JP2011085483A - Impedance measuring device - Google Patents

Impedance measuring device Download PDF

Info

Publication number
JP2011085483A
JP2011085483A JP2009238416A JP2009238416A JP2011085483A JP 2011085483 A JP2011085483 A JP 2011085483A JP 2009238416 A JP2009238416 A JP 2009238416A JP 2009238416 A JP2009238416 A JP 2009238416A JP 2011085483 A JP2011085483 A JP 2011085483A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
voltage
impedance
contact state
probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009238416A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Koyama
小山  敦史
Takayuki Terajima
隆幸 寺島
Tatsuya Sato
佐藤  達也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hioki EE Corp
Original Assignee
Hioki EE Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hioki EE Corp filed Critical Hioki EE Corp
Priority to JP2009238416A priority Critical patent/JP2011085483A/en
Publication of JP2011085483A publication Critical patent/JP2011085483A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure measurement accuracy by detecting contact state of a probe. <P>SOLUTION: The impedance measuring device includes a measuring current supply section 6 for supplying a measuring current Im via probes 3a, 3b; a voltage detecting section 7 detecting a voltage Vm1 of a measured object 2 via probes 4a, 4b; a first contact state detecting section 8 for detecting the contact state of an electrode 2a and the probes 3a, 4a; a second contact state detecting section 9 for detecting the contact state of an electrode 2b and the probes 3b, 4b; and a processing section 10 for carrying out measurement processing to measure an impedance Z, from the measured current Im and voltage Vm1. In performing the measurement processing, the processing section 10 repeats a determination processing of the contact state of the probes 3a, 3b, 4a, 4b, based on the detected results at the contact state detecting sections 8, 9, treats the impedance Z as a measured value, when the contact state has not been determined as being defective, until the measurement processing is completed, and reassumes a new measurement processing, when the contact state is determined as being defective. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、測定対象体のインピーダンスを4端子法により測定するインピーダンス測定装置に関するものである。   The present invention relates to an impedance measuring apparatus that measures the impedance of a measurement object by a four-terminal method.

この種のインピーダンス測定装置として、下記特許文献1に開示されたインピーダンス測定装置が知られている。このインピーダンス測定装置は、測定対象体となるインピーダンス素子の電極にそれぞれ接触する一対の第1の測定子および一対の第2の測定子と、第1の測定子を介してインピーダンス素子に電流を供給する電源と、第2の測定子を介してインピーダンス素子に現れた電圧を測定し電流との演算によりインピーダンス値を求める測定手段と、第1の測定子および第2の測定子がインピーダンス素子に接触したことを検知する検知手段と、第1の測定子および第2の測定子を電源および測定手段と検知手段とに選択的に切り換える切換接点を有する切換手段とを備えて構成されている。また、このインピーダンス測定装置では、第1の測定子および第2の測定子は検知手段から電源および測定手段に切り換わった後に通電され、かつ通電停止後に検知手段に切り換わるように、切換接点、電源および測定手段の動作タイミングが設定されている。   As this type of impedance measuring apparatus, an impedance measuring apparatus disclosed in Patent Document 1 below is known. This impedance measuring apparatus supplies a current to an impedance element through a pair of first measuring elements and a pair of second measuring elements that are in contact with electrodes of the impedance element as a measurement object, respectively, and the first measuring element. A power supply for measuring, a measuring means for measuring a voltage appearing in the impedance element through the second measuring element and calculating an impedance value by calculation with a current, and the first measuring element and the second measuring element in contact with the impedance element And a switching means having a switching contact for selectively switching the first measuring element and the second measuring element to the power source, the measuring means, and the detecting means. Further, in this impedance measuring apparatus, the first contact and the second contact are energized after switching from the detection means to the power source and the measurement means, and are switched to the detection means after the energization is stopped, The operation timing of the power supply and the measuring means is set.

このインピーダンス測定装置によれば、インピーダンス素子の電極に測定子が接触したかを確認し、かつ切換接点が測定のため切換動作した後に電源からインピーダンス素子に電流が流れ、測定手段でインピーダンスが測定されるため、測定子が測定のために接触・解放する際には測定子に電流が流れないので、測定子にアークが生じることがなく測定子に摩耗が発生することを防止可能となっている。   According to this impedance measuring apparatus, it is confirmed whether the probe contacts the electrode of the impedance element, and after the switching contact is switched for measurement, a current flows from the power source to the impedance element, and the impedance is measured by the measuring means. Therefore, when the probe contacts / releases for measurement, no current flows through the probe, so that no arc is generated in the probe and it is possible to prevent the probe from being worn. .

特許第3017693号公報(第2頁、第1図)Japanese Patent No. 3017693 (page 2, Fig. 1)

ところが、上記のインピーダンス測定装置には、以下の解決すべき課題が存在している。すなわち、この種のインピーダンス測定装置では、検知手段が、第1の測定子および第2の測定子のインピーダンス素子への接触の完了を検知した後に、第1の測定子および第2の測定子が、検知手段から電源および測定手段に切り換えられ、その後、電源が第1の測定子を介してインピーダンス素子に電流を供給し、測定手段が第2の測定子を介してインピーダンス素子に現れた電圧を測定し、インピーダンス素子に供給されている電流と測定した電圧との演算によりインピーダンスを算出している。   However, the above-described impedance measuring apparatus has the following problems to be solved. That is, in this type of impedance measuring apparatus, after the detection means detects completion of contact of the first measuring element and the second measuring element with the impedance element, the first measuring element and the second measuring element are , Switching from the detection means to the power supply and the measurement means, and then the power supply supplies current to the impedance element via the first probe, and the measurement means supplies the voltage appearing on the impedance element via the second probe. The impedance is calculated by calculating the current supplied to the impedance element and the measured voltage.

このため、インピーダンス測定装置には、検知手段による第1の測定子および第2の測定子(プローブ)のインピーダンス素子への接触完了の検知と、インピーダンスの測定とが直列的に実行されている結果、インピーダンスの測定中に接触不良が発生した場合には、正確なインピーダンスを測定できないという解決すべき課題が存在している。また、測定されたインピーダンスに基づいて、インピーダンス素子(測定対象体)の良否を判別する場合には、正確なインピーダンスを測定できない結果、良品のインピーダンス素子を誤って不良品と判別することになるため、歩留まりが低下するという課題も存在している。   For this reason, the impedance measuring apparatus has a result that the detection unit detects the completion of contact of the first measuring element and the second measuring element (probe) with the impedance element and the measurement of the impedance in series. When a contact failure occurs during impedance measurement, there is a problem to be solved that an accurate impedance cannot be measured. In addition, when determining the quality of the impedance element (measurement object) based on the measured impedance, it is impossible to measure an accurate impedance, and as a result, a non-defective impedance element is erroneously determined as a defective product. There is also a problem that the yield decreases.

本発明は、かかる課題を解決すべくなされたものであり、プローブの接触状態を検出して測定精度を確保して、製造時における歩留まりを向上させ得るインピーダンス測定装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and it is a main object of the present invention to provide an impedance measuring device that can detect the contact state of a probe to ensure measurement accuracy and improve yield during manufacturing. To do.

上記目的を達成すべく請求項1記載のインピーダンス測定装置は、測定対象体の両電極に接触可能な第1電流供給プローブおよび第2電流供給プローブを介して当該測定対象体に測定電流を供給する測定電流供給部と、前記測定対象体に前記測定電流が流れることによって当該測定対象体の前記両電極間に発生する電極間電圧を当該両電極に接触可能な第1電圧検出プローブおよび第2電圧検出プローブを介して検出する電圧検出部と、前記両電極のうちの一方の電極に対する前記第1電流供給プローブおよび前記第1電圧検出プローブの接触状態を検出する第1接触状態検出部と、前記両電極のうちの他方の電極に対する前記第2電流供給プローブおよび前記第2電圧検出プローブの接触状態を検出する第2接触状態検出部と、少なくとも前記測定電流の電流値および前記電極間電圧の電圧値に基づいて前記測定対象体のインピーダンスを測定する測定処理を実行する処理部とを備え、前記処理部は、前記測定処理の実行中において、前記各接触状態検出部による検出の結果に基づく前記各プローブの前記接触状態の判別処理を繰り返し実行して、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別しなかったときには当該測定処理において測定した前記インピーダンスを測定値とし、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別したときには新たな前記測定処理を再開すると共に前記判別処理を繰り返し実行する。   In order to achieve the above object, the impedance measuring apparatus according to claim 1 supplies a measurement current to the measurement object via the first current supply probe and the second current supply probe that can contact both electrodes of the measurement object. A first voltage detection probe and a second voltage that can contact a measurement current supply unit and an interelectrode voltage generated between the two electrodes of the measurement object when the measurement current flows through the measurement object. A voltage detection unit for detecting via a detection probe; a first contact state detection unit for detecting a contact state of the first current supply probe and the first voltage detection probe with respect to one of the electrodes; A second contact state detection unit for detecting a contact state of the second current supply probe and the second voltage detection probe with respect to the other electrode of the two electrodes; and at least A processing unit that performs a measurement process for measuring the impedance of the measurement object based on the current value of the measurement current and the voltage value of the interelectrode voltage, and the processing unit is performing the measurement process, In the measurement process, when the contact state determination process of each probe based on the detection result by each contact state detection unit is repeatedly executed and the contact state is not determined to be defective by the completion of the measurement process, The measured impedance is used as a measurement value, and when the contact state is determined to be defective before the completion of the measurement process, the new measurement process is restarted and the determination process is repeatedly executed.

