JP2011114271A - 半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 - Google Patents

半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法 Download PDF

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【課題】剥離用テープを用いて半導体ウエハから剥離する際に剥離不良が発生することを防止することができるようにすること。
【解決手段】接着シートSは、基材シートBSと、この基材シートBSの一方の面に設けられた接着剤層ADとからなり、半導体ウエハWの回路面に貼付されて当該回路面を保護する。基材シートBS、又は、基材シートBS及び接着剤層ADに分割許容切込Cが形成されることにより、第1、第2分割シートS1、S2が形成可能に設けられ、各分割シートS1、S2毎に剥離可能に設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法に係り、更に詳しくは、剥離用テープを用いて半導体ウエハから剥離することができる半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法に関する。
半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」と称する場合がある)の処理工程では、ウエハはその回路面や回路面の反対面に、例えば特許文献1に開示されたような接着シートが貼付され、裏面研削やダイシング等の所定の加工が施された後、接着シートは特許文献2に開示されるような剥離装置により、ウエハから剥離される。同文献において、ウエハから接着シートを剥離する工程は、剥離用テープを接着シートに貼付した後、当該剥離用テープとウエハとを相対移動することにより行われる。
特開2005−239889号公報 特開2004−165570号公報 特開2006−156567号公報
ところで、近時、ウエハの径寸法が大型化する傾向があるため、これに応じて接着シートも大型化する。このため、特許文献2のように剥離を行う場合、接着シートを剥離するときに大きな剥離力が必要となり、剥離時に剥離用テープが延びたり切断したりして剥離不良が多発する、という不都合を招来する。
このような不都合を解消すべく、本発明者は試行錯誤を重ね、分割許容切込を形成した半導体ウエハ加工用接着シートを案出した。ここで、切込みを形成した半導体ウエハ用の保護シートとして、特許文献3に開示されたものが知られている。しかしながら、同文献の切込みは、曲率を有するウエハ周縁に保護シートを粘着させるためのものであり、本発明の前記分割許容切込とは、機能や用途が全く異なるばかりでなく、複数の分割シートや複数のシート領域を形成するという概念がどこにも開示されておらず、解決しようとする課題も全く異なっている。従って、特許文献3に記載された発明は、本発明を案出する根拠とするには妥当性を欠くものである。
[発明の目的]
本発明の目的は、剥離用テープを用いてウエハから剥離する際に剥離不良が発生することを防止することができる半導体ウエハ加工用接着シート及びこれを用いた半導体ウエハの加工方法を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明は、半導体ウエハに所定の加工を施す際に当該半導体ウエハに貼付する半導体ウエハ加工用接着シートにおいて、
基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、
前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられる、という構成を採っている。
本発明において、前記分割許容切込は、基材シートの一方の面にだけ形成され、その深さが基材シートの厚みより小さく設定される、という構成を採ることが好ましい。
また、前記分割許容切込の深さは、1の分割シート又は1のシート領域を前記半導体ウエハから剥離する際に、分割許容切込を介して隣接する他の分割シート又は他のシート領域が同時に剥離されないように設定される、という構成も好ましくは採用される。
更に、前記基材シートは帯状とされ、
前記分割許容切込は、前記基材シートの長手方向に延びる方向に形成される、という構成を採ってもよい。
また、前記分割許容切込及び又はその周辺には、それ以外の領域と異なる着色が施される、という構成を採ることができる。
また、本発明の加工方法は、半導体ウエハ加工用接着シートを用いた半導体ウエハの加工方法において、
前記半導体ウエハ加工用接着シートは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられ、
