JP2011074888A - 遠心圧縮機 - Google Patents

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Abstract

【課題】一台の洗浄液噴射装置で洗浄できる範囲を広くし、これによってより広い範囲に亘って流路全体を効率良く洗浄できるようにした、遠心圧縮機を提供する。
【解決手段】ケーシング5と、このケーシング5内に支持された回転軸と、この回転軸に設けられて回転して流体を圧縮するインペラ3と、このインペラ3とケーシング5とが形成する流路に洗浄液Wを噴射するノズル31とを備える遠心圧縮機である。ノズル31は、流路中のディフューザ12の半径方向内方に向けてディフューザ12の半径方向外方に設けられるとともに、洗浄液Wの少なくとも1つの噴射方向Pが、インペラ3の回転方向Qと同じ方向で、かつ、インペラ3の、ノズル31に対向する位置での前記回転軸の直角断面内において前記流体の流れ方向とほぼ直角に交差するように、設けられている。
【選択図】図3

Description

本発明は、洗浄液噴射装置を備えた遠心圧縮機に関する。
周知のように、各種プラント等に用いられる遠心圧縮機の一種として、流路に洗浄液を噴射するものがある。この種の遠心圧縮機では、洗浄液によって流路に付着・堆積した汚れや熱反応生成物を除去することができるため、前記の付着物・堆積物によって低下した性能を良好に回復することができる。
このような洗浄液を噴射する遠心圧縮機では、従来、洗浄液を噴射するための噴射装置としてスプレー式のノズルが用いられている(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4参照)。
ところで、このような噴射装置は、例えば流路中に配置されたリターンベーンの頂上部、すなわちリターンベーンの半径方向外方に設置され、流路に向けて洗浄液を微粒化して噴射するようになっている。
特開平5−141397号公報 特開平5−223099号公報 特開平6−33899号公報 特開平8−338397号公報
しかしながら、前記のような従来の技術では、リターンベーンの頂上部(リターンベーンの半径方向外方)に噴射装置を設置しているので、噴射口とリターンベーンとの間の距離が短く、したがって噴射された洗浄液がすぐにリターンベーンに衝突・付着してしまい、結果として流路全体を洗浄するのが難しく、流路を局部的にしか洗浄できないといった課題がある。
また、流路を流れる主流(気流)はその流速が非常に大きいため、噴射装置から微粒化して噴霧(噴射)された洗浄液はこの主流によって剪断力を受け、さらに微粒化される。すると、この微粒化された洗浄液はその噴射方向へのベクトルが小さくなるため、主流の接線方向に流れて周方向に広がることなく、主流に取り込まれてすぐにリターンベーンに衝突・付着してしまい、前述したように流路全体を洗浄するのが難しくなっている。
したがって、このように一台の噴射装置で洗浄できる、周方向での範囲が極僅かに限られてしまうことから、流路全体を洗浄しようとすると、相当数の噴射装置を設置する必要があり、装置構成が複雑になるとともに、その分コストも高くなってしまう。
本発明は前記課題を解決するためになされたもので、一台の洗浄液噴射装置で洗浄できる範囲を広くし、これによって流路を効率良く洗浄できるようにした、遠心圧縮機を提供することにある。
前記目的を達成するため本発明の遠心圧縮機は、ケーシングと、このケーシング内に支持された回転軸と、この回転軸に設けられて回転して流体を圧縮するインペラと、このインペラと前記ケーシングとが形成する流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備える遠心圧縮機であって、
前記洗浄液噴射装置は、前記流路中のディフューザの半径方向内方に向けて該ディフューザの半径方向外方に設けられるとともに、前記洗浄液の少なくとも1つの噴射方向が、前記インペラの回転方向と同じ方向で、かつ、前記インペラの、前記洗浄液噴射装置に対向する位置での前記回転軸の直角断面内において前記流体の流れ方向とほぼ直角に交差するように、設けられていることを特徴としている。
