JP2011086377A - 発光デバイス、プラズマディスプレイパネルおよびプラズマディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】反射層を備えた発光デバイスにおいて、従来の反射層は球状の粒子で形成されていたため、発光層からの光を充分に反射させることができないという課題があった。
【解決手段】基板（１１）と、前記基板（１１）上に設けられた発光層（１３）と、前記基板（１１）と前記発光層（１３）との間に設けられた反射層（１２）と、を備えた発光デバイス（１０）であって、前記反射層（１２）は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子（２０）で形成した。
【選択図】 図１

Description

本発明は、発光デバイス、プラズマディスプレイパネルおよびプラズマディスプレイ装置に関する。

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう。）を用いたプラズマディスプレイ装置は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、５０インチクラスから１００インチを越えるクラスのフルスペックのハイビジョンテレビや大型公衆表示装置として用いられている。

近年では、ＰＤＰの輝度向上を目的とした検討が行なわれている。

例えば、特許文献1は、蛍光体層の下層側に反射性を備えたガラスビーズを配置することで、背面側に放出された蛍光体からの光を前面側に反射させ、ＰＤＰの発光輝度を増大させる技術を開示している。
特開２００２−３３４６５９号公報

しかしながら、特許文献１が開示する構成では、蛍光体から放出された光を充分に前面側に反射させることができないという課題があった。特許文献１が開示する構成では、反射性を備えた材料として球形のガラスビーズを用いているので、蛍光体から放出された光は、その隙間を通ってガラスビーズで形成された反射層内を乱反射し、背面側の隔壁や背面基板に至り、そこで吸収されてしまう。

本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、輝度が高い発光デバイス、プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイ装置を提供することを目的とする。

上記目的は、以下のような発光デバイス、プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイ装置により達成できる。

当該発光デバイスは、基板と、前記基板上に設けられた発光層と、前記基板と前記発光層との間に設けられた反射層と、を備え、前記反射層は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子で形成されている。

また、当該プラズマディスプレイパネルは、主面に複数の凹部を有する基板と、前記凹部の内側に形成された蛍光体層と、前記凹部内面と前記蛍光体層との間に形成された反射層と、を備え、前記反射層は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子で形成されている。

また、当該プラズマディスプレイ装置は、上述のプラズマディスプレイパネルを備えている。

本発明によれば、輝度が高い発光デバイス、プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイ装置を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。

（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る発光デバイス１０の概略構成を示す断面図である。

発光デバイス１０は、基板１１と反射層１２と発光層１３とで構成されている。反射層１２は、基板１１と発光層１３との間に形成されている。具体的には、基板１１上に反射層１２が形成され、反射層１２上に発光層１３が形成されている。

基板１１は、その上に形成される各層を支持する。基板１１は、その上に形成される各層を支持できる材料、形状とする。具体的には、ガラス基板や石英基板、セラミック基板等を用いることができる。

発光層１３は、反射層１２上に形成されている。発光層１３は、光を発する。発光層１３の材料は、具体的には、紫外線を照射することで発光する蛍光体材料や、電界を印加することで発光する半導体材料等を用いることができる。

反射層１２は、基板１１上に形成されている。反射層１２は、発光層１３が発した光を反射する。反射層１２は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子（以下、板状粒子２０ともいう）が積層して形成されている。板状粒子２０については後述する。反射層１２は、例えば、スクリーン印刷法やインクジェット法等により形成される。反射層１２の膜厚は、１μｍ以上１００μｍ以下とするのが好ましい。また、反射層１２の膜厚は５μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましい。反射層１２の膜厚が１μｍより小さいと、光を充分に反射させることができない。また、反射層１２の膜厚が１００μｍより大きいと反射率が飽和するため、反射層の役割としてはこれより厚い必要はない。