また、請求項2記載のインピーダンス測定装置は、請求項1記載のインピーダンス測定装置において、前記処理部は、前記電圧検出部によって検出される前記電極間電圧の電圧値についての微分値を単位時間毎に算出しつつ予め規定された基準値と比較する比較処理を前記判別処理と共に繰り返し実行して、前記測定処理の完了までに前記接触状態を不良と判別しなかったときおよび当該比較処理において当該微分値が当該基準値を超えたと判別しなかったときには当該測定処理において測定した前記インピーダンスを前記測定値とし、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別したときまたは当該比較処理において当該微分値が当該基準値を超えたと判別したときには新たな前記測定処理を再開すると共に前記判別処理および前記比較処理を繰り返し実行する。   The impedance measuring apparatus according to claim 2 is the impedance measuring apparatus according to claim 1, wherein the processing unit calculates a differential value for the voltage value of the interelectrode voltage detected by the voltage detecting unit per unit time. A comparison process that is compared with a reference value defined in advance while being calculated is repeatedly executed together with the determination process, and when the contact state is not determined to be defective by the completion of the measurement process, and in the comparison process, the differentiation When it is not determined that the value exceeds the reference value, the impedance measured in the measurement process is used as the measurement value, and when the contact state is determined to be defective by the completion of the measurement process, or the differentiation is performed in the comparison process. When it is determined that the value exceeds the reference value, a new measurement process is restarted and the determination process and the previous Repeating the comparison process to run.

また、請求項3記載のインピーダンス測定装置は、請求項1または2記載のインピーダンス測定装置において、前記処理部は、1つの前記測定対象体に対する前記測定処理の再開の回数が予め規定された上限回数に達したとき、または1つの前記測定対象体に対するすべての前記測定処理の総実行時間が予め規定された上限時間に達したときに、前記1つの測定対象体についての前記測定処理を終了させる。   The impedance measuring device according to claim 3 is the impedance measuring device according to claim 1 or 2, wherein the processing unit is an upper limit number of times that the number of restarts of the measurement process for one measurement object is predetermined. Or when the total execution time of all the measurement processes for one measurement object reaches a predetermined upper limit time, the measurement process for the one measurement object is terminated.

また、請求項4記載のインピーダンス測定装置は、請求項1から3のいずれかに記載のインピーダンス測定装置において、前記処理部は、1つの前記測定対象体に対する前記測定処理の再開の回数を記憶部に記憶させる。   The impedance measuring device according to claim 4 is the impedance measuring device according to any one of claims 1 to 3, wherein the processing unit stores the number of times the measurement process is restarted for one measurement object. Remember me.

請求項1記載のインピーダンス測定装置では、処理部は、測定処理の実行中において、各プローブの接触状態についての判別処理を繰り返し実行して、測定処理の完了までに判別処理において接触状態を不良と判別しなかったときにはその測定処理において測定したインピーダンスを測定値とし、測定処理の完了までに判別処理において接触状態を不良と判別したときには新たな測定処理を再開すると共に判別処理を繰り返し実行する。   In the impedance measuring apparatus according to claim 1, the processing unit repeatedly executes the determination process on the contact state of each probe during the execution of the measurement process, and determines that the contact state is defective in the determination process until the measurement process is completed. If not determined, the impedance measured in the measurement process is used as a measurement value. If the contact state is determined to be defective in the determination process before the completion of the measurement process, a new measurement process is restarted and the determination process is repeatedly executed.

したがって、このインピーダンス測定装置によれば、判別処理を測定処理の実行中に繰り返し実行することにより、各プローブの接触状態の検出結果に基づき測定処理を再開することで測定精度を確保することができる。また、測定されたインピーダンスに基づいて、測定対象体の良否を判別する場合には、接触状態が不良となったときであっても、測定処理を再開して良好な接触状態において正確なインピーダンスを測定することができるため、良品の測定対象体を誤って不良品と判別する事態を確実に回避できる結果、製造時における歩留まりを向上させることができる。   Therefore, according to this impedance measuring apparatus, measurement accuracy can be ensured by restarting the measurement process based on the detection result of the contact state of each probe by repeatedly executing the discrimination process during the execution of the measurement process. . In addition, when determining the quality of the measurement object based on the measured impedance, even when the contact state becomes defective, the measurement process is restarted to obtain an accurate impedance in a good contact state. Since measurement can be performed, it is possible to reliably avoid a situation where a non-defective measurement object is mistakenly determined as a defective product, and as a result, it is possible to improve yield during manufacturing.

また、請求項2記載のインピーダンス測定装置では、電圧検出部によって検出される電極間電圧の電圧値についての微分値を単位時間毎に算出しつつ基準値と比較する比較処理を判別処理と共に繰り返し実行して、測定処理の完了までに接触状態を不良と判別しなかったときおよび比較処理において微分値が基準値を超えたと判別しなかったときには測定処理において測定したインピーダンスを測定値とし、測定処理の完了までに接触状態を不良と判別したときまたは比較処理において微分値が基準値を超えたと判別したときには新たな測定処理を再開すると共に判別処理および比較処理を繰り返し実行する。したがって、このインピーダンス測定装置によれば、例えば、ノイズが重畳したときに得られるような異常な電圧値の電極間電圧を使用したインピーダンスの測定が回避されるため、インピーダンスの測定精度を一層向上させることができる。   Further, in the impedance measuring apparatus according to claim 2, the comparison process for calculating the differential value for the voltage value of the interelectrode voltage detected by the voltage detection unit for each unit time and comparing it with the reference value is repeatedly executed together with the discrimination process. If the contact state is not determined to be defective before the measurement process is completed and if the differential value is not determined to exceed the reference value in the comparison process, the impedance measured in the measurement process is used as the measurement value. When it is determined that the contact state is defective before completion or when it is determined that the differential value exceeds the reference value in the comparison process, a new measurement process is resumed and the determination process and the comparison process are repeatedly performed. Therefore, according to this impedance measuring device, for example, impedance measurement using an inter-electrode voltage having an abnormal voltage value that is obtained when noise is superimposed is avoided, so that impedance measurement accuracy is further improved. be able to.

また、請求項3記載のインピーダンス測定装置によれば、1つの測定対象体に対する測定処理の再開の回数が予め規定された上限回数に達したとき、または1つの測定対象体に対するすべての測定処理の総実行時間が予め規定された上限時間に達したときに、処理部がこの1つの測定対象体についての測定処理を終了させるため、際限なく測定処理等が繰り返されて測定時間が長時間となる事態を回避することができる。   According to the impedance measuring apparatus of claim 3, when the number of restarts of the measurement process for one measurement object reaches a predetermined upper limit number, or for all measurement processes for one measurement object. When the total execution time reaches a predetermined upper limit time, the processing unit ends the measurement process for this one measurement object, so that the measurement process is repeated indefinitely and the measurement time becomes long. The situation can be avoided.

また、請求項4記載のインピーダンス測定装置によれば、処理部が測定処理の再開の回数を記憶部に記憶させるため、この記憶された回数に基づき、回数が増加傾向にあるときには、例えば各プローブが劣化しつつあると判別することができる。したがって、各プローブの交換など、インピーダンス測定装置に対して適切なメンテナンスを実行することができる結果、これによっても、インピーダンスの測定精度の向上を図ることができる。   According to the impedance measuring apparatus of the fourth aspect, since the processing unit stores the number of restarts of the measurement process in the storage unit, when the number of times tends to increase based on the stored number of times, for example, each probe Can be determined as being deteriorated. Therefore, as a result of performing appropriate maintenance on the impedance measuring device such as replacement of each probe, impedance measurement accuracy can be improved also by this.

インピーダンス測定装置1の構成図である。1 is a configuration diagram of an impedance measuring device 1. FIG. インピーダンス測定処理50のフローチャートである。5 is a flowchart of an impedance measurement process 50. プローブの接触状態と測定処理のリトライとの関係を説明するためのタイミングチャートである。It is a timing chart for demonstrating the relationship between the contact state of a probe and the retry of a measurement process. 電圧Vm1の微分値Bと測定処理のリトライとの関係を説明するためのタイミングチャートである。It is a timing chart for demonstrating the relationship between the differential value B of the voltage Vm1, and the retry of a measurement process.

以下、添付図面を参照して、インピーダンス測定装置1の実施の形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the impedance measuring apparatus 1 will be described with reference to the accompanying drawings.

まず、インピーダンス測定装置1の構成について、図1を参照して説明する。   First, the configuration of the impedance measuring apparatus 1 will be described with reference to FIG.

