JP2011117917A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011117917A5 JP2011117917A5 JP2009280911A JP2009280911A JP2011117917A5 JP 2011117917 A5 JP2011117917 A5 JP 2011117917A5 JP 2009280911 A JP2009280911 A JP 2009280911A JP 2009280911 A JP2009280911 A JP 2009280911A JP 2011117917 A5 JP2011117917 A5 JP 2011117917A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- speckle
- point
- localization
- unit block
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004807 localization Effects 0.000 claims description 43
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 18
- 230000001427 coherent Effects 0.000 claims description 13
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 3
- 230000000295 complement Effects 0.000 claims description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic Effects 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
Description
上記目的を達成するための本発明は、スペックルの定位方法を提供することで上記課題を快適に解決する。該定位方法は、a)非平滑な表面を有する基板にあるポイントを選択し基準点とするステップと、b)該表面を複数の単位ブロックに区画し二次元のブロックマトリックスを形成し、該基準点に基づき該単位ブロックの位置データを設定するステップと、c)コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ散乱光を生成させ、該表面の法線に対するサンプリング角ψを設定し、それぞれの単位ブロックにて該サンプリング角ψに対する散乱光による第1スペックル映像をキャプチャするステップと、d)それぞれの単位ブロックに対応する該第1スペックル映像及び該位置データを用いてテーブルを作成するステップと、e)測量点にて該サンプリング角ψに対する第2スペックル映像をキャプチャするステップと、f)該測量点が所在する単位ブロックを識別するステップと、g)該測量点が所在する単位ブロックの第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点と該所在単位ブロックとの相対位置を獲得し、該相対位置及び該所在単位ブロックの位置データに基づき、該基準点に対する該測量点の位置データを獲得するステップと、を備えてなることを特徴とする。
上記目的を達成するための本発明はさらに、スペックルの定位装置を提供することで上記課題を快適に解決する。該定位装置は、非平滑な表面を有する基板と、コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ散乱光を生成させる発光モジュールと、該表面の法線に対するサンプリング角ψを形成し、該コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ生成した該散乱光による第1スペックル映像、及び測量点に放射し生成した散乱光による第2スペックル映像をキャプチャするスペックルキャプチャモジュールと、該第1スペックル映像と該第2スペックル映像を貯蔵する感知モジュールと、該第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点の位置データを獲得する識別定位ユニットと、を備え、該基板にあるポイントを選択し基準点とし、該表面を複数の単位ブロックに区画し二次元のブロックマトリックスを形成し、該基準点に基づき該単位ブロックの位置データを設定し、該スペックルキャプチャモジュールに、それぞれの単位ブロックにて該サンプリング角ψに対する散乱光による該第1スペックル映像をキャプチャさせ、該測量点が所在する単位ブロックを識別し、該識別定位ユニットに、該測量点が所在する単位ブロックの第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点と該所在単位ブロックとの相対位置を獲得し、該相対位置及び該所在単位ブロックの位置データに基づき、該基準点に対する該測量点の位置データを獲得させることを特徴とする。
前記識別定位ユニットによって求められた該測量点の位置、及び目的座標を対比し、定位物を該目的座標に移動させる定位駆動装置とをさらに含むことを特徴とする。
前記スペックルキャプチャモジュールは、スペックルを該感知モジュールに結像させる結像レンズと、該結像レンズと該基板との間に設置され、雑光を濾過する前段絞りと、該前段絞りに対し該結像レンズの反対側に位置し、スペックルの平均半径を制御する後段絞りと、を備えてなり、且つ該結像レンズ、該前段絞り及び該後段絞りは直線になって配列されることを特徴とする。