図２(a)および(b)は、反射層１２を形成する板状粒子２０の粒子形状例を示した模式図である。

板状粒子２０は、扁平な面を有している。板状粒子２０の扁平な面のうち、最も面積の大きい面の最も大きい幅を「長軸径２１」という。また、板状粒子２０の扁平な面のうち、最も面積の大きい面に直交する方向の厚みを「板状粒子の厚み２２」という。板状粒子の厚み２２は、扁平な面の長軸径２１よりも小さい。扁平な面の長軸径寸法を厚み寸法で除したアスペクト比（以下、単に「アスペクト比」ともいう。）は、１より大きく１００以下であるのが好ましい。

板状粒子２０の長軸径は、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。なお、ここでは例として、(a)および(b)を示したが、扁平な面の形は、これらに限定されるものではなく、円形や楕円形、多角形など、他のいかなる形であってもよい。

板状粒子２０は、アルミナ（酸化アルミニウム）、チタニア（酸化チタン）、チタン酸バリウム、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、マグネシア（酸化マグネシウム）、酸化亜鉛、硫酸バリウムなどから選択される１または複数種の材料で形成される。これらは、無機酸化物の一例である。また、これらは、光を反射する材料の一例である。

図１に示すように、第１実施形態における板状粒子２０は、その扁平な面が基板１１の主面と略平行という配向性を有する状態で積層されていてもよい。尚、このような配向性の実現に関し、実際に実験検討を行なった結果、スクリーン印刷、ディスペンサ方式、インクジェット方式などの一般的なコーティング方法によって形成できることを確認している。

第１実施形態に係る発光デバイスは、反射層に板状粒子２０を用いた点に特徴を有している。以下、本実施形態の特徴部分についてさらに詳細に説明する。なお、説明の便宜上、図１における発光層１３よりも上側に向かう方向を前面方向と称し、その反対方向を背面方向と称する。

発光層１３から放出される光の一部は、背面方向に放出される。第１実施形態では、反射層１２に板状粒子２０を用いている。そのため、球状の粒子を用いた従来の反射層に比べると、反射率が高い。要因の一つとして、板状粒子間の隙間に入った光が他の板状粒子に反射されて、前面方向に出ていきやすいということが考えられる。そのため、背面方向に放出される光は、粒子の隙間を通って基板へと抜ける確率が低くなっているものと考えられる。したがって、反射層１２は、背面方向に放出される光を効率よく前面方向に反射させることができる。

また、板状粒子２０における扁平な面は、基板と略平行に配向した状態で積層されていてもよい。このような構成にすることで、板状粒子２０における扁平な面は、発光層に対向する構成となる。そのため、背面方向に放出された光をより確実に前面方向に反射させることができる。したがって反射層１２は、背面方向に放出される光を、より効率よく前面方向に反射させることができる。

また、板状粒子のアスペクト比は、１より大きく１００以下であってもよい。このような構成にすることで、上述したような、板状粒子２０における扁平な面が基板と略平行に配向した状態で積層されているという構成を実現しやすくなる。

また、第1実子形態に係る発光デバイスは、プラズマディスプレイ装置やエレクトロルミネッセンス装置などの表示装置等に適用してもよい。

（実施例）
（反射層の実施例）
反射膜の実施例として、板状粒子２０からなる反射層１２と、従来の球状粒子からなる反射層を作製し、反射率の比較を行なった。
図３は、板状粒子２０からなる反射層１２を示す概略断面図であり、図４は、従来の球状粒子４０からなる反射層４１を示す概略断面図である。

以下に実施例１〜３及び比較例１〜３を示す。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

実施例１は、ガラス基板上に、スクリーン印刷を用いて塗布し反射層を形成したものである。反射層１２は、板状のアルミナ粒子により形成されている。反射層の膜厚は、スクリーン印刷を用いて重ね塗りすることで制御した。なお、本実施例に用いたスクリーン印刷は、１回の塗布で膜厚５μｍの反射層を形成することができるので、塗布回数により反射層の膜厚を任意に設定することができる。

実施例１では、平均粒径（長軸径）が２μｍ、平均板厚が０．０４μｍ、アスペクト比が約５０の板状のアルミナ粒子を使用した。反射層１２の膜厚は５μｍとした。反射層の断面をＳＥＭで観察したところ、板状のアルミナ粒子における扁平な面は、ガラス基板と略平行に配向した状態で積層していた。