インピーダンス測定装置1は、測定対象体2のインピーダンスZを測定する装置であって、一対の電流供給プローブ3a,3b、一対の電圧検出プローブ4a,4b、駆動機構5、測定電流供給部6、電圧検出部7、第1接触状態検出部8、第2接触状態検出部9、処理部10、記憶部11および出力部12を備えている。   The impedance measuring device 1 is a device that measures the impedance Z of the measurement object 2, and includes a pair of current supply probes 3a and 3b, a pair of voltage detection probes 4a and 4b, a drive mechanism 5, a measurement current supply unit 6, and a voltage. A detection unit 7, a first contact state detection unit 8, a second contact state detection unit 9, a processing unit 10, a storage unit 11, and an output unit 12 are provided.

一対の電流供給プローブ3a,3bは、測定電流供給部6の一対の出力端子(不図示)に接続されている。一対の電圧検出プローブ4a,4bは、電圧検出部7を構成する後述の差動増幅器7aの一対の入力端子(不図示)に接続されている。駆動機構5は、処理部10から出力される制御信号S1に基づいて作動して、一対の電流供給プローブ3a,3bおよび一対の電圧検出プローブ4a,4bを測定対象体2に対して同時に接近させ、また離反させる。この場合、電流供給プローブ3aおよび電圧検出プローブ4aは、駆動機構5によって測定対象体2の一方の電極2aに対して接離させられる。一方、電流供給プローブ3bおよび電圧検出プローブ4bは、測定対象体2の他方の電極2bに対して接離させられる。   The pair of current supply probes 3 a and 3 b are connected to a pair of output terminals (not shown) of the measurement current supply unit 6. The pair of voltage detection probes 4 a and 4 b are connected to a pair of input terminals (not shown) of a differential amplifier 7 a described later that constitutes the voltage detection unit 7. The drive mechanism 5 operates based on the control signal S1 output from the processing unit 10, and causes the pair of current supply probes 3a and 3b and the pair of voltage detection probes 4a and 4b to approach the measurement object 2 simultaneously. , Again. In this case, the current supply probe 3 a and the voltage detection probe 4 a are brought into contact with and separated from one electrode 2 a of the measurement object 2 by the drive mechanism 5. On the other hand, the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b are brought into contact with and separated from the other electrode 2b of the measurement object 2.

測定電流供給部6は、処理部10によって制御されて、一例として定電流源(交流定電流源)で構成されて、予め規定された電流値の測定電流(周波数f1の交流定電流)Imを一対の電流供給プローブ3a,3bを介して測定対象体2の両電極2a,2b間(つまり、測定対象体2)に供給する。また、測定電流供給部6は、I/V変換器およびA/D変換器(いずれも図示せず)を備え、供給している測定電流ImをI/V変換器で電圧に変換し、この電圧をA/D変換器でサンプリングすることにより、測定電流Imの振幅を示す電流データ(測定電流Imの波形データ)Diを生成して処理部10に出力する。   The measurement current supply unit 6 is controlled by the processing unit 10 and includes, as an example, a constant current source (AC constant current source). The measurement current supply unit 6 generates a measurement current (AC constant current having a frequency f1) Im having a predetermined current value. It supplies between both electrodes 2a, 2b of the measuring object 2 (that is, the measuring object 2) via the pair of current supply probes 3a, 3b. The measurement current supply unit 6 includes an I / V converter and an A / D converter (both not shown), and converts the supplied measurement current Im into a voltage by the I / V converter. By sampling the voltage with an A / D converter, current data (waveform data of the measurement current Im) Di indicating the amplitude of the measurement current Im is generated and output to the processing unit 10.

電圧検出部7は、差動増幅器7a、ローパスフィルタ(以下、「LPF」)7bおよびA/D変換器7cを備えて構成されている。差動増幅器7aは、一例として入力段が演算増幅器を用いて構成されて、一対の入力端子間のインピーダンス(入力インピーダンス)が極めて高い値に規定されている。また、差動増幅器7aは、上記したように、一対の入力端子に一対の電圧検出プローブ4a,4bが接続されて、測定対象体2の電極2a,2b間に発生する電圧(電極間電圧)Vm1を検出する。また、差動増幅器7aは、この電圧Vm1をA/D変換器7cの入力電圧範囲に対応させて電圧信号Vm2に増幅して出力する。LPF7bは、カットオフ周波数が周波数f1よりも高く、かつ後述する周波数f2,f3よりも低い周波数に規定されている。この構成により、LPF7bは、電圧信号Vm2に含まれている周波数f2,f3の信号成分を除去し、周波数f1の信号成分、つまり測定電流Imに起因して発生する信号成分で構成される電圧信号Vm3を出力する。A/D変換器7cは、一例として測定電流供給部6でのサンプリングに同期して、電圧信号Vm3をサンプリングすることにより、電圧信号Vm3の振幅を示す電圧データ(この電圧データは、電圧Vm1の振幅を示す電圧データでもある)Dvを処理部10に出力する。   The voltage detection unit 7 includes a differential amplifier 7a, a low-pass filter (hereinafter “LPF”) 7b, and an A / D converter 7c. In the differential amplifier 7a, for example, an input stage is configured using an operational amplifier, and an impedance (input impedance) between a pair of input terminals is defined to be an extremely high value. Further, as described above, in the differential amplifier 7a, a pair of voltage detection probes 4a and 4b are connected to a pair of input terminals, and a voltage (interelectrode voltage) generated between the electrodes 2a and 2b of the measuring object 2 is measured. Vm1 is detected. Further, the differential amplifier 7a amplifies the voltage Vm1 corresponding to the input voltage range of the A / D converter 7c and outputs it to the voltage signal Vm2. The LPF 7b is defined to have a cutoff frequency higher than the frequency f1 and lower than frequencies f2 and f3 described later. With this configuration, the LPF 7b removes the signal components of the frequencies f2 and f3 included in the voltage signal Vm2, and the voltage signal composed of the signal component of the frequency f1, that is, the signal component generated due to the measurement current Im. Vm3 is output. As an example, the A / D converter 7c samples the voltage signal Vm3 in synchronization with the sampling in the measurement current supply unit 6, thereby indicating voltage data indicating the amplitude of the voltage signal Vm3 (this voltage data is the voltage Vm1). Dv (which is also voltage data indicating the amplitude) is output to the processing unit 10.

第1接触状態検出部8は、交流定電流源8a、差動増幅器8b、ロックインアンプ8cおよびコンパレータ8dを備えている。交流定電流源8aは、電流供給プローブ3aと電圧検出プローブ4aとに接続され、処理部10によって制御されて、電流供給プローブ3aと電極2aとの間、および電圧検出プローブ4aと電極2aとの間の接触状態を検出するための検出電流Iaを電流供給プローブ3aおよび電圧検出プローブ4a間に出力可能に構成されている。この場合、この検出電流Iaとして、周波数f2(>周波数f1)の交流定電流が出力される。また、交流定電流源8aは、出力している検出電流Iaの周期に同期した同期信号Ssy1を生成して出力する。   The first contact state detection unit 8 includes an AC constant current source 8a, a differential amplifier 8b, a lock-in amplifier 8c, and a comparator 8d. The AC constant current source 8a is connected to the current supply probe 3a and the voltage detection probe 4a, and is controlled by the processing unit 10 to be between the current supply probe 3a and the electrode 2a and between the voltage detection probe 4a and the electrode 2a. The detection current Ia for detecting the contact state between the current supply probe 3a and the voltage detection probe 4a can be output. In this case, an AC constant current having a frequency f2 (> frequency f1) is output as the detection current Ia. The AC constant current source 8a generates and outputs a synchronization signal Ssy1 that is synchronized with the period of the output detection current Ia.

差動増幅器8bは、一対の入力端子が電流供給プローブ3aと電圧検出プローブ4aとに接続されて、電流供給プローブ3aおよび電圧検出プローブ4a間に発生する電圧Va1を入力すると共に増幅して、電圧信号Va2として出力する。ロックインアンプ8cは、この電圧信号Va2を同期信号Ssy1で同期検波することにより、電圧Va1の振幅に対応した電圧レベルの直流電圧信号Va3を出力する。コンパレータ8dは、この直流電圧信号Va3と予め規定された基準電圧Vref1とを比較して、直流電圧信号Va3が基準電圧Vref1以上のときに接触異常信号Saを出力する。   The differential amplifier 8b has a pair of input terminals connected to the current supply probe 3a and the voltage detection probe 4a, and inputs and amplifies the voltage Va1 generated between the current supply probe 3a and the voltage detection probe 4a. Output as signal Va2. The lock-in amplifier 8c outputs the DC voltage signal Va3 having a voltage level corresponding to the amplitude of the voltage Va1 by synchronously detecting the voltage signal Va2 with the synchronization signal Ssy1. The comparator 8d compares the DC voltage signal Va3 with a predetermined reference voltage Vref1, and outputs a contact abnormality signal Sa when the DC voltage signal Va3 is equal to or higher than the reference voltage Vref1.