この遠心圧縮機によれば、洗浄液噴射装置を、前記流路中のディフューザの半径方向内方に向けて該ディフューザの半径方向外方に設けているので、洗浄液噴射装置から噴射された洗浄液は、一旦ディフューザの半径方向内方に向けて流れた後、流路内を流れる主流によって押し戻され、ディフューザの下流側のリターンベンドを通ってリターンベーン側に流れる。したがって、噴射された洗浄液は比較的長い距離を通って、リターンベーン側に到達するようになる。
また、前記洗浄液の噴射方向を、インペラの回転方向と同じ方向で、かつ、インペラの、洗浄液噴射装置に対向する位置での前記回転軸の直角断面内において前記流体の流れ方向とほぼ直角に交差するようにしているので、洗浄液はインペラの回転方向に沿う主流の流れを受けてこれに乗り、しかも前記したように比較的長い距離を通ってリターンベーン側に到達する。すると、洗浄液はディフューザ通路からリターン通路及びリターンベーンまでの広い範囲に衝突・付着するようになり、これによって流路全体を広い範囲に亘って洗浄することが可能になる。
また、前記遠心圧縮機において、前記洗浄液噴射装置は、前記洗浄液を微粒化することなく連続した液柱状に噴射するのが好ましい。
このようにすれば、洗浄液は噴射された際の噴射方向のベクトルが比較的大きい状態に保持されたままで、流れるようになり、したがって主流による剪断力を受けても微粒化が必要最小限に抑えられ、これによってより良好に流路全体の広い範囲を洗浄するようになる。
なお、この遠心圧縮機においては、前記洗浄液噴射装置が、洗浄液供給源に通じる内部孔と該内部孔に連通して洗浄液を噴射するノズル口とを備えたノズルからなり、
前記内部孔が、前記ノズル口を開口端として該ノズル口と同じ内径を有する直線状の整流部と、該整流部に連続して該整流部より内径が大きく形成された大径部とを備え、前記整流部の流路長が、前記ノズル口の内径の3倍以上に形成されているのが好ましい。
このようにすれば、ノズルの内部孔を流れる洗浄液が、整流部によって整流された状態でノズル口から噴射されるので、噴射された洗浄液にはほとんど旋回ベクトルが与えられなくなる。したがって、噴射された洗浄液は、旋回ベクトルによる微粒化を起こすことなく、連続した液柱状で流れるようになる。
また、この遠心圧縮機においては、前記大径部に、整流板を配置するのが好ましい。
このようにすれば、前記ノズルから噴射する洗浄液を、より良好に整流することができる。
また、前記遠心圧縮機において、前記洗浄液噴射装置は、前記洗浄液の噴射方向が、前記インペラの外側になるように設けられているのが好ましい。
このようにすれば、噴射された洗浄液がインペラに直接あたることが確実に防止され、インペラのエロージョンが防止される。
本願発明によれば、一台の洗浄液噴射装置でリターンベーン側を広い範囲に亘って洗浄できるようにしたので、少ない数の洗浄液噴射装置によってディフューザ通路からリターン通路及びリターンベーンまでの流路全体を効率良く洗浄することができる。
本発明の遠心圧縮機の第1実施形態を示す概略構成断面図である。 図1の要部拡大図である。 図1のA−A線矢視断面図であって、軸の直角断面図である。 (a)はノズルの概略構成を示す要部断面図、(b)は図4(a)のC−C線矢視断面図である。 洗浄液が液柱状に流れる状態を示す模式図である。 洗浄液が流路内を流れる状態を示す模式図である。 洗浄液が流路内を流れる状態を示す模式図であって、図1のB−B線矢視断面の要部を示す図である。 本発明の遠心圧縮機の第2実施形態を説明するための断面図である。 本発明の遠心圧縮機の第3実施形態を説明するための要部側断面図である。 本発明の遠心圧縮機の第4実施形態を説明するための要部側断面図である。 本発明の遠心圧縮機の第5実施形態を説明するための要部側断面図である。 本発明の遠心圧縮機の第6実施形態を説明するための要部側断面図である。
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
(第1実施形態)
図1は、本発明の遠心圧縮機の第1実施形態を示す概略構成断面図であり、図1中符号1は遠心圧縮機である。この遠心圧縮機1は、インペラを6つ備えた多段式の遠心圧縮機である。
この遠心圧縮機1は、軸線O回りに回転させられるシャフト(回転軸)2と、該シャフト2に取り付けられ、遠心力を利用してプロセスガス(気体)Gを圧縮するインペラ3と、シャフト2を回転可能に支持するとともにプロセスガスGを上流側から下流側に流す流路4が形成されたケーシング5と、を備え、さらに流路4に洗浄液Wを噴射する洗浄液噴射装置30を備えて構成されている。