次に、実施例２として、膜厚が１０μｍの反射層１２を作製した。反射層１２の膜厚以外は、実施例１と同様の材料及び製法を用いた。

次に、実施例３として、膜厚が１５μｍの反射層１２を作製した。反射層１２の膜厚以外は、実施例１と同様の材料及び製法を用いた。

次に、比較例１として、平均粒径０．５μｍの球状のアルミナ粒子からなる反射層を形成した。比較例１の反射層の膜厚は５μｍとした。反射層に球状のアルミナ粒子を用いた以外は、上述した実施例１と同様の材料及び製法を用いた。

次に、比較例２として、膜厚が１０μｍの反射層を作製した。反射層の膜厚以外は、比較例１と同様の材料及び製法を用いた。

次に、比較例３として、膜厚が１５μｍの反射層を作製した。反射層の膜厚以外は、比較例１と同様の材料及び製法を用いた。

このように作製した各反射層の反射率を、分光光度計（島津製作所製）を用いて測定した。この分光光度計では、リファレンスとして硫酸バリウムを用いた。すなわち、各反射率は、硫酸バリウムの反射率を基準（１００％）としたときの値である。

図５は、実施例１〜３及び比較例１〜３に対し波長５５０ｎｍの光を反射させたときの反射率をプロットしたグラフである。縦軸は反射率（％）、横軸は反射層の膜厚（μｍ）である。板状のアルミナ粒子を用いた反射層は、球状のアルミナ粒子を用いた反射層に比べ、約１０％程度反射率が向上する結果となった。

（発光デバイスの実施例）
発光デバイスの実施例として、板状粒子２０からなる反射層１２と、従来の球状粒子からなる反射層に膜厚５μｍの蛍光体層を形成し、発光デバイスの輝度の比較を行なった。蛍光体材料しては、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕを用いた。以下に実施例４〜６及び比較例４〜６を示す。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

実施例４〜６は、実施例１〜３で作製した反射層１２の上に、膜厚５μｍの蛍光体層をスクリーン印刷法により形成したものである。

比較例４〜６は、比較例１〜３として作製した反射層の上に膜厚５μｍの蛍光体層をスクリーン印刷法により形成したものである。

また、比較例７として、ガラス基板上に蛍光体層のみを形成した発光デバイスを作製した。

このようにして作製した発光デバイスの輝度は、真空紫外励起蛍光測定装置を用いて測定した。

図６は、実施例４〜６の輝度と比較例４〜７の輝度をプロットしたグラフである。縦軸は発光デバイスの輝度、横軸は反射層と蛍光体層とを合わせた膜厚となっている。ここで、発光デバイスの輝度は、比較例７の輝度を基準値「１」とした。すなわち、実施例４〜６及び比較例４〜６の輝度は、比較例７に対する相対的な値となっている。

実施例４の輝度は１．１４、実施例５の輝度は１．１１、実施例６の輝度は１．１２となった。また、比較例４の輝度は１．０７、比較例５の輝度は１．０２、比較例６の輝度は１．０２となった。このように、反射膜を板状粒子で形成することにより、発光デバイスの輝度が向上することが確認できた。また、板状粒子で形成された反射層は、膜厚に依存せず、球状粒子で形成された反射層よりも高い輝度を得ることができることがわかった。

（第２実施形態）
以下、第２実施形態に係るＰＤＰについて図面を用いて説明する。
第２実施形態は、第1実施形態に係る発光デバイスをＰＤＰに適用した実施形態である。

＜ＰＤＰの構成＞
図７は、第１実施形態に係るＰＤＰ１００の概略構成を示す部分断面斜視図である。図８は第１実施形態に係るＰＤＰ１００の電極配列図である。

ＰＤＰ１００は、前面パネル１３０と背面パネル１４０とで構成されている。

＜前面パネルの説明＞
前面パネル１３０は、前面ガラス基板１０１と維持電極１０３と走査電極１０４と誘電体ガラス層１０５とＭｇＯ保護層１０６を備えている。

ここで、「前面」とは、ＰＤＰ１００により作成される画像を視聴者が視認する視聴者側の面を意味し、「背面」とは、「前面」の反対側の面を意味する。

前面ガラス基板１０１は、可視光を透過する透明基板である。前面ガラス基板１０１は、ガラス材料からなり、例えば硼硅酸ナトリウム系ガラスなどが用いられる。前面ガラス基板１０１は、フロート法などを用いて製造される。