この場合、上記したように交流定電流源8aから各プローブ3a,4a間に出力される検出電流Iaが交流定電流であるため、差動増幅器8bに入力される電圧Va1の振幅は、電流供給プローブ3aと電極2aとの間、および電圧検出プローブ4aと電極2aとの間の各接触抵抗の合計抵抗値に比例する。また、基準電圧Vref1は、電流供給プローブ3aと電極2aとの間、および電圧検出プローブ4aと電極2aとの間の各接触接触状態が異常となるとき(各接触抵抗の合計抵抗が上限抵抗値に達したとき)の電圧Va1に基づいてロックインアンプ8cが出力する直流電圧信号Va3と同一電圧に予め規定されている。この構成により、コンパレータ8dは、電流供給プローブ3aと電極2aとの間、および電圧検出プローブ4aと電極2aとの間の各接触接触状態が異常のときに、接触異常信号Saを出力する。   In this case, as described above, since the detection current Ia output between the probes 3a and 4a from the AC constant current source 8a is an AC constant current, the amplitude of the voltage Va1 input to the differential amplifier 8b is the current supply. It is proportional to the total resistance value of each contact resistance between the probe 3a and the electrode 2a and between the voltage detection probe 4a and the electrode 2a. Further, the reference voltage Vref1 is used when the contact contact state between the current supply probe 3a and the electrode 2a and between the voltage detection probe 4a and the electrode 2a becomes abnormal (the total resistance of each contact resistance is the upper limit resistance value). Is defined in advance as the same voltage as the DC voltage signal Va3 output from the lock-in amplifier 8c based on the voltage Va1. With this configuration, the comparator 8d outputs a contact abnormality signal Sa when the contact contact state between the current supply probe 3a and the electrode 2a and between the voltage detection probe 4a and the electrode 2a is abnormal.

第2接触状態検出部9は、交流定電流源9a、差動増幅器9b、ロックインアンプ9cおよびコンパレータ9dを備えている。交流定電流源9aは、電流供給プローブ3bと電圧検出プローブ4bとに接続され、処理部10によって制御されて、電流供給プローブ3bと電極2bとの間、および電圧検出プローブ4bと電極2bとの間の接触状態を検出するための検出電流Ibを電流供給プローブ3bおよび電圧検出プローブ4b間に出力可能に構成されている。この場合、この検出電流Ibとして、周波数f2と異なる周波数f3(>周波数f1)の交流定電流が出力される。また、交流定電流源9aは、出力している検出電流Ibの周期に同期した同期信号Ssy2を生成して出力する。   The second contact state detection unit 9 includes an AC constant current source 9a, a differential amplifier 9b, a lock-in amplifier 9c, and a comparator 9d. The AC constant current source 9a is connected to the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b, and is controlled by the processing unit 10 to be between the current supply probe 3b and the electrode 2b, and between the voltage detection probe 4b and the electrode 2b. The detection current Ib for detecting the contact state between the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b can be output. In this case, an AC constant current having a frequency f3 (> frequency f1) different from the frequency f2 is output as the detection current Ib. The AC constant current source 9a generates and outputs a synchronization signal Ssy2 that is synchronized with the period of the output detection current Ib.

差動増幅器9bは、一対の入力端子が電流供給プローブ3bと電圧検出プローブ4bとに接続されて、電流供給プローブ3bおよび電圧検出プローブ4b間に発生する電圧Vb1を入力すると共に増幅して、電圧信号Vb2として出力する。ロックインアンプ9cは、この電圧信号Vb2を同期信号Ssy2で同期検波することにより、電圧Vb1の振幅に対応した電圧レベルの直流電圧信号Vb3を出力する。コンパレータ9dは、この直流電圧信号Vb3と予め規定された基準電圧Vref2とを比較して、直流電圧信号Vb3が基準電圧Vref2以上のときに接触異常信号Sbを出力する。   The differential amplifier 9b has a pair of input terminals connected to the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b, and inputs and amplifies the voltage Vb1 generated between the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b. Output as signal Vb2. The lock-in amplifier 9c outputs a DC voltage signal Vb3 having a voltage level corresponding to the amplitude of the voltage Vb1 by synchronously detecting the voltage signal Vb2 with the synchronization signal Ssy2. The comparator 9d compares the DC voltage signal Vb3 with a predetermined reference voltage Vref2, and outputs a contact abnormality signal Sb when the DC voltage signal Vb3 is equal to or higher than the reference voltage Vref2.

この場合、上記したように交流定電流源9aから各プローブ3b,4b間に出力される検出電流Ibが交流定電流であるため、差動増幅器9bに入力される電圧Vb1の振幅は、電流供給プローブ3bと電極2bとの間、および電圧検出プローブ4bと電極2bとの間の各接触抵抗の合計抵抗値に比例する。また、基準電圧Vref2は、電流供給プローブ3bと電極2bとの間、および電圧検出プローブ4bと電極2bとの間の各接触接触状態が異常となるとき(各接触抵抗の合計抵抗が上限抵抗値に達したとき)の電圧Vb1に基づいてロックインアンプ9cが出力する直流電圧信号Vb3と同一電圧に予め規定されている。この構成により、コンパレータ9dは、電流供給プローブ3bと電極2bとの間、および電圧検出プローブ4bと電極2bとの間の各接触接触状態が異常のときに、接触異常信号Sbを出力する。   In this case, as described above, since the detection current Ib output between the probes 3b and 4b from the AC constant current source 9a is an AC constant current, the amplitude of the voltage Vb1 input to the differential amplifier 9b is the current supply. It is proportional to the total resistance value of each contact resistance between the probe 3b and the electrode 2b and between the voltage detection probe 4b and the electrode 2b. The reference voltage Vref2 is used when the contact contact state between the current supply probe 3b and the electrode 2b and between the voltage detection probe 4b and the electrode 2b becomes abnormal (the total resistance of each contact resistance is the upper limit resistance value). And the same voltage as the DC voltage signal Vb3 output from the lock-in amplifier 9c based on the voltage Vb1. With this configuration, the comparator 9d outputs a contact abnormality signal Sb when the contact contact state between the current supply probe 3b and the electrode 2b and between the voltage detection probe 4b and the electrode 2b is abnormal.

処理部10は、CPUで構成されて、インピーダンス測定処理50(図2参照)を実行する。処理部10は、このインピーダンス測定処理50では、電圧データDvに基づいて電圧Vm1の微分値Bを単位時間毎(例えば、A/D変換器7cのサンプリング周期毎)に算出して後述する基準値Aと比較する比較処理、接触異常信号Sa,Sbに基づいて各プローブ3a,4aおよび電極2a間の接触状態と各プローブ3b,4bおよび電極2b間の接触状態とを判別する接触状態判別処理(以下、「判別処理」ともいう)、並びに電圧Vm1の振幅を示す電圧データDvと測定電流Imの振幅を示す電流データDiとに基づいて測定対象体2のインピーダンスZを測定する測定処理を実行する。また、処理部10は、測定電流供給部6、各交流定電流源8a,9aおよび駆動機構5に対する制御を実行する。なお、本例での微分値Bとは、隣接する一対の電圧データDv間の差分の絶対値を、A/D変換器7cのサンプリング周期で除算した値をいうものとする。   The processing unit 10 is composed of a CPU and executes an impedance measurement process 50 (see FIG. 2). In the impedance measurement process 50, the processing unit 10 calculates a differential value B of the voltage Vm1 for each unit time (for example, for each sampling period of the A / D converter 7c) based on the voltage data Dv, and will be described later. Comparison processing for comparing with A, contact state determination processing for determining the contact state between the probes 3a, 4a and the electrode 2a and the contact state between the probes 3b, 4b and the electrode 2b based on the contact abnormality signals Sa and Sb ( Hereinafter, the measurement process for measuring the impedance Z of the measurement object 2 is executed based on the voltage data Dv indicating the amplitude of the voltage Vm1 and the current data Di indicating the amplitude of the measurement current Im. . Further, the processing unit 10 performs control on the measurement current supply unit 6, the AC constant current sources 8 a and 9 a, and the drive mechanism 5. In addition, the differential value B in this example shall mean the value which divided the absolute value of the difference between a pair of adjacent voltage data Dv by the sampling period of the A / D converter 7c.

記憶部11は、ROMおよびRAMで構成されて、処理部10のための動作プログラム、および微分値Bに対する基準値Aが予め記憶されている。また、記憶部11は、処理部10のワークメモリとしても機能する。出力部12は、一例として表示装置で構成されて、処理部10が実行した判別処理および測定処理の結果を表示する。   The storage unit 11 includes a ROM and a RAM, and stores an operation program for the processing unit 10 and a reference value A for the differential value B in advance. The storage unit 11 also functions as a work memory for the processing unit 10. The output unit 12 is configured by a display device as an example, and displays the results of the discrimination processing and measurement processing executed by the processing unit 10.

次に、インピーダンス測定装置1の動作について図1〜図4を参照して説明する。   Next, the operation of the impedance measuring apparatus 1 will be described with reference to FIGS.

インピーダンス測定装置1では、作動状態において、処理部10が、測定位置に測定対象体2が配設されたことを示すトリガ信号Stの入力を繰り返し検出している。この状態において、トリガ信号Stの入力を検出したときには、処理部10は、測定位置に測定対象体2が配設されたと判別して、図2に示すインピーダンス測定処理50を開始する。   In the impedance measuring apparatus 1, in the operating state, the processing unit 10 repeatedly detects the input of the trigger signal St indicating that the measurement object 2 is disposed at the measurement position. In this state, when detecting the input of the trigger signal St, the processing unit 10 determines that the measurement object 2 is disposed at the measurement position, and starts the impedance measurement process 50 shown in FIG.