前記半導体ウエハ加工用接着シートを半導体ウエハの一方の面に貼付する工程と、
前記半導体ウエハに所定の処理を施す工程と、
前記分割許容切込を境に前記半導体ウエハ加工用接着シートを分割シート毎又はシート領域毎に半導体ウエハから剥離する工程とを備える、という方法を採っている。
本発明によれば、分割許容切込を形成したので、ウエハに貼付された半導体ウエハ加工用接着シートを剥離するときに、当該半導体ウエハ加工用接着シートを複数の分割シートとして分割シート毎に剥離したり、分割許容切込を挟む一方のシート領域と他方のシート領域とを別々に剥離することができる。各分割シートや各シート領域は半導体ウエハ加工用接着シート全体より小型化されるので、分割許容切込を有しない半導体ウエハ加工用接着シート全体の剥離に比べて剥離に要する力を軽減することができる。これにより、ウエハが大径化した場合であっても、剥離用テープが延びたり切断したりすることを防止でき、剥離不良が発生することを回避することが可能となる。
また、基材シートの一方の面にだけに当該基材シートの厚みより小さい深さの分割許容切込を形成した場合、ウエハ研削時や表面処理時等において、分割許容切込内に浸入した洗浄水や薬液がウエハの搬送中や次工程等で流れ出ることで、他の装置等を汚染したり故障させたりすることを防止することができる。
更に、1の分割シート又は1のシート領域をウエハから剥離する際に、分割許容切込を介して隣接する他の分割シート又は他のシート領域が同時に剥離されないように分割許容切込の深さを設定した場合、複数の分割シート又はシート領域を剥離してしまって、剥離に要する力が大きくなることを防止することができる。
また、分割許容切込を基材シートの長手方向に延びるように形成した場合、半導体ウエハ加工用接着シートを製造する製造工程において、基材シートを繰り出して接着剤層を積層する前の段階や、接着剤層が積層された半導体ウエハ加工用接着シートを巻き取る前の段階等で、カッター装置やスリッタ装置を通過させるだけで、半導体ウエハ加工用接着シートに分割許容切込を簡単に形成することが可能となる。
更に、分割許容切込及び又はその周辺に着色を施した場合、人手や自動剥離装置で分割シート毎又はシート領域毎の剥離を行う場合、目視やセンサ等によって分割許容切込の位置を素早く認識して、半導体ウエハ加工用接着シートの剥離における処理能力が低下することを防止することができる。
実施形態に係る半導体ウエハ加工用接着シート及びウエハの概略斜視図。 図1のA−A断面B矢視図。 半導体ウエハ加工用接着シートを貼付する工程の説明図。 ウエハを研削する工程の説明図。 半導体ウエハ加工用接着シートを剥離する工程の説明図。 (A)〜(D)は、半導体ウエハ加工用接着シートの剥離動作説明図。 (A)及び(B)は、第1及び第2変形例に係る半導体ウエハ加工用接着シートの図2と同様の断面図。 第3変形例に係る半導体ウエハ加工用接着シートの概略斜視図。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1〜図6において、半導体ウエハ加工用接着シートとしての接着シートSは、ウエハWの回路面(図1中上面)や回路面の反対面(図1中下面)に貼付され、裏面研削やダイシング等の所定の処理を施すときに、当該接着シートSが貼付された貼付面を保護可能に設けられている。接着シートSは、基材シートBSと、この基材シートBSの一方の面すなわち図1中下面に設けられた接着剤層ADとを備え、この接着剤層ADを介してウエハWの回路面に貼付可能となっている。
接着シートSには、分割許容切込Cが形成されている。本実施形態では、分割許容切込Cは、接着シートSの中央を通り、その両端が基材シートBSの外縁にそれぞれ達するように形成され、この分割許容切込Cに沿って接着シートSを切断することによって、当該接着シートSを第1及び第2分割シートS1、S2として形成できるようになっている。
前記分割許容切込Cは、図2中実線で示すように基材シートBSだけに形成してもよい。或いは、分割許容切込Cは、同図中二点鎖線で示すように基材シートBSの厚み方向全部と接着剤層ADの厚み方向一部とに形成、換言すれば、接着シートSの厚み未満で基材シートBSの厚みより大きい深さに形成してもよい。なお、分割許容切込Cが接着剤層ADにも及ぶ場合、接着剤層ADの架橋密度を高いものとすることで、研削工程や表面処理工程等において分割許容切込Cから洗浄水や薬液等が浸入して回路が機能しなくなることを回避することができる。分割許容切込Cの深さdは、第1分割シートS1をウエハWから剥離する際に、分割許容切込Cを介して隣接する他の分割シート、つまり、第2分割シートS2が同時に剥離されないように設定されている。本実施形態の接着シートSは、基材シートBSの厚みt1が20〜500μm、接着剤層ADの厚みt2は、5〜300μmに設定され、分割許容切込Cの深さdが15〜400μmのものを採用することができ、例えば、第1、第2分割シートS1、S2をウエハWから剥離する際の剥離力が300〜500mNに対し、分割許容切込Cは、50〜150mNで切断できるように設定されている。なお、接着シートSは、紫外線等のエネルギー線によってその接着力が低下するエネルギー線硬化型の接着シートSを採用してもよい。
