JP2011090766A - 磁気ディスクおよびそのインプリントのためのマスタ型の作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン化媒体垂直型磁気記録ディスクは、パターン化されたサーボ領域を有し、ブロックコポリマーの方向性自己集合を用いて作製されたマスタ型からナノインプリントされる。ディスクは、個々のデータアイランドのパターン化された同心円形データトラックを有し、トラックは、径方向またはトラック横断方向においてトラックピッチを有する。サーボパターンは、ストライプ横断方向においてトラックピッチと実質的に等しいストライプピッチを有する傾斜または非径方向ストライプの山形パターンである。
【選択図】図2
Description
11 基板
13 中心
20 矢印
30 データアイランド
31 ピラー
32 トレンチ
33 平坦化層
100 ドライブ
109 ヘッド
112 ハウジング
120 サーボセクタ
120a、120b フィールド
121 サスペンション
122 ヘッドキャリア
130 アクチュエータ
132 ピボット
134 アーム
135 弓状経路
151、152、153 ゾーン
161、162、163、162a、162b トラック
170a、170b、212、215 径方向線
173 シンクマーク
180、190、180a、180b、190a、190b ストライプ
182a、182b、182c、182d、184a、184b、184c セグメント
200 ベース
205、230 中立層
206 保護層
210 径方向バー
211 径方向空間
212、215 略径方向線
220 第1のブロックコポリマー層
229 穴
230 表面改質層
230’ 変質層
307 同心領域
313、318、319 周方向リング
317 レジスト層
323 周方向セグメント
353 非径方向バンド
357 非径方向バー
358、359 非径方向ストライプ
363 非径方向セグメント
A、B 成分。
Claims (25)
- ディスク基板と、
複数の磁化材料の個々のデータアイランドにパターン化され、かつ前記ディスク基板上で複数の同心で略円形であり、横断方向にトラックピッチを有するデータトラックと、
前記複数のデータトラックを横断して略径方向に延在する前記ディスク基板上の複数の角度的に離間されたサーボセクタを有し、
前記各サーボセクタは、前記データトラックに対して傾斜しており、第1の周方向に傾斜した第1のフィールドと第2の周方向に傾斜した第2のフィールドとが隣接する複数のサーボストライプを有し、前記サーボストライプは、横断方向において前記トラックピッチと略等しいストライプピッチを有する磁気ディスク。 - 前記第1のフィールドにおける前記サーボストライプと前記第2のフィールドにおける前記サーボストライプとは異なる方向に傾斜している請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記データトラックと前記第1のフィールドにおける前記サーボストライプとの間の鋭角は、前記データトラックと前記第2のフィールドにおける前記サーボストライプとの間の鋭角と略同じである請求項2に記載の磁気ディスク。
- 各々の磁化された前記サーボストライプは、非磁性空間により隔てられた磁化セグメントを備える請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記磁化セグメントは、前記データトラックの横断方向に対して略垂直に配向された請求項4に記載の磁気ディスク。
- 個々の前記データアイランドは、前記データトラックに沿う方向にビットピッチを有し、
前記磁化セグメントは、前記データトラックに沿う方向において前記ビットピッチと略等しいセグメントピッチを有する請求項5に記載の磁気ディスク。 - 前記磁化セグメントは、横断方向に対して略垂直に配向された請求項4に記載の磁気ディスク。
- 個々の前記データアイランドは、前記サーボストライプのストライプ横断幅よりも大きいトラック横断幅を有する請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記データトラックは、複数の環状ゾーンに編成された請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記データアイランドおよび前記サーボストライプは、前記ディスク基板から延在するピラーである請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記データアイランドおよび前記ピラーの間には、平坦化層が形成される請求項10に記載の磁気ディスク。
- 中心を有する基板上に、環状ゾーンに編成された略径方向に、概ねnLrad(nは2以上の整数)の周方向間隔を有するトレースのパターンを形成するステップと、
前記径方向トレースの前記パターン上に、第1および第2の成分の略径方向線に自己集合するように前記トレースにより誘導され、前記第1の成分の前記径方向線は、概ねLradの周方向間隔を有する第1のコポリマー材料を用いて、バルク周期Lradを有する第1のブロックコポリマーを含む層を形成するステップと、
前記基板上に、概ねnLcirc(nは2以上の整数)の径方向間隔を有する同心リングのパターンと、前記同心リングのパターンから角度的に離間され、前記同心円リングのパターンと平行な非径方向であって、概ねnLcircのバンド間隔を有するバンドのパターンとを形成するステップと、