このインピーダンス測定処理50では、処理部10は、まず、駆動機構5を制御して、すべてのプローブ3a,3b,4a,4bを測定対象体2の方向に予め規定された距離だけ移動(接近)させることで、図1に示すように、各プローブ3a,4aを対応する電極2aに、各プローブ3b,4bを対応する電極2bにそれぞれ接触させる(ステップ51)。   In the impedance measurement process 50, the processing unit 10 first controls the drive mechanism 5 to move (approach) all the probes 3 a, 3 b, 4 a, 4 b by a predetermined distance in the direction of the measurement object 2. Thus, as shown in FIG. 1, the probes 3a and 4a are brought into contact with the corresponding electrodes 2a, and the probes 3b and 4b are brought into contact with the corresponding electrodes 2b, respectively (step 51).

次いで、処理部10は、測定電流供給部6、交流定電流源8aおよび交流定電流源9aに対する制御を実行して、これらを作動させる(ステップ52)。これにより、測定電流供給部6が、測定電流供給部6から電流供給プローブ3a、測定対象体2および電流供給プローブ3bを介して測定電流供給部6に戻る電流経路への測定電流Imの出力を開始する。また、交流定電流源8aが、交流定電流源8aから電流供給プローブ3a、測定対象体2の電極2aおよび電圧検出プローブ4aを介して交流定電流源8aに戻る電流経路への検出電流Iaの出力を開始すると共に、同期信号Ssy1の出力を開始する。また、交流定電流源9aが、交流定電流源9aから電流供給プローブ3b、測定対象体2の電極2bおよび電圧検出プローブ4bを介して交流定電流源9aに戻る電流経路への検出電流Ibの出力を開始すると共に、同期信号Ssy2の出力を開始する。   Next, the processing unit 10 controls the measurement current supply unit 6, the AC constant current source 8a, and the AC constant current source 9a to operate them (Step 52). Thereby, the measurement current supply unit 6 outputs the measurement current Im from the measurement current supply unit 6 to the current path that returns to the measurement current supply unit 6 via the current supply probe 3a, the measurement object 2, and the current supply probe 3b. Start. Further, the AC constant current source 8a receives the detected current Ia from the AC constant current source 8a to the AC constant current source 8a through the current supply probe 3a, the electrode 2a of the measurement object 2 and the voltage detection probe 4a to the AC constant current source 8a. The output is started and the output of the synchronization signal Ssy1 is started. Further, the AC constant current source 9a receives the detected current Ib from the AC constant current source 9a to the AC constant current source 9a via the current supply probe 3b, the electrode 2b of the measurement object 2 and the voltage detection probe 4b. The output is started and the output of the synchronization signal Ssy2 is started.

また、電圧検出部7では、差動増幅器7aが、測定対象体2に測定電流Imが流れることに起因して測定対象体2の電極2a,2b間に発生する電圧Vm1を一対の電圧検出プローブ4a,4bを介して検出すると共に、電圧信号Vm2に増幅して出力する動作を開始する。また、LPF7bは、この電圧信号Vm2から周波数f2,f3の信号成分を除去して、測定電流Imに起因して発生する信号成分(周波数f1の信号成分)のみで構成される電圧信号Vm3を出力する動作を開始する。また、A/D変換器7cは、電圧信号Vm3をサンプリングして、電圧信号Vm3の振幅を示す電圧データ(電圧Vm1の振幅を示す電圧データでもある)Dvとして処理部10に出力する動作を開始する。   In the voltage detection unit 7, the differential amplifier 7 a generates a voltage Vm 1 generated between the electrodes 2 a and 2 b of the measurement object 2 due to the measurement current Im flowing through the measurement object 2. While detecting via 4a and 4b, the operation | movement which amplifies and outputs to the voltage signal Vm2 is started. Further, the LPF 7b removes the signal components of the frequencies f2 and f3 from the voltage signal Vm2, and outputs a voltage signal Vm3 composed only of the signal component (signal component of the frequency f1) generated due to the measurement current Im. The operation to start is started. Further, the A / D converter 7c starts the operation of sampling the voltage signal Vm3 and outputting it to the processing unit 10 as voltage data indicating the amplitude of the voltage signal Vm3 (also voltage data indicating the amplitude of the voltage Vm1). To do.

また、第1接触状態検出部8では、差動増幅器8bが、電流供給プローブ3aと測定対象体2の電極2aとの間の接触抵抗、およびこの電極2aと電圧検出プローブ4aとの間の接触抵抗に検出電流Iaが流れることに起因して発生する電圧Va1を電流供給プローブ3aおよび電圧検出プローブ4aを介して検出すると共に、電圧信号Va2に増幅して出力する動作を開始する。また、ロックインアンプ8cが、電圧信号Va2を同期信号Ssy1で同期検波することにより、直流電圧信号Va3を出力する動作を開始し、コンパレータ8dが、直流電圧信号Va3と基準電圧Vref1とを比較する動作を開始する。   In the first contact state detection unit 8, the differential amplifier 8b has a contact resistance between the current supply probe 3a and the electrode 2a of the measurement object 2, and a contact between the electrode 2a and the voltage detection probe 4a. The voltage Va1 generated due to the detection current Ia flowing through the resistor is detected via the current supply probe 3a and the voltage detection probe 4a, and the operation of amplifying and outputting the voltage signal Va2 is started. The lock-in amplifier 8c starts the operation of outputting the DC voltage signal Va3 by synchronously detecting the voltage signal Va2 with the synchronization signal Ssy1, and the comparator 8d compares the DC voltage signal Va3 with the reference voltage Vref1. Start operation.

また、第2接触状態検出部9では、差動増幅器9bが、電流供給プローブ3bと測定対象体2の電極2bとの間の接触抵抗、およびこの電極2bと電圧検出プローブ4bとの間の接触抵抗に検出電流Ibが流れることに起因して発生する電圧Vb1を電流供給プローブ3bおよび電圧検出プローブ4bを介して検出すると共に、電圧信号Vb2に増幅して出力する動作を開始する。また、ロックインアンプ9cが、電圧信号Vb2を同期信号Ssy2で同期検波することにより、直流電圧信号Vb3を出力する動作を開始し、コンパレータ9dが、直流電圧信号Vb3と基準電圧Vref2とを比較する動作を開始する。   In the second contact state detection unit 9, the differential amplifier 9b has a contact resistance between the current supply probe 3b and the electrode 2b of the measurement object 2, and a contact between the electrode 2b and the voltage detection probe 4b. The voltage Vb1 generated due to the detection current Ib flowing through the resistor is detected via the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b, and the operation of amplifying and outputting the voltage signal Vb2 is started. Further, the lock-in amplifier 9c starts the operation of outputting the DC voltage signal Vb3 by synchronously detecting the voltage signal Vb2 with the synchronization signal Ssy2, and the comparator 9d compares the DC voltage signal Vb3 with the reference voltage Vref2. Start operation.

続いて、この状態において、処理部10は、判別処理および比較処理を開始する共に(ステップ53)、測定処理についても開始する(ステップ54)。この測定処理では、処理部10は、電圧Vm1の振幅を示す電圧データDvと測定電流Imの振幅を示す電流データDiとを予め規定された期間分(例えば、少なくとも測定電流Imの1周期分)だけ記憶部11に記憶させると共に、記憶された電圧データDvと電流データDiとに基づいて、具体的には、電圧データDvによって特定される電圧値、電流データDiによって特定される電流値、およびその電圧とその電流の位相差に基づいて測定対象体2のインピーダンスZを測定する。この場合、処理部10は、この測定処理を実行しつつ、この測定処理の完了まで判別処理(ステップ55)および比較処理(ステップ56)を繰り返し実行する。   Subsequently, in this state, the processing unit 10 starts the determination process and the comparison process (step 53), and also starts the measurement process (step 54). In this measurement process, the processing unit 10 includes voltage data Dv indicating the amplitude of the voltage Vm1 and current data Di indicating the amplitude of the measurement current Im for a predetermined period (for example, at least one cycle of the measurement current Im). Only in the storage unit 11 and based on the stored voltage data Dv and current data Di, specifically, a voltage value specified by the voltage data Dv, a current value specified by the current data Di, and The impedance Z of the measuring object 2 is measured based on the phase difference between the voltage and the current. In this case, the processing unit 10 repeatedly executes the determination process (step 55) and the comparison process (step 56) until the measurement process is completed while executing the measurement process.