発光モジュール204は高コヒーレントな平行光を物体表面に入射させるものであり、長波長面発光レーザ(VCSEL)、端面発光レーザ(EEL)、高コヒーレントな気体レーザ、高コヒーレントな固体レーザなどを含む。さらに、発光モジュール204は狭い周波数帯域の光線を発射するとともに高コヒーレントな発光ダイオード及びフィルターの組み合わせをも含む。定位母板202の法線と入射角θを挟むように(以下に各実施例に関する図におけるθは同じに定義される)レーザ光を定位母板202の表面に調整し照射させる。入射光は均一に定位母板202の表面に照射する。起伏に富んだ定位母板202の表面にある文理により、入射光は各方向へ散乱される。定位母板202の法線とサンプリング角ψを挟むように(以下に各実施例に関する図におけるψは同じに定義される)レーザ光を集める。その中、サンプリング角ψは0<ψ≦θ−10°又はθ+10°≦ψ<90
°の範囲に落ちる。この実施例において、θは定位母板202の法線と60°を挟み、ψは該法線と50°を挟む。本発明の精神に基づき、ψは0<ψ≦50°又は70°≦ψ<90°の範囲に落ちても良い。この方向の散乱光が干渉になるので、不変形スペックルキャプチャモジュール206を用いて、この方向の散乱光が生じたスペックル映像をキャプチャする。この方向にスペックル映像をキャプチャしようとする目的は、物面特徴点の情報を含まない鏡面反射レーザを獲得することを避ける。
°の範囲に落ちる。この実施例において、θは定位母板202の法線と60°を挟み、ψは該法線と50°を挟む。本発明の精神に基づき、ψは0<ψ≦50°又は70°≦ψ<90°の範囲に落ちても良い。この方向の散乱光が干渉になるので、不変形スペックルキャプチャモジュール206を用いて、この方向の散乱光が生じたスペックル映像をキャプチャする。この方向にスペックル映像をキャプチャしようとする目的は、物面特徴点の情報を含まない鏡面反射レーザを獲得することを避ける。
散乱光が結像レンズ2064を通る効率を向上させるために、結像レンズ2064を散乱光の光軸と垂直にならせることをしなければならない。二次元行列の感知モジュール208は一般に電荷結合素子(CCD)センサー又は相補性金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを含む。感知モジュール208の二次元映像の寸法と物面の寸方との間に固定の比例をならせ、投影効果(垂直入射平面の拡大率と平行入射平面の拡大率とが異なると、投影効果が発生する。前記入射平面は法線と入射光とが構成した平面である。)を除去するために、二次元行列の感知モジュール208の感知面を物面と平行にならせることをしなければならない。二次元行列の感知モジュール208によりレーザスペックル映像を記録し、記録した映像を即時にスペックル識別定位ユニット210へ伝送する。該スペックル識別定位ユニット210はスペックル映像データを系統ファイルデータ(即ちテーブル、図に示せず)と対比し、現在のコヒーレントな光源が定位母板に照射する座標を確認する。この座標及び目的座標により、サーバ定位駆動装置212が所要する移動距離及び方位を計算することができる。
図8に示したように、機構20は二次元精密な定位方法を下記のように行う。定位母板202にあるポイントを選択し基準点とする(ステップS201)。その表面を複数の単位ブロックに区画し二次元のブロックマトリックスを形成し、該基準点に基づき該単位ブロックの位置データを設定する(ステップS202)。発光モジュール204が発出した高コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ散乱光を生成させ、該表面の法線に対するサンプリング角ψを設定し、それぞれの単位ブロックにて該サンプリング角ψに対する散乱光による第1スペックル映像をキャプチャする(ステップS203)。それぞれの単位ブロックに対応する該第1スペックル映像、及び該基準点に対応する位置データ(座標データで表す)を用いテーブルを作成し、二次元行列の感知モジュール208で記録する(ステップS204)。不変形スペックルキャプチャモジュール206で測量点にて該サンプリング角ψに対する第2スペックル映像をキャプチャする(ステップS205)。スペックル識別定位ユニット210で、該測量点が所在する単位ブロックの第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点と該所在単位ブロックとの相対位置を獲得し、該相対位置及び該所在単位ブロックの位置データを基づき、該基準点に対する該測量点の位置データ(座標データ)を獲得する(ステップS206)。最後、サーバ定位駆動装置212で、測量物が所要する移動距離及び方位を計算する。そのように、スペックルによって定位を行うという目的に達することができる。
(実施例四)
図9において、二次元行列スペックル定位ブロック3022の定位母板302には、コヒーレントな光を反射できる二次元行列スペックル定位ブロック3022があるほか、他の区域がスペックル暗区3024であるのでスペックル映像を獲得することができない。全区域に対し定位する際に、その他の区域には参考用スペックル映像を取れない区域がある場合もある。エネルギー感知器が強弱変化のスペックル信号を測量でき、第1階段の定位機能を達し、全区域に第2階段のスペックル映像精密な定位機能を行うために、図9の行列定位ブロック構成を図15の精密型行列ブロックスペックル暗区定位母板402のように変更する必要がある。
図9において、二次元行列スペックル定位ブロック3022の定位母板302には、コヒーレントな光を反射できる二次元行列スペックル定位ブロック3022があるほか、他の区域がスペックル暗区3024であるのでスペックル映像を獲得することができない。全区域に対し定位する際に、その他の区域には参考用スペックル映像を取れない区域がある場合もある。エネルギー感知器が強弱変化のスペックル信号を測量でき、第1階段の定位機能を達し、全区域に第2階段のスペックル映像精密な定位機能を行うために、図9の行列定位ブロック構成を図15の精密型行列ブロックスペックル暗区定位母板402のように変更する必要がある。
Claims (15)
- a)非平滑な表面を有する基板にあるポイントを選択し基準点とするステップと、
b)該表面を複数の単位ブロックに区画し二次元のブロックマトリックスを形成し、該基準点に基づき該単位ブロックの位置データを設定するステップと、