ケーシング5は、略円柱状の外郭をなすように形成されたもので、中心を貫くようにシャフト2が配置されている。ケーシング5の両側には、それぞれジャーナル軸受5a及びスラスト軸受5bが設けられており、シャフト2を回転可能に支持している。つまり、シャフト2は、これらジャーナル軸受5a及びスラスト軸受5bを介してケーシング5に支持されている。
また、ケーシング5の一端側にはプロセスガスGが外部から流入する吸込口5cが設けられ、他端側にはプロセスガスGが外部に流出する排出口5dが設けられている。ケーシング5内には、これら吸込口5c及び排出口5dにそれぞれ連通し、縮径及び拡径を繰り返す内部空間が設けられている。この内部空間は、インペラ3を収容する空間として機能するとともに、前記流路4としても機能する。つまり、吸込口5cと排出口5dとは、インペラ3及び流路4を介して連通している。
インペラ3は、シャフト2の軸方向に間隔を開けて6つ設けられている。各インペラ3は、図1、及び図1の要部拡大図である図2に示すように、排出口5d側に進むにつれて漸次拡径した略円盤状のハブ3aと、ハブ3aに放射状に取り付けられ、周方向に並んだ複数の羽根3bと、これら複数の羽根3bの先端側を周方向に覆うように取り付けられたシュラウド3cと、で主に構成されている。
なお、図2は、一段目及び二段目のインペラ3周辺を示している。
流路4は、プロセスガスGが段階的に圧縮されるように各インペラ3間を繋ぐように形成されている。詳細に説明すると、この流路4は、吸込通路10と、圧縮通路11と、ディフューザ通路(ディフューザ)12と、リターンベンド通路(リターンベンド)13と、リターン通路14とで主に構成されている。
吸込通路10は、径方向外方から径方向内方に向かってプロセスガスGを流した後、このプロセスガスGの向きをインペラ3の直前でシャフト2の軸方向に変換させる通路である。具体的には、後述するリターン通路14を備えて構成されている。
圧縮通路11は、ハブ3aの羽根取付面とシュラウド3cの内壁面とで囲まれた通路であり、吸込通路10から送られてきたプロセスガスGをインペラ3内で圧縮させるための通路である。
ディフューザ通路(ディフューザ)12は、ケーシング5のディフューザ前壁12aと隔壁部材5eのディフューザ後壁12bとで囲まれた通路であり、径方向内方側が圧縮通路11に連通している。このディフューザ通路12は、インペラ3によって圧縮されたプロセスガスGを径方向外方に流している。
なお、ディフューザ通路12の径方向外方側にはリターンベンド通路13を介してリターン通路14に連通しているが、六段目のインペラ3に繋がるディフューザ通路12に関しては排出口5dに連通するようになっている。そして、このディフューザ通路12の半径方向外方には、後述する洗浄液噴射装置30が設けられている。
なお、このディフューザ通路12には、周方向に並ぶように軸線Oを中心として放射状に配置される、複数のディフューザベーン(図示せず)が設けられていてもよい。
リターンベンド通路13は、ケーシング5の反転壁13aと隔壁部材5eの外周壁13bとで囲まれた湾曲してなる通路(流路)であり、一端側がディフューザ通路12に連通し、他端側がリターン通路14に連通している。このリターンベンド通路13は、ディフューザ通路12を通って径方向外方に流れてきたプロセスガスGの向きを、径方向内方に向くように反転させて、リターン通路14に送り出している。なお、ディフューザ通路12とリターンベンド通路13との境界は、図2中において直線状に延在している部分と湾曲している部分との境界とされ、したがって直線状に延在している部分がディフューザ通路12となり、湾曲している部分がリターンベンド通路13となっている。
リターン通路14は、前述したように吸込通路10の一部を構成するもので、ケーシング5に一体的に取り付けられた隔壁部材5eの下流側側壁20aと、ケーシング5に一体的に取り付けられ、径方向内方に延伸した延伸部5fの上流側側壁20bと、で囲まれた通路であり、径方向外方側にてリターンベンド通路13の他端側に連通したものである。ただし、一段目のインペラ3にプロセスガスGを送り出す吸込通路10のリターン通路14は、径方向外方側が吸込口5cに連通するようになっている。