この判別処理では、処理部10は、各接触状態検出部8,9から接触異常信号Sa,Sbが出力されるか否かに基づいて、電流供給プローブ3aおよび電圧検出プローブ4aと電極2aとの間の接触状態、並びに電流供給プローブ3bおよび電圧検出プローブ4bと電極2bとの間の接触状態が良好な状態か不良な状態かを判別する。具体的には、処理部10は、接触状態検出部8,9から接触異常信号Sa,Sbが出力されているときには、この接触状態検出部8,9において検出している電流供給プローブ3a,3bおよび電圧検出プローブ4a,4bと測定対象体2の電極2a,2bとの間の接触状態が不良であると判別し、一方、接触状態検出部8,9から接触異常信号Sa,Sbが出力されていないときには、この接触状態検出部8,9において検出している電流供給プローブ3a,3bおよび電圧検出プローブ4a,4bと測定対象体2の電極2a,2bとの間の接触状態が良好であると判別する。   In this determination processing, the processing unit 10 determines whether the current supply probe 3a, the voltage detection probe 4a, and the electrode 2a are based on whether or not the contact abnormality signals Sa and Sb are output from the contact state detection units 8 and 9. And the contact state between the current supply probe 3b and the voltage detection probe 4b and the electrode 2b are determined to be good or bad. Specifically, when the contact abnormality detection signals Sa and Sb are output from the contact state detection units 8 and 9, the processing unit 10 detects the current supply probes 3a and 3b detected by the contact state detection units 8 and 9, respectively. In addition, it is determined that the contact state between the voltage detection probes 4a and 4b and the electrodes 2a and 2b of the measurement object 2 is defective, and contact abnormality signals Sa and Sb are output from the contact state detection units 8 and 9, respectively. When not, the contact state between the current supply probes 3a and 3b and the voltage detection probes 4a and 4b detected by the contact state detectors 8 and 9 and the electrodes 2a and 2b of the measurement object 2 is good. Is determined.

また、比較処理では、処理部10は、A/D変換器7cから出力される電圧データDvに基づいて電圧Vm1の微分値Bを算出すると共に、記憶部11から読み出した基準値Aと比較することにより、電圧検出部7において検出している電圧Vm1が規定以上に変動したか否かを判別する。具体的には、処理部10は、算出した微分値Bが基準値A以上のときには、本来、変動が規定の範囲内に収まるべき電圧Vm1が許容範囲を超えて変動した(例えば、電圧Vm1にノイズ成分が重畳した場合には許容範囲を超えて変動する)と判別し、一方、算出した微分値Bが基準値A未満のときには、電圧Vm1に生じている変動が規定の範囲内(つまり、許容範囲内)であると判別する。   In the comparison process, the processing unit 10 calculates the differential value B of the voltage Vm1 based on the voltage data Dv output from the A / D converter 7c, and compares it with the reference value A read from the storage unit 11. Thus, it is determined whether or not the voltage Vm1 detected by the voltage detector 7 has fluctuated more than a specified value. Specifically, when the calculated differential value B is greater than or equal to the reference value A, the processing unit 10 originally has a voltage Vm1 whose fluctuation should be within a specified range fluctuated beyond an allowable range (for example, to the voltage Vm1). On the other hand, when the calculated differential value B is less than the reference value A, the fluctuation occurring in the voltage Vm1 is within a prescribed range (that is, when the noise component is superimposed, the fluctuation exceeds the allowable range). It is determined that it is within the allowable range.

インピーダンスZの測定に必要な電圧データDvと電流データDiとが記憶部11に記憶されてインピーダンスZの測定を完了する(ステップ58)までの間において、処理部10が、上記の判別処理(ステップ55)において、電流供給プローブ3a,3bおよび電圧検出プローブ4a,4bと測定対象体2の電極2a,2bとの間の接触状態が不良であると判別したとき、並びに、比較処理(ステップ56)において、電圧Vm1が許容範囲以上に変動したと判別したときのいずれかのときには、インピーダンスZの測定に使用する電圧データDvが異常な値である可能性が高く、このような電圧データDvを測定処理において使用してインピーダンスZを測定したとしても、正確なインピーダンスZが測定されない可能性が高い。このため、処理部10は、現在実行している測定処理を中止して、ステップ54に移行することにより、測定処理を再度、最初から実行し直す(測定処理のリトライ(再開)を実行する)。   Until the voltage data Dv and current data Di necessary for the measurement of the impedance Z are stored in the storage unit 11 and the measurement of the impedance Z is completed (step 58), the processing unit 10 performs the above-described determination processing (step 55), when it is determined that the contact state between the current supply probes 3a, 3b and the voltage detection probes 4a, 4b and the electrodes 2a, 2b of the measuring object 2 is defective, and a comparison process (step 56). In any case, when it is determined that the voltage Vm1 has fluctuated beyond the allowable range, the voltage data Dv used for the measurement of the impedance Z is likely to be an abnormal value, and such voltage data Dv is measured. Even if the impedance Z is measured by use in processing, there is a high possibility that the accurate impedance Z is not measured. For this reason, the processing unit 10 cancels the currently executed measurement process and proceeds to step 54 to re-execute the measurement process from the beginning (retry (restart) the measurement process). .

したがって、このインピーダンス測定装置1では、図3に示すように、例えば、各プローブ3a,3b,4a,4bを対応する電極2a,2bに接触させた直後の状態、つまりプローブ3a,3b,4a,4bの接触状態が良好になる状態と不良になる状態とが短時間に繰り返されるときには、ステップ55の判別処理での結果が不良となるか、またはステップ56の比較処理での結果が許容範囲を超えるため、処理部10は、測定処理のリトライを繰り返す。また、図4に示すように、電圧Vm1にノイズが重畳したときには、ステップ56の比較処理での結果が基準値Aを超える(許容範囲を外れる)ため、処理部10は、測定処理のリトライを繰り返す。これにより、異常な値の電圧データDvを使用したインピーダンスZの測定が回避されるため、インピーダンスZの測定精度の向上が図られる。   Therefore, in this impedance measuring apparatus 1, as shown in FIG. 3, for example, a state immediately after the probes 3a, 3b, 4a, 4b are brought into contact with the corresponding electrodes 2a, 2b, that is, the probes 3a, 3b, 4a, When the state in which the contact state of 4b is good and the state in which the contact state is poor are repeated in a short time, the result of the discrimination process in step 55 becomes poor, or the result of the comparison process in step 56 falls within an allowable range. Therefore, the processing unit 10 repeats the retry of the measurement process. Further, as shown in FIG. 4, when noise is superimposed on the voltage Vm1, the result of the comparison process in step 56 exceeds the reference value A (out of the allowable range), so the processing unit 10 retries the measurement process. repeat. Thereby, since the measurement of the impedance Z using the abnormal voltage data Dv is avoided, the measurement accuracy of the impedance Z can be improved.

また、処理部10は、このようにしてステップ54に移行する際には、測定処理の再開の回数Nを計数して(具体的には、回数Nをインクリメントして)、記憶部11に記憶させる(ステップ57)。   In addition, when the processing unit 10 proceeds to step 54 in this way, the processing unit 10 counts the number N of times the measurement process is restarted (specifically, increments the number N) and stores it in the storage unit 11. (Step 57).

一方、図3,4の期間Cのように、インピーダンスZの測定に必要な電圧データDvと電流データDiとが記憶部11に記憶されるまで、各プローブ3a,3b,4a,4bと対応する電極2a,2bとの間に接触不良が発生せず、かつ電圧データDvにノイズが重畳しないときには、処理部10は、記憶部11に記憶された電圧データDvと電流データDiとに基づいてインピーダンスZを測定して、最終のインピーダンスZとして記憶部11に記憶させる。また、処理部10は、インピーダンスZの測定を完了したときには、測定処理を終了させる(ステップ58)と共に、判別処理および比較処理を終了させる(ステップ59)。   On the other hand, until the voltage data Dv and current data Di necessary for the measurement of the impedance Z are stored in the storage unit 11 as shown in the period C of FIGS. 3 and 4, they correspond to the probes 3 a, 3 b, 4 a and 4 b. When no contact failure occurs between the electrodes 2a and 2b and no noise is superimposed on the voltage data Dv, the processing unit 10 determines the impedance based on the voltage data Dv and the current data Di stored in the storage unit 11. Z is measured and stored in the storage unit 11 as the final impedance Z. Further, when the measurement of the impedance Z is completed, the processing unit 10 ends the measurement process (step 58) and ends the determination process and the comparison process (step 59).

続いて、処理部10は、測定電流供給部6、交流定電流源8aおよび交流定電流源9aに対する制御を実行して、これらを停止させる(ステップ60)。最後に、処理部10は、駆動機構5を制御して、すべてのプローブ3a,3b,4a,4bを測定対象体2から予め規定された距離だけ離反させると共に、測定結果(測定したインピーダンスZおよびリトライの回数N)を出力部12に表示させる(ステップ61)。これにより、インピーダンス測定処理が完了する。   Subsequently, the processing unit 10 executes control on the measurement current supply unit 6, the AC constant current source 8a, and the AC constant current source 9a to stop them (Step 60). Finally, the processing unit 10 controls the drive mechanism 5 to move all the probes 3a, 3b, 4a, 4b away from the measurement object 2 by a predetermined distance, and to measure the results (measured impedance Z and The number of retries N) is displayed on the output unit 12 (step 61). Thereby, the impedance measurement process is completed.