また、図1に示されるように、分割許容切込Cの形成位置及び又はその周辺領域には、それ以外の領域と異なる着色Gが施される。この着色Gは、分割許容切込Cの全域に設けてもよいし、分割許容切込Cの一部に設けるようにしてもよい。分割許容切込Cの一部に着色Gを設ける場合には、分割許容切込Cが基材シートBSの外縁と交差する位置、つまり、分割許容切込Cの両端又は一方の端部であってよい。これにより、人手で接着シートSの剥離をするときは、目視によって分割許容切込Cのある位置を認識でき、素早く分割シートS1毎の剥離を行うことができる。また、自動剥離装置で接着シートSの剥離をするときは、例えばカメラやセンサ等の検知手段によって分割許容切込Cのある位置を認識させ、位置認識に時間を費やされることなく各分割シートS1、S2毎の剥離を実現することができる。これにより、接着シートSの剥離における処理能力が低下することを防止することが可能となる。
また、接着シートSは、ウエハWに貼付される前において、帯状の剥離シートRLに所定間隔毎に複数枚仮着され、剥離シートRLはロール状に巻回されている。このような接着シートSは、その製造工程において、帯状の基材シートBSを繰り出して接着剤層ADを積層する前の段階や、当該基材シートBSに接着剤層ADが積層された接着シートSを巻き取る前の段階等で、図示しないカッター装置やスリッタ装置を通過させるだけで、接着シートSに基材シートBSの繰出方向に沿う分割許容切込Cを形成することができる。本実施形態の場合、分割許容切込Cは、帯状の基材シートBSの繰出方向に沿う方向に形成され、接着剤層ADを介して剥離シートRLに仮着された基材シートBS側から、ウエハWの外形形状に沿う円形切り込みを設け、当該円形切り込みの外側に位置する基材シートBS部分及びそれに積層された接着剤層AD部分を剥離して接着シートSが形成されている。
次に、前記接着シートSを用いたウエハWの加工方法について説明する。
先ず、図3に示されるように、直動モータMを介して同図中左右方向に移動可能なテーブルT1上に図示しない搬送手段を介してウエハWを保持させる。このウエハWは、研削加工前とされ、回路面を同図中上向きとしてテーブルT1に保持される。テーブルT1が通過する上方には、剥離シートRLを折り返して繰り出すことで、接着シートSを剥離可能なピールプレートPLが設けられる。剥離シートRLの繰り出しに同期してテーブルT1を同図中左側に移動することで、ピールプレートPL先端で剥離された接着シートSが押圧ローラPRにより押圧されてウエハWの回路面に貼付される。
接着シートSが貼付されたウエハWは、所定の処理としての裏面研削加工を行うため、図4に示されるように、研削装置に搬送されて接着シートSが貼付された面側からテーブルT2に支持される。そして、ウエハWは、グラインダGによって回路面の反対側から所定の厚みになるまで研削される。
研削を終えたウエハWは、図5に示されるように、剥離装置に搬送され研削面側からテーブルT3に支持され、接着シートSが剥離用テープPTを介して剥離されることとなる。この剥離装置では、図6(A)に示されるように、第1分割シートS1の右端側に剥離用テープPTを接着させる。このとき、分割許容切込Cの形成位置及び又はその周辺領域にそれ以外の領域と異なる着色が施されるため、図示しない検知手段によってその着色のある位置を検知させることで、剥離用テープPTを分割許容切込Cに隣接した位置に貼付することが容易に行える。その後、剥離用テープPTを把持するチャックCHとテーブルT2とを駆動させ、第1分割シートS1に貼付された剥離用テープPTとウエハWとを反対方向に相対移動させる。この相対移動により、図5及び図6(B)に示されるように、第1分割シートS1が剥離される。このとき、分割許容切込Cの深さが第2分割シートS2と同時に剥離されないように設定されているので、第1分割シートS1の剥離に追従して第2分割シートS2が持ち上がってしまって、剥離に要する力が大きくなることを防止できるようになっている。
第1分割シートS1の剥離を終えた後、図6(C)及び(D)に示されるように、第2分割シートS2も、第1分割シートS1と同様にウエハWから剥離される。そして、第1、第2分割シートS1、S2の剥離を終えると、図示しない搬送手段によりウエハWが次工程に搬送され、上記同様の動作が繰り返されることとなる。
