JP2011074404A - 蒸着用マスク - Google Patents
蒸着用マスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011074404A JP2011074404A JP2009223565A JP2009223565A JP2011074404A JP 2011074404 A JP2011074404 A JP 2011074404A JP 2009223565 A JP2009223565 A JP 2009223565A JP 2009223565 A JP2009223565 A JP 2009223565A JP 2011074404 A JP2011074404 A JP 2011074404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- side opening
- vapor
- mask
- deposition source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 24
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】 微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】 蒸着源３から蒸発した蒸着材料４を被蒸着部材（透光性基板）１に所定のパターンで蒸着させるための開口部２ａを有する１層の金属板からなる蒸着用マスク２である。開口部２ａは、大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなり、蒸着源側開口部２ａ２は被蒸着部材側開口部２ａ１より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスクである。前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成してなることを特徴とする。
【選択図】 図１
【解決手段】 蒸着源３から蒸発した蒸着材料４を被蒸着部材（透光性基板）１に所定のパターンで蒸着させるための開口部２ａを有する１層の金属板からなる蒸着用マスク２である。開口部２ａは、大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなり、蒸着源側開口部２ａ２は被蒸着部材側開口部２ａ１より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスクである。前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成してなることを特徴とする。
【選択図】 図１
Description
本発明は、蒸着装置内に配設され、被蒸着部材に所定のパターンで蒸着材料を蒸着するための蒸着用マスクに関するものである。
従来、有機ＥＬパネルとしては、ガラス材料からなる透光性基板上に、ＩＴＯ（indium tin oxide）等によって陽極となる透明電極と、正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層からなる有機層と、陰極となるアルミニウム（Al）等の非透光性の背面電極とを順次積層して積層体である有機ＥＬ素子を形成し、この積層体を覆うガラス材料からなる封止部材を透光性基板上に配設してなるものが知られている。このような有機ＥＬパネルは、例えば特許文献１に開示されている。
かかる有機ＥＬパネルは、有機ＥＬ素子を構成する各層（正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層，背面電極）に対応する複数の蒸着室を有する蒸着装置に透明電極の形成された透光性基板（被蒸着部材）を投入し、各層を形成することで得られるものである。かかる蒸着装置における各蒸着室は、例えば真空ポンプによって高真空に保たれ、これらの蒸着室内の下側に、蒸着材料を収納するルツボとこのルツボを取り巻くように巻回される加熱コイルとルツボ及び加熱コイルを包囲するように配設される熱遮蔽部材とを有する蒸着源が配設され、加熱コイルに電流が供給されることで蒸着材料が蒸発する。一方、各蒸着室の上側には、透光性基板を有する基板ホルダーと、基板ホルダーの背後に配設され蒸着用マスクを有するマスクホルダーとが配設されている。マスクホルダーに備えられる蒸着用マスクは、金属材料からなり、透光性基板に所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、透光性基板への蒸着パターンの形成を阻止するマスク部（遮蔽部）とを有しており、蒸発した蒸着材料が蒸着用マスクに設けられる各開口部を通過することで透光性基板上に所定の蒸着パターンが形成されるようになっている。このような蒸着用マスクは、例えば特許文献２に開示されている。
かかる蒸着用マスクは、厚さが５０μｍ〜２００μｍ程度の薄肉の板状部材から構成されることが一般的であるが、大型化に伴って自重で撓みが発生するという問題点があった。これに対し、被蒸着部材への蒸着材料の付着を阻止しないように蒸着用マスク以上の厚みを有する金属製の遮光部を蒸着用マスクの開口部の周縁部に重ね合わせる方法が特許文献３に開示されている。
しかしながら、蒸着用マスク自体の厚さが薄いままであると作業上の取り扱いが難しく作業性が悪いといった問題点を有している。また、蒸着用マスクを厚くすると、開口部の縁部が妨げとなって蒸着材料が付着しないまたは膜厚が不均一なエリアが生じ、微細な蒸着パターンを形成することができないといった問題点を有していた。
本発明の前述した問題点に着目し、微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供することを目的とする。