このように、このインピーダンス測定装置1では、処理部10が、測定処理の実行中において、各プローブ3a,3b,4a,4bの対応する電極2a,2bとの間の接触状態についての判別処理を繰り返し実行して、測定処理の完了(インピーダンスZの測定)までに判別処理において接触状態を不良と判別しなかったときにはその測定処理において測定したインピーダンスZを最終の測定値として記憶部11に記憶させると共に出力部12に表示させ、測定処理の完了までに判別処理において接触状態を不良と判別したときには新たな測定処理を再開すると共に判別処理を繰り返し実行する。   As described above, in the impedance measuring apparatus 1, the processing unit 10 performs the determination process for the contact state between the corresponding electrodes 2a and 2b of the probes 3a, 3b, 4a, and 4b during the execution of the measurement process. When the contact state is not determined to be defective in the determination process until the measurement process is completed (impedance Z measurement), the impedance Z measured in the measurement process is stored in the storage unit 11 as the final measurement value. When the contact state is determined to be defective in the determination process until the measurement process is completed, a new measurement process is resumed and the determination process is repeatedly executed.

したがって、このインピーダンス測定装置1によれば、判別処理を測定処理の実行中に繰り返し実行することにより、各プローブ3a,3b,4a,4bと電極2a,2bとの間の接触状態が不良のときには測定処理を再開できるため、各プローブ3a,3b,4a,4bと電極2a,2bとの間の接触状態が不良となっている状況下でのインピーダンスZの測定を回避してインピーダンスZの測定精度(算出精度)を確保することができる。また、測定されたインピーダンスZに基づいて、測定対象体2の良否を判別する場合には、接触状態が不良となったときであっても、測定処理を再開して良好な接触状態において正確なインピーダンスZを測定することができるため、良品の測定対象体2を誤って不良品と判別する事態を確実に回避できる結果、測定対象体2の製造時における歩留まりを向上させることができる。   Therefore, according to the impedance measuring apparatus 1, when the contact state between the probes 3a, 3b, 4a, 4b and the electrodes 2a, 2b is poor by repeatedly executing the discrimination process during the execution of the measurement process. Since the measurement process can be resumed, the measurement accuracy of the impedance Z is avoided by avoiding the measurement of the impedance Z under the condition that the contact state between the probes 3a, 3b, 4a, 4b and the electrodes 2a, 2b is defective. (Calculation accuracy) can be ensured. Further, when determining whether the measurement object 2 is good or bad based on the measured impedance Z, the measurement process is restarted even when the contact state becomes defective, and the measurement object 2 is accurate in the good contact state. Since the impedance Z can be measured, it is possible to reliably avoid a situation in which the non-defective measurement object 2 is erroneously determined as a defective product. As a result, it is possible to improve the yield when the measurement object 2 is manufactured.

また、このインピーダンス測定装置1では、電圧検出部7によって検出される電圧(電極間電圧)Vm1の微分値Bを単位時間毎に算出しつつ基準値Aと比較する比較処理を判別処理と共に繰り返し実行して、測定処理の完了までに判別処理において接触状態を不良と判別しなかったときおよび比較処理において微分値Bが基準値Aを超えたと判別しなかったときには、測定処理において測定したインピーダンスZを最終の測定値として記憶部11に記憶させると共に出力部12に表示させ、一方、測定処理の完了までに判別処理において接触状態を不良と判別したときまたは比較処理において微分値Bが基準値Aを超えたと判別したときには、新たな測定処理を再開(リトライ)すると共に、判別処理および比較処理を繰り返し実行する。   Moreover, in this impedance measuring apparatus 1, the comparison process which compares with the reference value A while calculating the differential value B of the voltage (voltage between electrodes) Vm1 detected by the voltage detection part 7 for every unit time is repeatedly performed with a discrimination process. When the contact state is not determined to be defective in the determination process until the measurement process is completed, and when the differential value B is not determined to exceed the reference value A in the comparison process, the impedance Z measured in the measurement process is determined. The final measurement value is stored in the storage unit 11 and displayed on the output unit 12. On the other hand, when the contact state is determined to be defective in the determination process until the measurement process is completed, or the differential value B is the reference value A in the comparison process. When it is determined that it has exceeded, a new measurement process is restarted (retry), and the determination process and the comparison process are repeatedly executed.

したがって、このインピーダンス測定装置1によれば、例えば、電圧Vm1にノイズが重畳したときに得られるような異常な値の電圧データDvを使用したインピーダンスZの測定が回避されるため、インピーダンスZの測定精度を一層向上させることができる。   Therefore, according to the impedance measuring apparatus 1, the measurement of the impedance Z is avoided because the measurement of the impedance Z using the abnormal voltage data Dv obtained when noise is superimposed on the voltage Vm1, for example, is avoided. The accuracy can be further improved.

また、このインピーダンス測定装置1によれば、測定処理の再開(リトライ)の回数Nについても、記憶部11に記憶されると共に、出力部12に表示されるため、回数Nが増加傾向にあるときには、例えば各プローブ3a,3b,4a,4bが劣化しつつあると判別することができ、これにより、各プローブ3a,3b,4a,4bの交換など、インピーダンス測定装置1に対して適切なメンテナンスを実行することができる結果、これによっても、インピーダンスZの測定精度の向上を図ることができる。   In addition, according to the impedance measuring apparatus 1, the number N of resumption (retry) of the measurement process is also stored in the storage unit 11 and displayed on the output unit 12. Therefore, when the number N tends to increase. For example, it is possible to determine that each of the probes 3a, 3b, 4a, 4b is deteriorating, and accordingly, appropriate maintenance is performed on the impedance measuring apparatus 1 such as replacement of the probes 3a, 3b, 4a, 4b. As a result that can be executed, the measurement accuracy of the impedance Z can be improved also by this.

なお、インピーダンスZの測定が完了するまで、測定処理、判別処理および比較処理を繰り返す構成について上記したが、測定処理をリトライする回数Nに対して上限回数Nmaxを予め規定しておき、例えば、ステップ57において、回数Nを計数すると共に回数Nと上限回数Nmaxとの比較を実行して、回数Nが上限回数Nmaxに達したときには、新たな測定処理を開始することなく、インピーダンス測定処理50を終了させる構成を採用することもできる。この構成によれば、際限なく測定処理等が繰り返されて測定時間が長時間となる事態を回避することができる。なお、回数Nと上限回数Nmaxとの比較結果に基づいて、インピーダンス測定処理50を終了させる構成に代えて、測定処理を最初に開始した時点からの経過時間Tを計測して、この経過時間Tが予め規定された上限時間Tmaxに達したときに、インピーダンス測定処理50を終了させる構成を採用してもよいのは勿論である。この構成においても、同様にして、際限なく測定処理等が繰り返されて測定時間が長時間となる事態を回避することができる。   Note that the configuration in which the measurement process, the discrimination process, and the comparison process are repeated until the measurement of the impedance Z is described above. However, an upper limit number Nmax is defined in advance with respect to the number N of times the measurement process is retried. In 57, the number N is counted and the number N is compared with the upper limit number Nmax. When the number N reaches the upper limit number Nmax, the impedance measurement process 50 is terminated without starting a new measurement process. It is also possible to adopt a configuration that allows According to this configuration, it is possible to avoid a situation in which the measurement process is repeated indefinitely and the measurement time is long. Instead of the configuration in which the impedance measurement process 50 is terminated based on the comparison result between the number N and the upper limit number Nmax, an elapsed time T from the time when the measurement process is first started is measured, and this elapsed time T Of course, it is possible to adopt a configuration in which the impedance measurement process 50 is terminated when the predetermined upper limit time Tmax is reached. In this configuration as well, it is possible to avoid the situation where the measurement process is repeated indefinitely and the measurement time is long.

また、インピーダンスZを測定することなく、インピーダンス測定処理50を終了させたときには、処理部10は、ステップ61において、測定結果に代えて、判別処理の結果または比較処理の結果を表示させる構成を採用することもできる。   Further, when the impedance measurement process 50 is terminated without measuring the impedance Z, the processing unit 10 adopts a configuration in which the result of the discrimination process or the result of the comparison process is displayed in step 61 instead of the measurement result. You can also

1 インピーダンス測定装置
2 測定対象体
2a,2b 電極
3a,3b 電流供給プローブ
4a,4b 電圧検出プローブ
6 測定電流供給部
7 電圧検出部
8 第1接触状態検出部
9 第2接触状態検出部
10 処理部
A 基準値
B 微分値
Im 測定電流
Vm1 電圧(電極間電圧)
Z インピーダンス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Impedance measuring apparatus 2 Measuring object 2a, 2b Electrode 3a, 3b Current supply probe 4a, 4b Voltage detection probe 6 Measurement current supply part 7 Voltage detection part 8 1st contact state detection part 9 2nd contact state detection part 10 Processing part A Reference value B Differential value Im Measurement current Vm1 Voltage (interelectrode voltage)
Z impedance

Claims (4)