維持電極１０３及び走査電極１０４は、それぞれＮ本が互いに平行に対をなして配置されている。第１実施形態では、それぞれＮ本の維持電極１０３と走査電極１０４が、維持電極１０３−走査電極１０４−維持電極１０３−走査電極１０４−・・・となるよう交互に配置されている。

維持電極１０３及び走査電極１０４は、放電空間１２２に、放電に必要な電力を供給する。維持電極１０３及び走査電極１０４は、蛍光体層１１０から放出される光を妨げないように、透明電極で形成されてもよい。また、維持電極１０３と走査電極１０４は、電気抵抗の低減を目的としてバス電極（図示せず）を備えても良い。バス電極の材料は、電気抵抗が小さい金属が好ましい。

誘電体ガラス層１０５は、維持電極１０３と走査電極１０４を覆って形成されている。誘電体ガラス層１０５は、コンデンサとして働き、放電で生じた電荷を蓄積するメモリー機能を有している。誘電体層１０５は、高電圧が印加されても絶縁破壊しないよう耐圧性に優れているものが好ましい。また、放電による発光を妨げないように可視域において高い透過性を備えているものが好ましい。誘電体ガラス層１０５に用いる材料としては、低融点ガラス粉末を、有機溶剤や樹脂に混ぜたものを用いることができる。

ＭｇＯ保護層１０６は、前面パネル１０１における背面パネル１０２と対向する面の最表面に、誘電体ガラス層１０５を覆うように形成される。ＭｇＯ保護層１０６は、耐衝撃性、電子放出特性、メモリー機能を備える。ＭｇＯ保護層１０６は、耐衝撃性を備えることにより、放電による衝撃から誘電ガラス層１０５を保護することができる。また、ＭｇＯ保護層１０６は、電子放出特性を備えることにより、二次電子が放出されるため放電を維持しやすくなる。また、ＭｇＯ保護層１０６は、メモリー機能を備えることで、電荷を蓄積することができる。ＭｇＯ保護層１０６は、主にスパッタリングや電子ビーム蒸着法で、薄膜に形成される。

＜背面パネルの説明＞
背面パネル１４０は、背面ガラス基板１０２とアドレス電極１０７と下地誘電体ガラス層１０８と隔壁１０９と蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂと反射層１１１を備えている。

背面ガラス基板１０２は、前面ガラス基板１０１と所定の間隔を空けて、前記ガラス基板１０１と対向して配置されている。前面ガラス基板１０１と背面ガラス基板１０２との空間を、隔壁１０９により仕切ることで、複数の放電空間１２２は形成される。背面ガラス基板１０２は、前面ガラス基板１０１と同様にガラス材料を用いて製造されるが、必ずしも透光性は必要ではない。

アドレス電極１０７は、維持電極１０３と走査電極１０４との間の維持放電をさらに容易にするためのアドレス放電を起こすためのものである。具体的には、維持放電が起こるための電圧を低める機能を有している。アドレス放電は、走査電極１０４とアドレス電極１０７との間に起こる放電である。

アドレス電極１０７は、背面ガラス基板１０２の前面側に形成されている。アドレス電極１０７は、Ｍ本が平行に配置されている。前面ガラス基板１０１と背面ガラス基板１０２を張り合わせる際、アドレス電極１０７は、維持電極１０３及び走査電極１０４と直交するように配置される。このように配置することで、維持電極１０３と走査電極１０４とアドレス電極１０７は３電極構造の電極マトリックス構造となる。

アドレス電極１０７に用いる材料としては、電気抵抗が低い金属材料が好ましく、特に銀が好ましい。

下地誘電体ガラス層１０８は、アドレス電極１０７を覆うように形成されている。下地誘電体ガラス層１０８は、アドレス電極１０７の電流制御、絶縁破壊からの保護という機能を備えている。下地誘電体ガラス層１０８には、前面パネル１０１における誘電体ガラス層１０５と同様の材料を用いることができる。