c)コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ散乱光を生成させ、該表面の法線に対するサンプリング角ψを設定し、それぞれの単位ブロックにて該サンプリング角ψに対する散乱光による第1スペックル映像をキャプチャするステップと、
d)それぞれの単位ブロックに対応する該第1スペックル映像及び該位置データを用いてテーブルを作成するステップと、
e)測量点にて該サンプリング角ψに対する第2スペックル映像をキャプチャするステップと、
f)該測量点が所在する単位ブロックを識別するステップと、
g)該測量点が所在する単位ブロックの第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点と該所在単位ブロックとの相対位置を獲得し、該相対位置及び該所在単位ブロックの位置データに基づき、該基準点に対する該測量点の位置データを獲得するステップと、
を備えてなることを特徴とするスペックルの定位方法。 - 前記サンプリング角ψは0<ψ≦θ−10°又はθ+10°≦ψ<90°の範囲に落ちることを特徴とする請求項1記載のスペックルの定位方法。
- 前記ステップf)はさらに、
f1)スペックル暗区を隣接する単位ブロックの間に差し込み、周期的なスペックルエネルギー変化を形成するステップと、
f2)該測量点と該基準点との間のスペックルエネルギーの波峰数量或いは波谷数量を計算し、該測量点が所在する単位ブロックを獲得するステップと、を備えてなり、
該スペックル暗区は、光線によって完全に貫かれる・吸収される・反射されることにより、散乱光を生成させ第1スペックル映像と該第2スペックル映像を生成させることができなくなる、
ことを特徴とする請求項1記載のスペックルの定位方法。 - 前記スペックル暗区にて隣接する両単位ブロックの間の間隔は該単位ブロックの長さ及び幅より小さい又は等しいことを特徴とする請求項3記載のスペックルの定位方法。
- 前記ステップf)はさらに、
f1)該単位ブロックのスペックルエネルギーより低いスペックルエネルギーを有する参考ブロックを隣接する単位ブロックの間に差し込み、周期的なスペックルエネルギー変化を形成するステップと、
f2)該測量点と該基準点との間のスペックルエネルギーの波峰数量或いは波谷数量を計算し、該測量点が所在する単位ブロックを獲得するステップと、を含むことを特徴とする請求項1記載のスペックルの定位方法。 - 四つの隣接する単位ブロックの間に、該測量点が所在する位置を補助し判断すべき補助定位ブロックがあり、
該補助定位ブロックはスペックル映像を生成させることができる、
ことを特徴とする請求項3又は5記載のスペックルの定位方法。 - 非平滑な表面を有する基板と、
コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ散乱光を生成させる発光モジュールと、
該表面の法線に対するサンプリング角ψを形成し、該コヒーレントな平行光を入射角θで該表面に入射させ生成した該散乱光による第1スペックル映像、及び測量点に放射し生成した散乱光による第2スペックル映像をキャプチャするスペックルキャプチャモジュールと、
該第1スペックル映像と該第2スペックル映像を貯蔵する感知モジュールと、
該第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点の位置データを獲得する識別定位ユニットと、を備え、
該基板にあるポイントを選択し基準点とし、該表面を複数の単位ブロックに区画し二次元のブロックマトリックスを形成し、該基準点に基づき該単位ブロックの位置データを設定し、
該スペックルキャプチャモジュールに、それぞれの単位ブロックにて該サンプリング角ψに対する散乱光による該第1スペックル映像をキャプチャさせ、
該測量点が所在する単位ブロックを識別し、
該識別定位ユニットに、該測量点が所在する単位ブロックの第1スペックル映像と該第2スペックル映像とを対比し、該測量点と該所在単位ブロックとの相対位置を獲得し、該相対位置及び該所在単位ブロックの位置データに基づき、該基準点に対する該測量点の位置データを獲得させること、
を特徴とするスペックルの定位システム。 - 前記識別定位ユニットによって求められた該測量点の位置、及び目的座標を対比し、定位物を該目的座標に移動させる定位駆動装置とをさらに含むことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。
- 前記サンプリング角ψは0<ψ≦θ−10°又はθ+10°≦ψ<90°の範囲に落ちることを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。
- 前記発光モジュールは、長波長面発光レーザ(VCSEL)、端面発光レーザ(EEL)、気体レーザ、固体レーザ、或いは狭い周波数帯域の光線を発射する発光ダイオード及びフィルターの組み合わせを含むことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。
- 前記感知モジュールは電荷結合素子(CCD)センサー又は相補性金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを含むことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。
- 前記スペックルキャプチャモジュールは、
スペックルを該感知モジュールに結像させる結像レンズと、
該結像レンズと該基板との間に設置され、雑光を濾過する前段絞りと、
該前段絞りに対し該結像レンズの反対側に位置し、スペックルの平均半径を制御する後段絞りと、を備えてなり、
且つ該結像レンズ、該前段絞り及び該後段絞りは直線になって配列されることを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。 - 前記スペックルキャプチャモジュールは、