測定対象体の両電極に接触可能な第1電流供給プローブおよび第2電流供給プローブを介して当該測定対象体に測定電流を供給する測定電流供給部と、前記測定対象体に前記測定電流が流れることによって当該測定対象体の前記両電極間に発生する電極間電圧を当該両電極に接触可能な第1電圧検出プローブおよび第2電圧検出プローブを介して検出する電圧検出部と、前記両電極のうちの一方の電極に対する前記第1電流供給プローブおよび前記第1電圧検出プローブの接触状態を検出する第1接触状態検出部と、前記両電極のうちの他方の電極に対する前記第2電流供給プローブおよび前記第2電圧検出プローブの接触状態を検出する第2接触状態検出部と、少なくとも前記測定電流の電流値および前記電極間電圧の電圧値に基づいて前記測定対象体のインピーダンスを測定する測定処理を実行する処理部とを備え、
前記処理部は、前記測定処理の実行中において、前記各接触状態検出部による検出の結果に基づく前記各プローブの前記接触状態の判別処理を繰り返し実行して、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別しなかったときには当該測定処理において測定した前記インピーダンスを測定値とし、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別したときには新たな前記測定処理を再開すると共に前記判別処理を繰り返し実行するインピーダンス測定装置。
A measurement current supply unit that supplies a measurement current to the measurement object via the first current supply probe and the second current supply probe that can contact both electrodes of the measurement object, and the measurement current flows through the measurement object. A voltage detection unit for detecting an inter-electrode voltage generated between the electrodes of the measurement object via the first voltage detection probe and the second voltage detection probe that can contact the electrodes; A first contact state detector for detecting a contact state of the first current supply probe and the first voltage detection probe with respect to one of the electrodes, the second current supply probe with respect to the other electrode of the two electrodes, and A second contact state detector for detecting a contact state of the second voltage detection probe, and at least based on a current value of the measurement current and a voltage value of the interelectrode voltage; And a processing unit for executing a measurement process of measuring the impedance of the measured object,
While the measurement process is being performed, the processing unit repeatedly executes the contact state determination process of each probe based on the detection result by each of the contact state detection units until the measurement process is completed. When the state is not determined to be defective, the impedance measured in the measurement process is used as a measurement value. When the contact state is determined to be defective before the measurement process is completed, a new measurement process is restarted and the determination process is performed. Impedance measurement device that repeatedly executes.
前記処理部は、前記電圧検出部によって検出される前記電極間電圧の電圧値についての微分値を単位時間毎に算出しつつ予め規定された基準値と比較する比較処理を前記判別処理と共に繰り返し実行して、前記測定処理の完了までに前記接触状態を不良と判別しなかったときおよび当該比較処理において当該微分値が当該基準値を超えたと判別しなかったときには当該測定処理において測定した前記インピーダンスを前記測定値とし、当該測定処理の完了までに当該接触状態を不良と判別したときまたは当該比較処理において当該微分値が当該基準値を超えたと判別したときには新たな前記測定処理を再開すると共に前記判別処理および前記比較処理を繰り返し実行する請求項1記載のインピーダンス測定装置。   The processing unit repeatedly performs a comparison process together with the determination process to calculate a differential value of the voltage value of the interelectrode voltage detected by the voltage detection unit for each unit time and to compare with a predetermined reference value. The impedance measured in the measurement process is determined when the contact state is not determined to be defective by the completion of the measurement process and when the differential value is not determined to exceed the reference value in the comparison process. When the contact state is determined to be defective before the measurement process is completed or when the differential value exceeds the reference value in the comparison process, a new measurement process is restarted and the determination is performed. The impedance measuring apparatus according to claim 1, wherein the process and the comparison process are repeatedly executed. 前記処理部は、1つの前記測定対象体に対する前記測定処理の再開の回数が予め規定された上限回数に達したとき、または1つの前記測定対象体に対するすべての前記測定処理の総実行時間が予め規定された上限時間に達したときに、前記1つの測定対象体についての前記測定処理を終了させる請求項1または2記載のインピーダンス測定装置。   When the number of restarts of the measurement process for one measurement object reaches a predetermined upper limit number, or the total execution time of all the measurement processes for one measurement object is determined in advance by the processing unit. The impedance measurement apparatus according to claim 1 or 2, wherein when the specified upper limit time is reached, the measurement process for the one measurement object is terminated. 前記処理部は、1つの前記測定対象体に対する前記測定処理の再開の回数を記憶部に記憶させる請求項1から3のいずれかに記載のインピーダンス測定装置。   The impedance measuring apparatus according to claim 1, wherein the processing unit stores in a storage unit the number of times the measurement process is resumed for one measurement object.
JP2009238416A 2009-10-15 2009-10-15 Impedance measuring device Pending JP2011085483A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009238416A JP2011085483A (en) 2009-10-15 2009-10-15 Impedance measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009238416A JP2011085483A (en) 2009-10-15 2009-10-15 Impedance measuring device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011085483A true JP2011085483A (en) 2011-04-28

Family

ID=44078534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009238416A Pending JP2011085483A (en) 2009-10-15 2009-10-15 Impedance measuring device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011085483A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013061260A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Hioki Ee Corp Circuit board inspection device and circuit board inspection method
JP2013083523A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk Four probe resistivity measuring device
JP2016081799A (en) * 2014-10-20 2016-05-16 日置電機株式会社 Contact state discrimination device, inspection equipment for secondary battery, and contact state discrimination method
JP2019090757A (en) * 2017-11-16 2019-06-13 日置電機株式会社 Processing device, inspection device and processing method
CN110032773A (en) * 2019-03-21 2019-07-19 新绎健康科技有限公司 The observation model of EZ characteristic, impedance detection and optical transmission system in fluid
US11067658B2 (en) 2018-09-13 2021-07-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Probe card inspection wafer, probe card inspection system, and method of inspecting probe card

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05507556A (en) * 1990-05-29 1993-10-28 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Method and apparatus for simultaneous electronic element testing and lead verification
JPH06160461A (en) * 1992-11-19 1994-06-07 Toshiba Corp Method for testing lightning impulse
JP2005017212A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Daido Signal Co Ltd Insulation resistance measuring method for railroad and device therefor
JP2006322821A (en) * 2005-05-19 2006-11-30 Hioki Ee Corp Impedance measuring instrument
JP2009002668A (en) * 2007-06-19 2009-01-08 Panasonic Corp Contact pin

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05507556A (en) * 1990-05-29 1993-10-28 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Method and apparatus for simultaneous electronic element testing and lead verification
JPH06160461A (en) * 1992-11-19 1994-06-07 Toshiba Corp Method for testing lightning impulse
JP2005017212A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Daido Signal Co Ltd Insulation resistance measuring method for railroad and device therefor
JP2006322821A (en) * 2005-05-19 2006-11-30 Hioki Ee Corp Impedance measuring instrument
JP2009002668A (en) * 2007-06-19 2009-01-08 Panasonic Corp Contact pin

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013061260A (en) * 2011-09-14 2013-04-04 Hioki Ee Corp Circuit board inspection device and circuit board inspection method
JP2013083523A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Hitachi Kokusai Denki Engineering:Kk Four probe resistivity measuring device
JP2016081799A (en) * 2014-10-20 2016-05-16 日置電機株式会社 Contact state discrimination device, inspection equipment for secondary battery, and contact state discrimination method
JP2019090757A (en) * 2017-11-16 2019-06-13 日置電機株式会社 Processing device, inspection device and processing method
US11067658B2 (en) 2018-09-13 2021-07-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Probe card inspection wafer, probe card inspection system, and method of inspecting probe card
CN110032773A (en) * 2019-03-21 2019-07-19 新绎健康科技有限公司 The observation model of EZ characteristic, impedance detection and optical transmission system in fluid
CN110032773B (en) * 2019-03-21 2024-04-26 新绎健康科技有限公司 Observation model of EZ characteristics in fluid, impedance detection and optical transmission system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011085483A (en) Impedance measuring device
CN103185850A (en) Apparatus and method for detecting failure of switching device in inverter
JP5496620B2 (en) Insulation inspection device and insulation inspection method
JP2016119550A (en) Quartz oscillator
JP2007333465A (en) Inspection apparatus
JP6219201B2 (en) AC impedance measuring apparatus and AC impedance measuring method
JP5897393B2 (en) Resistance measuring device
JP5727976B2 (en) Printed circuit board insulation inspection apparatus and insulation inspection method
JP2008139224A (en) Measuring apparatus
JP2007192615A (en) Abnormality detection method of voltage sensor, abnormality detection device, and the voltage sensor
JP2015225040A (en) Substrate inspection device and inspection jig
JP6588261B2 (en) Insulation monitoring device and inverter device
JP6126372B2 (en) Ground resistance meter, ground resistance measurement method, and program
JP2009002857A (en) Circuit element measuring apparatus
JP5290617B2 (en) Impedance measuring apparatus and impedance measuring method
JP2011185625A (en) Inspection device
JP4744025B2 (en) Method for determining connection state of gas sensor and constant potential electrolytic gas measuring instrument
JP6150552B2 (en) Waveform measuring device, current measuring device and power measuring device
JP6949679B2 (en) Processing equipment, inspection equipment and processing method
JP6608234B2 (en) Contact determination device and measurement device
JP5855382B2 (en) Capacitor insulation resistance measuring apparatus and capacitor insulation resistance measuring method
JP2021113730A (en) Apparatus and method for measuring power storage device, and detection apparatus
JP6545598B2 (en) Resistance measuring device and inspection device
JP2011179849A (en) Abnormal waveform detection circuit
JP6400347B2 (en) Inspection device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120921

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131008

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140225