JP2011114271A - 半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 23
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 84
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 80
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 19
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
Abstract
【解決手段】接着シートSは、基材シートBSと、この基材シートBSの一方の面に設けられた接着剤層ADとからなり、半導体ウエハWの回路面に貼付されて当該回路面を保護する。基材シートBS、又は、基材シートBS及び接着剤層ADに分割許容切込Cが形成されることにより、第1、第2分割シートS1、S2が形成可能に設けられ、各分割シートS1、S2毎に剥離可能に設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明の目的は、剥離用テープを用いてウエハから剥離する際に剥離不良が発生することを防止することができる半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法を提供することにある。
基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、
前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられる、という構成を採っている。
前記分割許容切込は、前記基材シートの長手方向に延びる方向に形成される、という構成を採ってもよい。
前記半導体ウエハ加工用接着シートは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられ、
前記半導体ウエハ加工用接着シートを半導体ウエハの一方の面に貼付する工程と、
前記半導体ウエハに所定の処理を施す工程と、
前記分割許容切込を境に前記半導体ウエハ加工用接着シートを分割シート毎又はシート領域毎に半導体ウエハから剥離する工程とを備える、という方法を採っている。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
また、基材シートBSが複数の層から形成されたものでもよい。この場合にでも、分割許容切込によって複数の分割シートが形成可能であれば足りる。
更に、所定の処理として裏面研削加工の他に、ポリッシング加工、ダイシング加工(特に特開2001−110757に開示される先ダイシング加工)、エッチング加工、レジスト加工、フォトマスク加工、洗浄加工等の処理が例示できる。
B 基材シート
C 分割許容切込
S 接着シート(半導体ウエハ加工用接着シート)
S1 第1分割シート(分割シート)
S2 第2分割シート(分割シート)
U1 第1シート領域(シート領域)
U2 第2シート領域(シート領域)
W 半導体ウエハ
Claims (6)
- 半導体ウエハに所定の加工を施す際に当該半導体ウエハに貼付する半導体ウエハ加工用接着シートにおいて、
基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、
前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられていることを特徴とする半導体ウエハ加工用接着シート。 - 前記分割許容切込は、基材シートの一方の面にだけ形成され、その深さが基材シートの厚みより小さく設定されていることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
- 前記分割許容切込の深さは、1の分割シート又は1のシート領域を前記半導体ウエハから剥離する際に、分割許容切込を介して隣接する他の分割シート又は他のシート領域が同時に剥離されないように設定されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
- 前記基材シートは帯状とされ、
前記分割許容切込は、前記基材シートの長手方向に延びる方向に形成されていることを特徴とする請求項1、2又は3記載の半導体ウエハ加工用接着シート。 - 前記分割許容切込及び又はその周辺には、それ以外の領域と異なる着色が施されていることを特徴とする請求項1ないし4の何れかに記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
- 半導体ウエハ加工用接着シートを用いた半導体ウエハの加工方法において、
前記半導体ウエハ加工用接着シートは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられ、
前記半導体ウエハ加工用接着シートを半導体ウエハの一方の面に貼付する工程と、
前記半導体ウエハに所定の処理を施す工程と、
前記分割許容切込を境に前記半導体ウエハ加工用接着シートを分割シート毎又はシート領域毎に半導体ウエハから剥離する工程とを備えていることを特徴とする半導体ウエハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009271419A JP5520015B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009271419A JP5520015B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2013241417A Division JP5690910B2 (ja) | 2013-11-22 | 2013-11-22 | 半導体ウエハ加工用接着シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011114271A true JP2011114271A (ja) | 2011-06-09 |
JP5520015B2 JP5520015B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009271419A Active JP5520015B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5520015B2 (ja) |
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A977 | Report on retrieval |
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