該サンプリング角ψの散乱光による光路に位置し、スペックルのエネルギーをエネルギー感知器に集める集光レンズを含む、
ことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。 - 前記スペックルキャプチャモジュールは、
該結像レンズと該後段絞りとの間に位置し、部分的にスペックルのエネルギーをエネルギー感知器に反射する部分反射レンズを含む、
ことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。 - 前記スペックルキャプチャモジュールは、
反射光による光路に位置し、スペックルのエネルギーをエネルギー感知器に集める集光レンズを含む、
ことを特徴とする請求項7記載のスペックルの定位システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW098141426 | 2009-12-03 | ||
TW098141426A TWI402721B (zh) | 2009-12-03 | 2009-12-03 | 光斑定位方法及光斑定位系統 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011117917A JP2011117917A (ja) | 2011-06-16 |
JP2011117917A5 true JP2011117917A5 (ja) | 2011-12-15 |
JP5106521B2 JP5106521B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=43608432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009280911A Active JP5106521B2 (ja) | 2009-12-03 | 2009-12-10 | スペックルの定位方法およびその定位系統 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8144339B2 (ja) |
EP (1) | EP2336715B1 (ja) |
JP (1) | JP5106521B2 (ja) |
TW (1) | TWI402721B (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8437517B2 (en) * | 2010-11-03 | 2013-05-07 | Lockheed Martin Corporation | Latent fingerprint detectors and fingerprint scanners therefrom |
US20140149023A1 (en) * | 2012-11-29 | 2014-05-29 | Ford Global Technologies, Llc | Method and system for engine position control |
TWI506250B (zh) * | 2013-01-14 | 2015-11-01 | Prec Machinery Res & Dev Ct | Angle detection method of angle encoder |
TWI506263B (zh) * | 2013-01-14 | 2015-11-01 | Prec Machinery Res & Dev Ct | Location Detection Method for Linear Slide Rail |
CN103309476A (zh) * | 2013-06-26 | 2013-09-18 | 林大伟 | 光学感测模块及制造方法 |
CA2921591A1 (en) * | 2013-08-18 | 2015-02-26 | Illusense Inc. | Systems and methods for optical scanning of fluid transport pipelines |
US20150097778A1 (en) * | 2013-10-09 | 2015-04-09 | Da-Wei Lin | Optical sensing module, laser pointing device using the same and the fabricating method thereof |
TWI509224B (zh) * | 2013-11-27 | 2015-11-21 | Nat Inst Chung Shan Science & Technology | Angle precise positioning device |
TWI508028B (zh) * | 2015-02-26 | 2015-11-11 | Senao Networks Inc | Method for detecting quantity of luminous body |
EP3338946B1 (en) * | 2016-12-22 | 2019-07-10 | National Chung Shan Institute of Science and Technology | Measurement, calibration and compensation system and method for machine tool |
TWI646305B (zh) * | 2017-12-26 | 2019-01-01 | 國家中山科學研究院 | Three-dimensional displacement measurement method for spot image and its application |
US11733030B2 (en) * | 2018-12-10 | 2023-08-22 | Neocera, Llc | Method and apparatus for contactless high-resolution determination and control of an object position |