また、このリターン通路14には、周方向に並ぶように軸線Oを中心として放射状に配置された、複数のリターンベーン25が設けられている。なお、リターン通路14とリターンベンド通路13との境界は、図2中において直線状に延在している部分と湾曲している部分との境界とされ、したがって直線状に延在している部分がリターン通路14となり、湾曲している部分がリターンベンド通路13となっている。
このような構成のもとにプロセスガスGは、吸入口5cから流路4内に流入し、一段目のインペラ3の吸込通路10(リターン通路14を含む)、圧縮通路11、ディフューザ通路12、リターンベンド通路13の順に流れた後、二段目のインペラ3の吸込通路10(リターン通路14)、圧縮通路11…という順に流れていく。そして、六段目のインペラ3のディフューザ通路12まで流れたプロセスガスGは、排出口5dから外部に流出するようになっている。
そして、プロセスガスGは、前述した順で流れる途中、各インペラ3によって圧縮される。つまり、本実施形態の遠心圧縮機1では、プロセスガスGを6つのインペラ3によって段階的に圧縮し、これによって大きな圧縮比を得るようになっている。
このような構成からなる遠心圧縮機1には、図1、図2に示したように、ディフューザ通路12の半径方向外方に、洗浄液噴射装置30が設けられている。洗浄液噴射装置(以下、噴射装置と記す。)30は、図1のA−A線矢視断面図であり、軸の直角断面図である図3に示すように、ノズル31と、このノズル31に配管等を介して洗浄液を供給する洗浄液供給源(図示せず)と、を備えて構成されたものである。なお、図3では、シャフト2の記載を省略している。
ノズル31は、図2に示すようにディフューザ通路12の半径方向内方に向けて、該ディフューザ通路12の半径方向外方に設けられたもので、例えばケーシング5を貫通した状態に設けられている。このノズル31は、本実施形態では図3に示すように4台備えられており、これら4台のノズル31は、軸線Oを中心にして等間隔に環状配置されている。
これらノズル31は、図3中矢印Pで示す洗浄液Wの噴射方向が、矢印Qで示すインペラ3の回転方向と同じ方向になり、かつ、インペラ3にあたることなくその外側になるように、構成配置されている。また、矢印Pで示す洗浄液Wの噴射方向が、インペラ3の、ノズル31に対向する位置(最短距離となる位置)での、回転軸(軸線O)の直角断面内において前記流体の流れ方向(図3中矢印Rで示す方向)とほぼ直角に交差するように、ノズル31は構成配置されている。
ここで、ノズル31は、例えば図4(a)に示すように前記洗浄液供給源(図示せず)に通じる内部孔32と、該内部孔32に連通して洗浄液Wを噴射するノズル口33とを備えて構成されている。本実施形態では、ノズル31の先端部に斜面(又は湾曲面)34が形成されており、この斜面34にノズル口33が形成されている。
内部孔32は、ノズル口33を開口端として該ノズル口33と同じ内径を有する直線状の整流部35と、該整流部35に連通して該整流部35より内径が大きく形成された大径部36とを備えて形成されている。なお、図4(a)に示した例では、先端部の斜面34に合わせて、大径部36の先端側にも斜面(又は湾曲面)が形成されており、この斜面に整流部35の一端側が開口している。
整流部35は、その流路長Lが、ノズル口33の内径dの3倍以上に形成されている。具体的には、ノズル口33の内径dは0.1mm程度から10mm程度、好ましくは1mm以上5mm以下程度とされる。このように、ノズル口33の内径dに対して3倍以上の流路長を有する整流部35を設けることにより、ノズル31から噴射される洗浄液Wは、図5に示すように連続した液柱状に流れる。
すなわち、ノズル31の内部孔32を流れる洗浄液Wは、整流部35によって整流された状態でノズル口33から噴射されるので、噴射された洗浄液Wにはほとんど旋回ベクトルが与えられなくなる。したがって、噴射された洗浄液Wは、旋回ベクトルにより液の流れが寸断されて微粒化を起こすことなく、図5に示したように連続した液柱状で流れるようになる。ただし、洗浄液Wはこのようにして液柱状に噴射された後、主流の流れ(プロセスガスGの流れ)による剪断力を受けることにより、その一部は微粒化を起こし、少しずつ微粒化した液滴Uを生じる。
また、図4(a)に示したように大径部36には、整流板37が配置されている。この整流板37は、図4(a)のC−C線矢視断面図である図4(b)に示すように、多数の板が縦横に配置されて格子状に設けられたものである。なお、縦横に配置された板間に形成された正方形状の一辺は、ノズル口33の内径dより大きくなっている。