隔壁１０９は、下地誘電体ガラス層１０８の前面側に形成されている。隔壁１０９は、前面パネル１０１と背面パネル１３との間の空間を仕切ることで、複数の放電空間１２２を形成する。放電空間１２２には、Ｎｅ−Ｘｅなどの混合ガスが放電ガスとして封入されている。

隔壁１０９は、サンドブラスト法、印刷法、フォトエッチング法などにより形成することができる。また、隔壁１０９には、低融点ガラスや骨材などを含んだ材料を用いることができる。

隔壁１０９は、ＰＤＰ１００の前面側から見たとき、格子状となるよう形成されている。しかし、隔壁１０９の形状は、複数の放電空間１２２を形成できる形状であればよく、格子状に限定されるものではない。例えば、ストライプ状や、規則的に蛇行したミアンダ状であってもよい。また、放電空間１２２の形状も方形に限定されるものではない。例えば、三角形や五角形などの多角形や、円形や楕円形であってもよい。つまり、背面パネル１４０の前面側に複数の凹部が設けられていればよい。

蛍光体層１１０は、色の３原色である赤色、緑色、青色のそれぞれの色を発光する赤色発光層１１０Ｒ、緑色蛍光体層１１０Ｇ、青色蛍光体層１１０Ｂからなる。

隔壁１０９により形成された複数の凹部の内側には、蛍光体層１１０として、それぞれ赤色蛍光体粒子、緑色蛍光体粒子、青色蛍光体粒子が所定の厚さに形成されている。蛍光体粒子は、紫外線を受けて可視光を放出する機能を有していればよく、一般的に知られる蛍光体材料を用いることができる。赤色蛍光体層１１０Ｒには、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕ^３＋やＹ_２Ｏ_３：Ｅｕ^３＋等を用いることができる。緑色蛍光体層１１０Ｇには、Ｚｎ_２ＳｉＯ_４：Ｍｎ^２＋等を用いることができる。青色蛍光体層１１０Ｂには、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１7：Ｅｕ^２＋等を用いることができる。

図９は、背面パネル１４０の断面概略図である。以下、図１０を用いて、反射層１１１の説明をする。なお、反射層１１１を形成する板状粒子２０は、第１実施形態と同じものなので、ここでは説明を省略する。

反射膜１１１は、背面パネル１４０の前面側に形成された凹部の内面と、蛍光体層１１０との間に形成されている。具体的には、反射層１１１は、下地誘電体ガラス層１０８の前面側の面上と隔壁１０９の側面に形成されている。

反射膜１１１は、扁平な面を有する板状粒子２０により形成されている。

放電によって発生した紫外線は、蛍光体層１１０のごく表面層（表面から０．１μｍ程度）で吸収され、蛍光体を励起し、蛍光体から光が放出される。この光は、全てが前面方向へ放出されるわけではなく、一部の光は、背面方向へ放出される。ここで、「蛍光体層の表面」は、蛍光体層１１０における放電空間１２２に露出する面のことを意味する。また、「前面方向」は、蛍光体層１１０から放電空間１２２へ向かう方向のことを意味する。また、「背面方向」は、蛍光体層１１０から隔壁１０９及び下地誘電体ガラス層１０８へ向かう方向を意味する。別の表現を用いると、「背面方向」は、蛍光体層１０８から背面パネル１４０に形成された凹部へ向かう方向、と表現することもできる。

反射層１１１は、蛍光体層１１０から蛍光体層１１０の背面方向へ放出された光を、前面方向へ反射する。

＜第２実施形態の特徴＞
本実施の形態におけるＰＤＰ１００は、扁平な面を有する板状粒子２０により反射層１１１を形成した点が従来のＰＤＰとは異なる。第２実施形態では、反射層１１１に板状粒子２０を用いている。そのため、球状の粒子を用いた従来の反射層に比べると、反射率が高い。要因の一つとして、板状粒子間の隙間に入った光が他の板状粒子に反射されて、前面方向に出ていきやすいということが考えられる。そのため、背面方向に放出される光は、粒子の隙間を通って、隔壁１０９や下地誘電体ガラス層１０８へと抜ける確率が低くなっているものと考えられる。したがって、反射層１１１は、背面方向に放出される光を効率よく前面方向に反射させることができる。

