JP2011081422A - 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平板状シャッター10,20は、マスク4から離れて設けられ、帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、マスク4に近接して設けられている。露光領域を制限する場合、平板状シャッター10,20及び帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、XY方向を所定の位置へ移動され、平板状シャッター10,20は、マスク4の露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、帯状シャッター30a,30b,40a,40bは、マスク4の露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する。平板状シャッター10,20の端部を通過して回折により広がった光は、帯状シャッター30a,30b,40a,40bにより遮断される。
【選択図】図4
Description
2 チャック
3 ステージ
4 マスク
5 ガラス窓
6 マスクホルダ
10,20 平板状シャッター
30a,30b,40a,40b 帯状シャッター
31a,31b,41a,41b ボールねじナット
32a,32b,42a,42b ボールねじ
33,43 ガイド
34a,34b,44a,44b モータ
50 センサーユニット
Claims (4)
- プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光装置であって、
複数の露光パターンが設けられたマスクと、
基板を固定するチャックと、
前記チャックを搭載し、基板のXY方向へのステップ移動及び基板のアライメントを行うステージと、
前記マスクから離れて設けられ、前記マスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断する第1の遮光手段と、前記マスクに近接して設けられ、前記マスクの露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する第2の遮光手段とを有し、前記第1の遮光手段が、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとで構成され、前記第2の遮光手段が、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとで構成された露光用シャッターとを備えたことを特徴とする露光装置。 - プロキシミティ方式を用いて表示用パネルの基板を露光する露光方法であって、
基板をXY方向へステップ移動して基板の一面を複数のショットに分けて露光し、
複数の露光パターンが設けられたマスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、X方向へ移動する平板状シャッターとY方向へ移動する平板状シャッターとを用いて、マスクから離れた高さでマスクの露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、X方向へ移動する複数の帯状シャッターとY方向へ移動する複数の帯状シャッターとを用いて、マスクに近接した高さで露光領域の境界付近へ照射される光を遮断することを特徴とする露光方法。 - 請求項1に記載の露光装置を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項2に記載の露光方法を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
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