従って、このような実施形態によれば、分割許容切込Cによって接着シートSを二分割して小型化した各分割シートS1、S2毎に剥離することができる。これにより、分割しない接着シートSを剥離する場合に比べ、剥離時の剥離用テープPTに生じる引っ張り力を軽減することができ、剥離用テープPTが延びたり切断したりすることに起因する剥離不良を防止することが可能となる。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
例えば、分割許容切込Cは、前記実施形態に示した対応に替えて、図7(A)に示されるように、基材シートBSの一方の面すなわち接着剤層AD側の面にだけ形成してもよい。この場合、分割許容切込Cの深さは、基材シートBSの厚みより小さく設定されている。これによれば、研削時や表面処理時等において、載置面(前記実施形態で示したテーブルT2)を伝って分割許容切込C内に浸入した洗浄水や薬液がウエハWの搬送中や次工程等で流れ出ることで、他の装置等を汚染したり故障させたりすることを防止することができる。なお、図7(B)に示されるように、分割許容切込Cを一方の面と他方の面との両方に形成することを妨げるものではない。
また、前記実施形態では、接着シートSを予めウエハWの外形形状に合うように切断したものを例示したが、帯状の剥離シートRLに帯状の接着シートSを積層し、この接着シートSの長手方向の延びる位置に分割許容切込Cを形成してもよい。この場合、ウエハWに貼付する直前でウエハWの外形形状に合うように切断したり、ウエハWに接着シートSを貼付した後にウエハW外縁に沿って接着シートSを切断したりするタイプの貼付装置に利用し得る汎用性を付与することができる。
更に、分割許容切込Cの形成数を2本以上設けたり、形成位置を変更したり、分割許容切込Cの形状を曲線や折れ線形状にする等、種々の変更が可能である。例えば、図8に示されるように、分割許容切込Cの一端だけが基材シートBSの外縁に達するように形成して第1シート領域U1、第2シート領域U2を形成可能に設けてもよい。このような接着シートSをウエハWから剥離する場合、第1シート領域U1に二点鎖線で示される位置に剥離用テープPTを貼付してから、分割許容切込Cの他端側付近を剥離するときに、剥離用テープPTとウエハWとを相対回転させることにより、接着シートSを剥離可能となる。これにより、分割許容切込Cで分割されて小型化したシート領域U1、U2毎に剥離することができる。この場合、着色Gは、分割許容切込Cが基材シートBSの外縁と交差する位置、つまり、分割許容切込Cの一端だけに施されている。ここで、分割許容切込Cの他端側は屈曲形状とされ、回転剥離促進部C1が形成されていてもよい。この回転剥離促進部C1が形成されていることで、ウエハWとチャックCHとを相対回転させて切り込みCの他端P周辺を剥離するときに、剥離領域が徐々に拡大していくようになるので、剥離抵抗が急激に大きくなることを抑制し、他端Pから亀裂が生じて接着シートSが分断されることを防止することができる。なお、回転剥離促進部C1は、直線以外に曲線によって構成してもよい。
また、基材シートBSが複数の層から形成されたものでもよい。この場合にでも、分割許容切込によって複数の分割シートが形成可能であれば足りる。
更に、所定の処理として裏面研削加工の他に、ポリッシング加工、ダイシング加工(特に特開2001−110757に開示される先ダイシング加工)、エッチング加工、レジスト加工、フォトマスク加工、洗浄加工等の処理が例示できる。
AD 接着剤層
B 基材シート
C 分割許容切込
S 接着シート(半導体ウエハ加工用接着シート)
S1 第1分割シート(分割シート)
S2 第2分割シート(分割シート)
U1 第1シート領域(シート領域)
U2 第2シート領域(シート領域)
W 半導体ウエハ

Claims (6)

  1. 半導体ウエハに所定の加工を施す際に当該半導体ウエハに貼付する半導体ウエハ加工用接着シートにおいて、
    基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、
    前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられていることを特徴とする半導体ウエハ加工用接着シート。
  2. 前記分割許容切込は、基材シートの一方の面にだけ形成され、その深さが基材シートの厚みより小さく設定されていることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