図１０は、反射層１１１を示す概略断面図である。板状粒子の扁平な面は、前記反射膜の膜厚方向を向いて積層していてもよい。このような構成にすることで、板状粒子２０における扁平な面は、蛍光体層１１０に対向する構成となる。そのため、背面方向に放出された光をより確実に前面方向に反射させることができる。したがって反射層１１１は、背面方向に放出される光を、より効率よく前面方向に反射させることができる。なお、このような構成の実現に関し、実際に実験検討を行なった結果、通常の蛍光体インクやペーストを用いてのスクリーン印刷、ディスペンサ方式、インクジェット方式などの一般的なコーティング方法によって成されることを確認している。

また、板状粒子のアスペクト比は、１より大きく１００以下であってもよい。このような構成にすることで、上述したような、板状粒子２０における扁平な面が蛍光体層に対向する構成を実現しやすくなる。

反射層１１１の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下とするのが好ましい。また、反射層１１１の膜厚は５μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましい。反射層１１１の膜厚が１μｍより小さいと、光を充分に反射させることができない。また、反射層１２の膜厚が５０μｍより大きいと放電空間１２２が狭くなってしまうので、放電特性が悪くなってしまう。

＜ＰＤＰの製造方法＞
次に、ＰＤＰ１００の製造方法について、図７と図８を参照しながら説明する。

まず、前面パネル１３０の製造方法について説明する。前面ガラス基板１０１上に、各Ｎ本の維持電極１０３と走査電極１０４をストライプ状に形成する。その後、維持電極１０３と走査電極１０４を誘電体ガラス層１０５でコートする。さらに誘電体ガラス層１０５上にＭｇＯ保護層１０６を形成する。

維持電極１０３と走査電極１０４は、銀を主成分とする電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成される。誘電体ガラス層１０５は、酸化ビスマス系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、焼成して形成する。酸化ビスマス系のガラス材料を含むペーストは、例えば、３０重量％の酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）と２８重量％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）と２３重量％の酸化硼素（Ｂ_２Ｏ_３）と２．４重量％の酸化硅素（ＳｉＯ_２）と２．６重量％の酸化アルミニウムを含む。さらに、１０重量％の酸化カルシウム（ＣａＯ）と４重量％の酸化タングステン（ＷＯ_３）と有機バインダ（α−ターピネオールに１０％のエチルセルロースを溶解したもの）とを混合して、このペーストを形成する。ここで、有機バインダとは、樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、樹脂としてエチルセルロース以外にアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトールなども使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。

誘電体ガラス層１０５は、所定の厚み（約４０μｍ）となるように塗布厚みを調整し形成される。ＭｇＯ保護層１０６は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成るものであり、例えばスパッタリング法やイオンプレーティング法によって所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成される。

次に、背面パネル１４０の製造方法を説明する。背面ガラス基板１０２上に、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し、焼成することによってＭ本のアドレス電極１０７をストライプ状に形成する。アドレス電極１０７の上に酸化ビスマス系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布した後、焼成して下地誘電体ガラス層１０８を形成する。同じく酸化ビスマス系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後に焼成することで、隔壁１０９は形成される。放電空間１２２は、この隔壁１０９によって区画され形成される。隔壁１０９の間隔寸法は、４２インチ〜５０インチのフルＨＤテレビやＨＤテレビに合わせて１３０μｍ〜２４０μｍ程度に規定されている。