前記パターン上に、第1および第2の成分の同心リングと、前記第1および第2の成分の平行な非径方向ストライプとに自己集合するように前記同心リングおよび前記バンドにより方向付けられ、バルク周期Lcirc(Lcircは2Lrad以上)を有する第2のブロックコポリマーを含む材料の層を形成するステップとを含む、磁気ディスクをインプリントする際に用いるマスタ型を作製するための方法。 - 前記基板上に第1のブロックコポリマーを含む層を形成するステップは、前記第1のブロックコポリマーの層を堆積させ、前記堆積させた第1のブロックコポリマーをアニーリングして、前記第1のブロックコポリマーの前記第1および第2の成分への相分離を生じさせるステップを含み、
前記基板上に第2のブロックコポリマーを含む層を形成するステップは、前記第2のブロックコポリマーの層を堆積させ、前記堆積させた第2のブロックコポリマーをアニーリングして、前記第2のブロックコポリマーの前記第1および第2の成分への相分離を生じさせるステップを含む、請求項12に記載の方法。 - 前記同心リングの前記パターンおよび平行な非径方向バンドの前記パターンを形成するステップの前に、
前記第1のブロックコポリマーの前記第2の成分の前記径方向線を除去するステップと、
前記第1のブロックコポリマーの前記第1の成分の前記径方向線を残すステップと、
前記第1のブロックコポリマーの前記第1の成分の前記径方向線上に保護層を堆積させるステップをさらに含む、請求項12に記載の方法。 - 同心リングの前記パターンおよび平行な非径方向バンドの前記パターンを形成するステップは、前記第1のブロックコポリマーの前記第1成分の前記径方向線上の前記保護層上に、同心リングおよび平行な非径方向バンドのレジストパターンを形成するステップを含み、
さらに、
前記第1のブロックコポリマーの前記第1の成分の前記径方向線の前記レジストにより保護されていない部分から前記保護層をエッチングするステップと、
前記第1のブロックコポリマーの前記第1の成分の前記径方向線の前記レジストにより保護されていない部分をエッチングするステップと、
前記レジストを除去し、前記第1のブロックコポリマーの第1の成分のピラーのパターンを残すステップと、
前記第1のブロックコポリマーの第1の成分の前記ピラーをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングするステップと、
前記第1のブロックコポリマーの第1の成分の前記ピラーを除去し、基板材料のピラーのパターンを有する基板を残すステップとをさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 前記基板上に、同心リングのパターンおよび平行な非径方向ストライプのパターンを形成するステップは、
前記保護層上に、前記第2のブロックコポリマーのいずれの成分に対しても強い親和性を有さない中立ポリマーブラシ材料の層を堆積させるステップと、
前記中立ポリマーブラシ材料上に、同心リングおよび平行な非径方向バンドのレジストパターンを形成するステップと、
前記レジストにより保護されていない前記中立ポリマーブラシ材料を化学的に改質するステップと、
前記レジストを除去し、化学的に改質した中立ポリマーブラシ材料の同心リングおよび平行な非径方向バンドのパターンを残すステップと、
前記第2のブロックコポリマー材料の層を堆積させ、前記堆積させた第2のブロックコポリマー材料をアニーリングして、前記第2のコポリマーの交互の第1および第2の成分の前記略同心リングならびに前記第2のコポリマーの交互の第1および第2の成分の前記平行な非径方向ストライプへの相分離を生じさせるステップを含む、請求項14に記載の方法。 - 前記第1のコポリマーの前記第2の成分の前記径方向線を除去するステップと、
前記第2のコポリマーの前記第2の成分の前記同心リングおよび平行な非径方向ストライプを除去し、前記第2のコポリマーの前記第1の成分の同心リングおよび平行な非径方向ストライプならびに前記第1のコポリマーの前記第1の成分の径方向線のグリッドを残すステップと、
前記グリッドをエッチングマスクとして用いて、前記基板をエッチングするステップと、
前記グリッドを除去し、前記基板材料に穴のパターンを有する基板を残すステップと、をさらに含む請求項12に記載の方法。 - 略径方向線の前記パターンは、前記基板上に形成され、
同心リングおよび平行な非径方向ストライプの前記パターンは、径方向線の前記パターン上に形成される請求項12に記載の方法。 - 同心リングおよび平行な非径方向ストライプの前記パターンは、前記基板上に形成され、
略径方向線の前記パターンは、同心リングおよび平行な非径方向ストライプの前記パターン上に形成される請求項12に記載の方法。 - 前記第1のブロックコポリマー材料は、ポリスチレンおよびポリメチルメタクリレートのコポリマーである、請求項12に記載の方法。
- 前記第1および第2のブロックコポリマー材料の各々は、ポリスチレンの第1の成分およびポリメチルメタクリレートの第2の成分のジブロックコポリマー材料であり、
前記第1のコポリマー材料の分子量は、前記第2のブロックコポリマー材料の分子量と異なる請求項12に記載の方法。 - Lradは約5nm〜30nmである請求項12に記載の方法。
- 前記環状ゾーンの内径における前記略径方向トレースの前記周方向間隔は、約0.9nLrad以上であり、
前記環状ゾーンの外径における前記略径方向トレースの前記周方向間隔は、約1.1nLrad以下である、請求項12に記載の方法。 - 前記略径方向トレースは略弓形状を有する、請求項12に記載の方法。
- 前記基板上に環状ゾーンに編成された略径方向トレースのパターンを形成するステップは、前記トレースを複数の径方向に離間された環状ゾーンとして形成するステップを含む、請求項12に記載の方法。
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