このような整流板37を大径部36に設けることで、整流部35に流入する洗浄液Wには旋回ベクトルが与えられることなく、直進ベクトルのみが与えられるようになる。したがって、さらに整流部35を流れることで、ノズル31から噴射される洗浄液はより良好に連続し、図5に示したように液柱状になる。
なお、図4(a)では本発明に係るノズル31として、先端部に斜面(又は湾曲面)34を形成し、この斜面34にノズル口33を形成した例を示したが、先端部を平面に形成し、この平面にノズル口を形成するとともに、ノズルの軸線方向に沿って整流部を形成したノズルを、用いることもできる。その場合には、ノズル全体を所定の角度に傾けた状態で、ディフューザ通路12の半径方向外方に設けるようにすればよい。
このような構成からなる噴射装置30にあっては、図2に示したようにノズル31をディフューザ通路12の半径方向内方に向けて、該ディフューザ通路12の半径方向外方に設けているので、ノズル口33から噴射された洗浄液Wは、図6中矢印で示すように一旦ディフューザ通路12の半径方向内方に向けて流れる。しかし、ディフューザ通路12内にはプロセスガスGからなる主流がリターンベンド通路13側に向かって流れているので、洗浄液Wはこの主流によって押し戻され、ディフューザ通路12の下流側のリターンベンド通路13を通り、リターン通路14内のリターンベーン25側に流れる。
したがって、噴射された洗浄液Wは、比較的長い距離を通って比較的長い時間をかけて、リターンベーン25側に到達するようになる。そして、主流の流れ(プロセスガスGの流れ)による剪断力を受けて少しずつ微粒化した液滴Uは、ディフューザ通路12やリターンベンド通路13の内壁面に衝突・付着して洗浄するとともに、主流の流れに乗ってリターン通路14及びリターンベーン25側に到達した後、リターンベーン25やリターン通路14の内壁面に衝突・付着してここを洗浄するようになる。
また、前記洗浄液Wの噴射方向Pを、図3に示したようにインペラ3の回転方向Qと同じ方向で、かつ、回転軸の直角断面内において流体の流れ方向とほぼ直角に交差するようにしているので、洗浄液Wはインペラ3の回転方向に沿う主流の流れを受けてこれに乗る。すなわち、洗浄液Wは回転軸の直角断面内において流体の流れ方向とほぼ直角に交差することにより、主流に押されるようにして、これに乗るようになる。このように主流の流れに乗ると、洗浄液Wはその噴射方向Pより主流の流れ方向に近づくように、流れる方向が湾曲する。その結果、洗浄液Wはインペラ3の回転方向Qにおいて、より広い範囲を流れるようになる。
すると、洗浄液Wは、前記したように比較的長い距離を通って比較的長い時間をかけてリターンベーン25側に到達し、少しずつ微粒化した液滴Uがリターンベーン25やリターン通路14の内壁面に衝突・付着するので、図1のB−B線矢視断面の要部である図7に示すように、洗浄液Wはリターンベーン25側の広い範囲Sに、衝突・付着するようになる。換言すれば、一つのノズル31の洗浄可能範囲が、前記範囲Sに示したように、従来に比べ格段に広くなる。
したがって、このような構成の遠心圧縮機1にあっては、一台のノズル31でディフューザ通路12からリターンベンド通路13及びリターン通路14、リターンベーン25までの流路の広い範囲に亘って洗浄できるようにしたので、少ない数のノズル21、例えば図3に示したように4台のノズル31により、リターンベーン25側の流路全体を効率良く洗浄することができる。よって、装置構成を簡易にし、コスト低減化を図ることができる。
また、洗浄液Wを噴霧することで微粒化した状態に供給することなく、連続した液柱状に噴射しているので、主流による剪断力によって洗浄液Wが微粒化するのを必要最小限に抑えることができ、これによって洗浄液Wをより良好に流路全体に拡げて、広い範囲を洗浄することができる。
さらに、ノズル31の噴射方向を、インペラ3の外側になるように設けているので、噴射された洗浄液Wがインペラ3に直接あたることを防止し、インペラ3のエロージョンを防止することができる。
(第2実施形態)
図8は、本発明の遠心圧縮機の第2実施形態を示す図であり、第1実施形態における図3に対応する図である。第2実施形態の遠心圧縮機が、第1実施形態の遠心圧縮機1と異なるところは、第1実施形態ではノズル31(洗浄液噴射装置30)を4台配置したのに対し、第2実施形態ではノズル(洗浄液噴射装置30)を2台配置した点である。