隣接する２本の隔壁１０９の間の溝に、反射層１１１を形成する。反射膜１１１は、たとえばスクリーン印刷法やインクジェット法などの塗布方式により形成される。反射層１１１は、例えば長軸径約０．６μｍで厚み約０．０６μｍ（即ち、長軸径寸法を厚み寸法で除したアスペクト比が１０程度）の板状アルミナ（酸化アルミニウム）粒子からなる。尚、板状無機酸化物粒子の材質はアルミナに限定するものではなく、他の材質、例えば、チタニア（酸化チタン）、チタン酸バリウム、マグネシア（酸化マグネシウム）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化亜鉛、硫酸バリウムなどを用いても良い。

次に、反射層１１１の表面に、それぞれ赤色蛍光体層１１０Ｒ、緑色蛍光体層１１０Ｇ、青色蛍光体層１１０Ｂを形成する。各蛍光体層は、たとえばスクリーン印刷法やインクジェット法などの塗布方式により形成される。赤色蛍光体層１１０Ｒは例えば（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕの赤色蛍光体材料からなる。緑色蛍光体層１１０Ｇは例えばＺｎ_２ＳｉＯ_４：Ｍｎの緑色蛍光体材料からなる。青色蛍光体層１１０Ｂは例えばＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕの青色蛍光体材料からなる。

このようにして作製された前面パネル１３０と背面パネル１４０を、前面パネル１３０の走査電極１０４と背面パネル１４０のアドレス電極１０７とが直交するように対向して重ね合わせる。封着用ガラスを前面パネル１３０と背面パネル１４０の周縁部に塗布し、４５０℃程度で１０分〜２０分間焼成する。図８に示すように、封着用ガラスは、気密シール層１２１となり、前面パネル１３０と背面パネル１４０とを封着する。そして、一旦放電空間１２２内を高真空に排気したのち、放電ガス（例えば、ヘリウム−キセノン系、ネオン−キセノン系の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰＤＰ１００が完成する。

（第３実施形態）
図１１は、ＰＤＰ１００を用いたＰＤＰ装置２００の構成を示す概略図である。ＰＤＰ１００は駆動装置１５０と接続されることでＰＤＰ装置２００を構成している。ＰＤＰ１００には表示ドライバ回路１５３、表示スキャンドライバ回路１５４、アドレスドライバ回路１５５が接続されている。コントローラ１５２はこれらの電圧印加を制御する。点灯させる放電空間１２２に対応する走査電極１０４とアドレス電極１０７へ所定電圧を印加することでアドレス放電を行う。コントローラ１５２はこの電圧印加を制御する。その後、維持電極１０３と走査電極１０４との間にパルス電圧を印加して維持放電を行う。この維持放電によって、アドレス放電が行われた放電セルにおいて紫外線が発生する。この紫外線で励起された蛍光体層が発光することで放電セルが点灯する。各色セルの点灯、非点灯の組み合わせによって画像が表示される。

（その他の実施の形態）
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、適宜変更が可能である。以下に、変更の一例を説明する。

たとえば、蛍光体層を板状の蛍光体粒子で形成してもよい。このような構成にすることで、蛍光体層の紫外線吸収量が増大するので、発光輝度を向上させることができる。

また、隔壁１０９の頂部を黒色にしてもよい。ここで、隔壁１０９の頂部とは、隔壁１０９において前面パネル１３０と対向する面のことである。このような構成にすることで、前面パネル１３０側から入射する外光を吸収し、その外光を前面方向に反射させないので、ＰＤＰ１００のコントラストを向上させることができる。

また、第２実施形態では、下地誘電体ガラス層１０８を設けているが、この下地誘電体ガラス層１０８を設けない構成であってもよい。図１２は、下地誘電体ガラス層１０８を設けない構成のＰＤＰの概略構成を示す部分断面斜視図である。図１３は、下地誘電体ガラス層１０８を設けない構成の背面パネルの概略構成を示す断面図である。このような構成にすることで、ＰＤＰ１００を薄型化することができる。