TWI717162B (zh) * | 2019-12-20 | 2021-01-21 | 國家中山科學研究院 | 一種多軸加工裝置及其補償方法 |
CN114428398B (zh) * | 2020-10-29 | 2023-12-26 | 北京七鑫易维信息技术有限公司 | 一种光斑与光源的匹配方法、装置、设备及存储介质 |
TWI745205B (zh) * | 2020-12-28 | 2021-11-01 | 國家中山科學研究院 | 機械手臂重複定位精度量測之裝置及方法 |
CN113077429B (zh) * | 2021-03-30 | 2022-09-23 | 四川大学 | 基于相邻子区相关系数的散斑质量评价方法 |
US11554506B2 (en) * | 2021-03-31 | 2023-01-17 | National Chung Shan Institute Of Science And Technology | Device and method for measuring repeated positioning precision of robotic arm |
CN114298939B (zh) * | 2021-12-30 | 2024-02-02 | 西安交通大学 | 一种基于孔径合成的叠层强度相干成像方法及设备 |
CN114459592A (zh) * | 2022-01-21 | 2022-05-10 | 厦门大学 | 一种基于卷帘快门式cmos的激光散斑微振动测量系统及方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59134006U (ja) | 1983-02-24 | 1984-09-07 | 横河電機株式会社 | 光学式機械量測定装置 |
JP2538456B2 (ja) * | 1991-08-12 | 1996-09-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学的変位量測定装置 |
JP2527403B2 (ja) * | 1993-10-08 | 1996-08-21 | 岸本産業株式会社 | レ―ザ光を利用したスペックルパタ―ンによる被計測物の移動量の修正方法ならびにその装置 |
US6642506B1 (en) * | 2000-06-01 | 2003-11-04 | Mitutoyo Corporation | Speckle-image-based optical position transducer having improved mounting and directional sensitivities |
US6873422B2 (en) * | 2000-12-08 | 2005-03-29 | Mitutoyo Corporation | Systems and methods for high-accuracy displacement determination in a correlation based position transducer |
US7110120B2 (en) | 2003-01-24 | 2006-09-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Movement-direction determination apparatus |
US7737947B2 (en) * | 2003-10-16 | 2010-06-15 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Tracking motion using an interference pattern |
JP4142592B2 (ja) | 2004-01-07 | 2008-09-03 | シャープ株式会社 | 光学式移動情報検出装置およびそれを備えた電子機器 |
US7242466B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-07-10 | Microsoft Corporation | Remote pointing system, device, and methods for identifying absolute position and relative movement on an encoded surface by remote optical method |
JP2005308439A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Canon Inc | パターン投影法による三次元形状計測装置 |
CN1947178A (zh) * | 2004-04-28 | 2007-04-11 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 信息载体及在读和/或写设备中定位该信息载体的系统 |
WO2005114100A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-12-01 | Mitutoyo Corporation | Displacement transducer with selectable detector area |
US7042575B2 (en) | 2004-05-21 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Speckle sizing and sensor dimensions in optical positioning device |
US20070139659A1 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Yi-Yuh Hwang | Device and method for capturing speckles |
