014175074A1 (ja) * | 2013-04-23 | 2017-02-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる試料作製方法 |
CN105493225A (zh) * | 2013-09-30 | 2016-04-13 | 株式会社日立高新技术 | 试样支架以及带电粒子装置 |
JP6279692B1 (ja) * | 2016-11-07 | 2018-02-14 | 株式会社メルビル | 試料ホルダー |
JP2018077953A (ja) * | 2016-11-07 | 2018-05-17 | 株式会社メルビル | 試料ホルダー |
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