第1実施形態に係る発光デバイスの概略構成を示す断面図 第1実施形態に係る板状粒子の粒子形状例を示した模式図 第1実施形態に係る板状粒子からなる反射層を示す概略断面図 従来の球状粒子からなる反射層を示す概略断面図 実施例１〜３及び比較例１〜３の反射率を示すグラフ 実施例４〜６及び比較例４〜７の輝度を示すグラフ 第２実施形態に係るＰＤＰの部分断面斜視図。 第２実施形態に係るＰＤＰの電極の概略構成を示す平面図 第２実施形態に係るＰＤＰの背面板の部分断面図 第２実施形態に係る反射層中の板状粒子の配置状態を示す模式図 第３実施形態に係るＰＤＰ装置を示す概略図 その他の実施形態に係るＰＤＰの部分断面斜視図 その他の実施形態に係る背面パネルの断面図

符号の説明

１０ 発光デバイス
１１ 基板
１２ 反射層
１３ 発光層
２０ 板状粒子からなる反射層
２１ 板状粒子の長軸径
２２ 板状粒子の厚み
４０ 球状粒子
４１ 球状粒子からなる反射層
１００ ＰＤＰ
１０１ 前面ガラス基板
１０２ 背面ガラス基板
１０３ 維持電極
１０４ 走査電極
１０５ 誘電体ガラス層
１０６ ＭｇＯ保護層
１０７ アドレス電極
１０８ 下地誘電体ガラス層
１０９ 隔壁
１１０ 蛍光体層
１１０Ｒ 赤色蛍光体層
１１０Ｇ 緑色蛍光体層
１１０Ｂ 青色蛍光体層
１１１ 反射層
１２１ 気密シール層
１２２ 放電空間
１３０ 前面パネル
１４０ 背面パネル
１５０ 駆動装置
１５２ コントローラ
１５３ 表示ドライバ回路
１５４ 表示スキャンドライバ回路
１５５ アドレスドライバ回路
２００ ＰＤＰ装置

Claims (13)

1. 基板と、
   前記基板上に設けられた発光層と、
   前記基板と前記発光層との間に設けられた反射層と、を備え、
   前記反射層は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子で形成されている、発光デバイス。
2. 前記無機酸化物粒子におけるにおける扁平な面は、前記基板と略平行に配向した状態で積層されている、請求項１に記載の発光デバイス。
3. 前記無機酸化物粒子における扁平な面の長径寸法を、前記無機酸化物粒子における厚み寸法で除したアスペクト比が１より大きく１００以下である、請求項１または２に記載の発光デバイス。
4. 前記無機粉体粒子における扁平な面の長軸径が、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする、請求項１〜３に記載の発光デバイス。
5. 前記反射層の膜厚は、１μｍ以上１００μｍ以下である、請求項１〜４に記載の発光デバイス。
6. 前記無機酸化物粒子は、アルミナ（酸化アルミニウム）、チタニア（酸化チタン）、チタン酸バリウム、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、マグネシア（酸化マグネシウム）、酸化亜鉛、硫酸バリウムの中から選ばれた少なくとも１または複数種を含むことを特徴とする、請求項１に記載の発光デバイス。
7. 主面に複数の凹部を有する基板と、
   前記凹部の内側に形成された蛍光体層と、
   前記凹部内面と前記蛍光体層との間に形成された反射層と、を備え、
   前記反射層は、扁平な面を有する板状の無機酸化物粒子で形成されている、プラズマディスプレイパネル。
8. 前記反射層は、
   前記無機酸化物粒子の扁平な面が、前記反射膜の膜厚方向を向いて積層している、請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 前記無機酸化物粒子における扁平な面の長軸径寸法を、前記無機酸化物粒子における厚み寸法で除したアスペクト比が１より大きく１００以下である、請求項７または８に記載のプラズマディスプレイパネル。
10. 前記無機粉体粒子における扁平な面の長軸径が、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする、請求項７〜９に記載のプラズマディスプレイパネル。
11. 前記反射層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である、請求項７〜１０に記載のプラズマディスプレイパネル。
12. 前記無機酸化物粒子は、アルミナ（酸化アルミニウム）、チタニア（酸化チタン）、チタン酸バリウム、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、マグネシア（酸化マグネシウム）、酸化亜鉛、硫酸バリウムの中から選ばれた少なくとも１または複数種を含むことを特徴とする、請求項７〜１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
13. 請求項７〜１２に記載のプラズマディスプレイパネルを備えた表示装置。