すなわち、この第2実施形態では、ノズルとしてノズル口33を二つ備えたものが用いられる。具体的には、例えば図4(a)に示したノズル31において、実線で示した整流部35及びノズル口33に加えて、二点鎖線で示した整流部35及びノズル口33も形成したものが用いられる。このように、一つのノズルに整流部35及びノズル口33を二つずつ形成したことにより、このノズルは、同時に異なる二つの噴射方向に、洗浄液Wを液柱状に噴射することができるようになっている。
したがって、このノズル31を二つ、図8に示したように相対向した状態で、かつ、ディフューザ通路12の半径方向内方に向けて、該ディフューザ通路12の半径方向外方に設けることにより、図3に示したように4台設けた場合と同様に、流路全体を効率良く洗浄することができる。よって、装置構成をより簡易にし、コスト低減化を図ることができる。
なお、図8に示した例では、ノズル31の二つのノズル口33のうち、一方のノズル口33は図3に示した場合と同様に、その噴射方向をインペラ3の回転方向と同じにしているが、他方のノズル口33は、その噴射方向がインペラ3の回転方向と逆方向になる。したがって、この逆方向に向くノズル口33からの洗浄液Wの流動範囲は、回転方向と同じに向くノズル口33からの洗浄液Wの流動範囲より狭くなる。しかし、このようなノズル31を二つ組み合わせることで、流路全体を、ほぼ十分に洗浄できるようになる。
(第3実施形態)
図9は、本発明の遠心圧縮機の第3実施形態を示す図であり、第1実施形態における図6に対応する図である。第3実施形態の遠心圧縮機が、第1実施形態の遠心圧縮機1と異なるところは、第1実施形態ではノズル31(洗浄液噴射装置30)の設置位置を、ディフューザ通路12の半径方向内方に向けて、該ディフューザ通路12の半径方向外方に設けるとしか規定していないのに対し、第3実施形態では、ノズル31(洗浄液噴射装置30)の設置位置を、ディフューザ通路12におけるシャフト2の軸方向前後に設けられた壁面(前壁12a及び後壁12b)近傍を除く中央部に規定した点である。
すなわち、この第3実施形態では、ディフューザ通路12における前壁12aと後壁12bとの間の中央部に噴射方向が向くように、ノズル31を配置している。
このように配置することで、ノズル31から噴射された洗浄液Wは、より強く主流の影響を受けて図5に示した液柱は湾曲する。
したがって、一台のノズル31によって流路を、より広い範囲に亘って洗浄できるようになる。
なお、このようにノズル31を配置すると、より強く主流の影響を受ける分、洗浄液Wはその剪断力による微粒化過程も早くなる。
(第4実施形態)
図10は、本発明の遠心圧縮機の第4実施形態を示す図である。この第4実施形態の遠心圧縮機が、第3実施形態の遠心圧縮機と異なるところは、第3実施形態ではノズル31(洗浄液噴射装置30)の設置位置を、ディフューザ通路12の中央部に規定したのに対し、第4実施形態では、後壁12b面に沿わせて配置した点である。
このように配置することで、ノズル31から噴射された洗浄液Wは、後壁12b面近傍の境界層に沿って流れるようになり、図9に示した第3実施形態の場合に比べ、主流の影響を受けにくくなる。
したがって、第3実施形態の場合に比べて主流の剪断力による微粒化過程を遅らせることができ、噴射した洗浄液Wの、インペラ3の周方向への拡がり角度を大きくすることができる。よって、一台のノズル31で流路を、より広い範囲に亘って洗浄できるようになる。
なお、このようにノズル31を配置すると、スパン方向(シャフト2の軸方向)での洗浄液Wの液滴Uの粒径分布が大きくなることがある。
(第5実施形態)
図11は、本発明の遠心圧縮機の第5実施形態を示す図である。この第5実施形態の遠心圧縮機が、第4実施形態の遠心圧縮機と異なるところは、第4実施形態ではノズル31(洗浄液噴射装置30)の設置位置を、後壁12b面に沿わせて配置したのに対し、第5実施形態では、前壁12a面に沿わせて配置した点である。
このように配置しても、ノズル31から噴射された洗浄液Wは、前壁12a面近傍の境界層に沿って流れるようになり、図9に示した第3実施形態の場合に比べ、主流の影響を受けにくくなる。