US7715016B2 (en) * | 2005-12-15 | 2010-05-11 | Chung Shan Institute Of Science And Technology | Image invariant optical speckle capturing device and method |
JP4335218B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2009-09-30 | 國防部軍備局中山科學研究院 | スペックル捕獲デバイス、光学式マウス及びスペックル捕獲方法 |
JP2008002891A (ja) | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Canon Inc | 表面状態検査装置及び表面状態検査方法 |
TW200910160A (en) * | 2007-08-16 | 2009-03-01 | Chung Shan Inst Of Science | Non-deformable light-spot image-acquiring device and its method |
JP2009139134A (ja) | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Ministry Of National Defense Chung Shan Inst Of Science & Technology | 大面積不変形光斑撮像装置及びその方法 |
TW201137762A (en) * | 2010-04-23 | 2011-11-01 | Chung Shan Inst Of Science | System and method for determining whether an individual to be identified as a registered individual |
-
2009
- 2009-12-03 TW TW098141426A patent/TWI402721B/zh active
- 2009-12-10 US US12/634,707 patent/US8144339B2/en active Active
- 2009-12-10 JP JP2009280911A patent/JP5106521B2/ja active Active
-
2010
- 2010-11-25 EP EP10192646.7A patent/EP2336715B1/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011117917A5 (ja) | ||
JP5106521B2 (ja) | スペックルの定位方法およびその定位系統 | |
US11310479B2 (en) | Non-uniform spatial resource allocation for depth mapping | |
JP4966284B2 (ja) | 散乱光を使用して光ナビゲーションを実行するためのシステムおよび方法 | |
US20140168424A1 (en) | Imaging device for motion detection of objects in a scene, and method for motion detection of objects in a scene | |
CN103415780B (zh) | 用于确定测量仪的位置和定向的方法和系统 | |
CN109791201A (zh) | 具有空间光调制的投影仪 | |
US20040004727A1 (en) | Three-dimensional shape measuring method, and three-dimensional shape measuring apparatus | |
JP2005050350A (ja) | 光学ナビゲーション方法及び装置 | |
US11467261B2 (en) | Distance measuring device and moving object | |
JP2002139304A (ja) | 距離測定装置、及び距離測定方法 | |
CN103578278A (zh) | 用于识别并记录至少一个穿行射线场的目标的装置和方法 | |
JP2024128158A (ja) | 測定装置及び測定方法 | |
JP2005157779A (ja) | 測距装置 | |
CN115248440A (zh) | 基于点阵光投射的tof深度相机 | |
JP4918830B2 (ja) | 位置計測システム | |
JP2010134363A (ja) | 照明制御装置および方法 | |
US20230206478A1 (en) | Imaging arrangement and corresponding methods and systems for depth map generation | |
JP5850225B2 (ja) | マーカ検出方法および装置 | |
CN208921064U (zh) | 一种激光相机及其光学成像系统 | |
JP2010117253A (ja) | 画像不変光斑点の捕獲装置と方法 | |
JP2005331413A (ja) | 距離画像取得システム | |
EP3637044B1 (en) | Multi-image projector and electronic device having the multi-image projector | |
US7453080B2 (en) | System for locating a physical alteration in a structure and a method thereof | |
CN115250316A (zh) | 基于调制光场的tof镜面多径去除方法、系统、设备及介质 |