JP2011083754A - ガス溶解水製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】超純水が電解装置3に流入し、水の電気分解により水素ガスが生じる。この水素ガスは、除湿膜9、ガスフィルタ11及びMFC10を経て気体溶解膜モジュール2に向けて導かれる。この水素ガスは、気相室2cに流入し、ガス透過膜2aを通過して液相室2b内に入り込み、ここで超純水に溶解して水素溶解水が得られる。ガス溶解水製造装置を長期間停止すると、電解装置3と除湿膜9との間のガス供給配管8内に凝縮水が貯まるので、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げたときに、その凝縮水が気体溶解膜モジュール2に向かってガス供給配管8内を移動するが、凝縮水はガスフィルタ11で除去されるので、MFC10ガス流量制御装置に到達することがない。
【選択図】図1
Description
図1に示すガス溶解水製造装置を用いて、水素溶解水を製造した。装置及び測定条件の詳細は以下の通りである。
原水:脱気した超純水
原水送水量:20L/min
原水の水温:25℃
水素ガス供給量:270cc/min
溶存水素ガス濃度:1.2ppm(mg/L)
図1に示すガス溶解水製造装置において、ガスフィルタを11aの箇所に設置したもの(実施例2)及び11bの箇所に設置したもの(実施例3)を用いて、同様に3時間連続運転した後、装置を6時間、1日、3日、7日それぞれ停止した。続いて、ガス溶解水製造装置の再立ち上げを行った場合のMFC10の故障の有無を確認した。結果を表1にあわせて示す。
2…気体溶解膜モジュール(ガス溶解装置)
3…電解装置
8…ガス供給配管
9…除湿膜(ガス除湿装置)
10…マスフローコントローラ(MFC)(ガス流量制御装置)
11…ガスフィルタ(水滴除去装置)
12…純水供給配管
Claims (8)
- 水の電気分解を行う電解装置と、水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置と、前記電解装置と前記ガス溶解装置の気相側とを連結するガス供給配管と、前記ガス溶解装置の液相側に連通する純水供給配管とを備え、前記ガス供給配管にガス除湿装置と前記ガス溶解装置内へのガス供給量を制御するガス流量制御装置とが順次付設されたガス溶解水製造装置であって、
前記電解装置と前記ガス流量制御装置との間のガス供給配管に水滴除去装置を設けたことを特徴とするガス溶解水製造装置。 - 前記水滴除去装置を前記ガス除湿装置と前記ガス流量制御装置との間のガス供給配管に設けたことを特徴とする請求項1に記載のガス溶解水製造装置。
- 前記水滴除去装置が、ガスフィルタであることを特徴とする請求項1又は2に記載のガス溶解水の製造装置。
- 前記電解装置での水の電気分解により生じたガスが、水素、酸素又はオゾンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。
- 前記ガス流量制御装置が、マスフローコントローラであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。
- 前記ガス供給配管が、SUS、ナイロン又はフッ素系樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。
- 前記ガス溶解装置が、ガス透過膜によって内部が液相室と気相室とに区画された気体溶解用のガス透過膜モジュールであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。
- 請求項1〜7のいずれかのガス溶解水製造装置を用いてガス溶解水を製造することを特徴とするガス溶解水の製造方法。
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