したがって、第3実施形態の場合に比べて主流の剪断力による微粒化過程を遅らせることができ、噴射した洗浄液Wの、インペラ3の周方向への拡がり角度を大きくすることができる。よって、第4実施形態と同様に、一台のノズル31で流路を、より広い範囲に亘って洗浄できるようになる。
なお、このようにノズル31を配置しても、第4実施形態と同様に、スパン方向(シャフト2の軸方向)での洗浄液Wの液滴Uの粒径分布が大きくなることがある。
(第6実施形態)
図12は、本発明の遠心圧縮機の第6実施形態を示す図である。この第6実施形態の遠心圧縮機が、第4実施形態、第5実施形態の遠心圧縮機と異なるところは、第4実施形態、第5実施形態ではノズル31(洗浄液噴射装置30)の設置位置を、後壁12b面、あるいは前壁12a面に沿わせて配置したのに対し、第6実施形態では、後壁12b面と前壁12a面との両方に、それぞれ沿わせて配置した点である。
このように配置すると、第4実施形態、第5実施形態ではスパン方向(シャフト2の軸方向)での洗浄液Wの液滴Uの粒径分布が大きくなることがあるのに対し、スパン方向(シャフト2の軸方向)での液滴Uの粒径分布を均一化することができる。
したがって、流路全体を、より広い範囲に亘って洗浄することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、前記第6実施形態では第4実施形態と第5実施形態とを組み合わせた構成としたが、第3実施形態に第4実施形態を組み合わせた構成や、第3実施形態に第5実施形態を組み合わせた構成としてもよく、さらには、第3実施形態に第6実施形態を組み合わせた構成としてもよい。
また、第3実施形態〜第6実施形態では、特にノズル31の設置台数については規定していないが、第1実施形態に示したように4台設置してもよく、第2実施形態のように2台設置してもよい。さらには、1台、3台、または5台以上設置してもよい。
そして、このような設置台数については、第3実施形態〜第6実施形態についても、同様に適用できる。
また、多段式の遠心圧縮機について説明したが、これに限られるものではなく、単段式にも適用できる。
1…遠心圧縮機、2…シャフト(回転軸)、3…インペラ、4…流路、5…ケーシング、12…ディフューザ通路(ディフューザ)、13…リターンベンド通路(リターンベンド)、14…リターン通路、30…洗浄液噴射装置、31…ノズル、32…内部孔、33…ノズル口、35…整流部、36…大径部、37…整流板、G…プロセスガス、P…噴射方向、Q…インペラの回転方向、W…洗浄液

Claims (5)

  1. ケーシングと、このケーシング内に支持された回転軸と、この回転軸に設けられて回転して流体を圧縮するインペラと、このインペラと前記ケーシングとが形成する流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備える遠心圧縮機であって、
    前記洗浄液噴射装置は、前記流路中のディフューザの半径方向内方に向けて該ディフューザの半径方向外方に設けられるとともに、前記洗浄液の少なくとも1つの噴射方向が、前記インペラの回転方向と同じ方向で、かつ、前記インペラの、前記洗浄液噴射装置に対向する位置での前記回転軸の直角断面内において前記流体の流れ方向とほぼ直角に交差するように、設けられていることを特徴とする遠心圧縮機。
  2. 前記洗浄液噴射装置は、前記洗浄液を微粒化することなく連続した液柱状に噴射することを特徴とする請求項1記載の遠心圧縮機。
  3. 前記洗浄液噴射装置は、洗浄液供給源に通じる内部孔と該内部孔に連通して洗浄液を噴射するノズル口とを備えたノズルからなり、
    前記内部孔は、前記ノズル口を開口端として該ノズル口と同じ内径を有する直線状の整流部と、該整流部に連続して該整流部より内径が大きく形成された大径部とを備え、前記整流部の流路長は、前記ノズル口の内径の3倍以上に形成されていることを特徴とする請求項2記載の遠心圧縮機。
  4. 前記大径部に、整流板を配置したことを特徴とする請求項3記載の遠心圧縮機。
  5. 前記洗浄液噴射装置は、前記洗浄液の噴射方向が、前記インペラの外側になるように設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の遠心圧縮機。
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