  3. 前記分割許容切込の深さは、1の分割シート又は1のシート領域を前記半導体ウエハから剥離する際に、分割許容切込を介して隣接する他の分割シート又は他のシート領域が同時に剥離されないように設定されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
  4. 前記基材シートは帯状とされ、
    前記分割許容切込は、前記基材シートの長手方向に延びる方向に形成されていることを特徴とする請求項1、2又は3記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
  5. 前記分割許容切込及び又はその周辺には、それ以外の領域と異なる着色が施されていることを特徴とする請求項1ないし4の何れかに記載の半導体ウエハ加工用接着シート。
  6. 半導体ウエハ加工用接着シートを用いた半導体ウエハの加工方法において、
    前記半導体ウエハ加工用接着シートは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とからなり、前記基材シート又は基材シート及び接着剤層に分割許容切込が形成されることにより、複数の分割シート又は複数のシート領域が形成可能に設けられ、
    前記半導体ウエハ加工用接着シートを半導体ウエハの一方の面に貼付する工程と、
    前記半導体ウエハに所定の処理を施す工程と、
    前記分割許容切込を境に前記半導体ウエハ加工用接着シートを分割シート毎又はシート領域毎に半導体ウエハから剥離する工程とを備えていることを特徴とする半導体ウエハの加工方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014063945A (ja) * 2012-09-24 2014-04-10 Lintec Corp シート剥離装置及び剥離方法、並びに、シート貼替装置及び貼替方法
JP2018080280A (ja) * 2016-11-17 2018-05-24 リンテック株式会社 半導体用シートの製造方法および製造装置、並びに切り込み刃
JP2021141096A (ja) * 2020-03-02 2021-09-16 リンテック株式会社 シート剥離方法およびシート剥離装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0577229U (ja) * 1992-03-31 1993-10-22 大同特殊鋼株式会社 包装用粘着テープ
JP2004079743A (ja) * 2002-08-16 2004-03-11 Nec Kansai Ltd 半導体基板の表面保護用の粘着テープ及びその剥離方法
JP2009088357A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Toyota Motor Corp 保護テープの除去装置と除去方法
JP2010021344A (ja) * 2008-07-10 2010-01-28 Disco Abrasive Syst Ltd 保護テープ及びウエーハの研削方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0577229U (ja) * 1992-03-31 1993-10-22 大同特殊鋼株式会社 包装用粘着テープ
JP2004079743A (ja) * 2002-08-16 2004-03-11 Nec Kansai Ltd 半導体基板の表面保護用の粘着テープ及びその剥離方法
JP2009088357A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Toyota Motor Corp 保護テープの除去装置と除去方法
JP2010021344A (ja) * 2008-07-10 2010-01-28 Disco Abrasive Syst Ltd 保護テープ及びウエーハの研削方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014063945A (ja) * 2012-09-24 2014-04-10 Lintec Corp シート剥離装置及び剥離方法、並びに、シート貼替装置及び貼替方法
JP2018080280A (ja) * 2016-11-17 2018-05-24 リンテック株式会社 半導体用シートの製造方法および製造装置、並びに切り込み刃
JP2021141096A (ja) * 2020-03-02 2021-09-16 リンテック株式会社 シート剥離方法およびシート剥離装置
JP7463131B2 (ja) 2020-03-02 2024-04-08 リンテック株式会社 シート剥離方法およびシート剥離装置

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