本発明は、前述した課題を解決するため、蒸着源から蒸発した蒸着材料を被蒸着部材に所定のパターンで蒸着させるための開口部を有する１層の金属板からなる蒸着用マスクであって、前記開口部は、大きさの異なる被蒸着部材側開口部と蒸着源側開口部とからなり、前記蒸着源側開口部は前記被蒸着部材側開口部より大きく形成されてなることを特徴とする。
また、前記蒸着源は前記被蒸着部材の中心からオフセットした位置に配置され、前記被蒸着部材側開口部と前記蒸着源側開口部との寸法差をｘ、前記蒸着源側開口部の厚さをｙ、前記蒸着源からの前記蒸着材料の入射角をθとしたとき、
ｘ＞ｙ×ｔａｎθ
であることを特徴とする。
ｘ＞ｙ×ｔａｎθ
であることを特徴とする。
また、前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって前記被蒸着部材側開口部及び前記蒸着源側開口部を形成してなることを特徴とする。
本発明は、蒸着装置内に配設され、被蒸着部材に所定のパターンで蒸着材料を蒸着させるための蒸着用マスクに関し、微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能となるものである。
以下、添付図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
図１は、一般的な蒸着装置の蒸着室内を簡略的に示すものである。蒸着室内には、被蒸着部材である透光性基板１と、蒸着用マスク２と、蒸着源３と、が配設されている。
透光性基板１は、透明ガラス材からなる矩形状の板状部材である。透光性基板１上には蒸着用マスク２を介して蒸着源３から蒸発する蒸着材料４が所定のパターンで蒸着される。
蒸着用マスク２は、厚さｗが５０μｍ〜２００μｍ（大型化する場合は更に厚くすることができる）であり、ＳＵＳ４３０やＳＵＳ３０４等の金属板からなり、透光性基板１と蒸着源３との間に配設される。蒸着用マスク２は、蒸着源３から蒸発する蒸着材料４を所定のパターンで透光性基板１上に蒸着させるために設けられる開口部２ａを備えている。開口部２ａは、例えばエッチング処理によって形成される。
蒸着源３は、蒸着材料４が収納される容器であり、例えば蒸着材料４を収納するルツボと、このルツボを取り巻くように巻回される加熱コイルと、前記ルツボ及び前記加熱コイルを包囲するように配設される熱遮蔽部材と、を有する。前記加熱コイルに電流が供給されることで蒸着材料４が支持基板１に向けて蒸発する。
次に、本発明の特徴点について述べる。蒸着用マスク２は、開口部２ａの大きさ（幅）を蒸着源３側と透光性基板１側とで異ならせるものである。すなわち、開口部２ａは大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなる。被蒸着部材側開口部２ａ１は、蒸着材料４の蒸着パターンを形成するために設けられるものであり、その大きさは蒸着パターンに応じて設定される。蒸着源側開口部２ａ２は透光性基板１への蒸着材料４の付着を妨げないよう被蒸着部材側開口部２ａ１よりも大きく（幅広に）なるように形成されるものである。被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２は、例えば蒸着マスク２の両面をエッチング処理することによって形成される。かかる蒸着用マスク２によれば、蒸着パターンに応じて蒸着材料４の付着を遮るべき個所のみが薄く形成されるため、蒸着マスク２自体の板厚を薄くすることがなく蒸着パターンに応じた開口部２ａ形状を得ることができ、蒸着材料４が不均一なエリアを抑制して微細な蒸着パターンを形成することができ、また、蒸着用マスク２の作業性を向上させることができる。
次に、さらに具体的に蒸着材料４の付着が妨げられない開口部２ａの形状を得るための方法について述べる。蒸着源３は、透光性基板１に付着する蒸着材料４の膜厚を均一化するために、透光性基板１の中心から所定量オフセットした位置に配設される。したがって、蒸着材料４は蒸着経路４ａを経て支持基板１上に蒸着される。開口部２ａの端部によって透光性基板１への蒸着材料４の付着を妨げないためには、蒸着材料４の蒸着経路４ａを考慮して蒸着源側開口部２ａ２の大きさを規定する必要があり、蒸着源３の被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２との寸法差（被蒸着部材側開口部２ａ１の端部から蒸着源側開口部２ａ２の端部までの幅）をｘ、蒸着源側開口部２ａ２の厚さをｙ、蒸着源３からの蒸着材料４の入射角（透光性基板１と経路４ａとの成す角度）をθとしたとき、
ｘ＞ｙ×ｔａｎθ
となるように被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成する。蒸着源側開口部２ａ２が過度に大きくなれば蒸着材料４の蒸着経路４ａを妨げることはないものの被蒸着部材側開口部２ａ１周辺の強度は低下するため、上記式を満たす範囲で蒸着源側開口部２ａ２の大きさを調整することで、蒸着用マスク２の強度を維持しつつ微細な蒸着パターンを形成することができる。
ｘ＞ｙ×ｔａｎθ
となるように被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成する。蒸着源側開口部２ａ２が過度に大きくなれば蒸着材料４の蒸着経路４ａを妨げることはないものの被蒸着部材側開口部２ａ１周辺の強度は低下するため、上記式を満たす範囲で蒸着源側開口部２ａ２の大きさを調整することで、蒸着用マスク２の強度を維持しつつ微細な蒸着パターンを形成することができる。
本発明は、蒸着装置内に配設され、被蒸着部材に所定のパターンで蒸着材料を蒸着するための蒸着用マスクに好適である。
１ 透光性基板（被蒸着部材）
２ 蒸着用マスク
２ａ 開口部
２ａ１ 被蒸着部材側開口部
２ａ２ 蒸着源側開口部
３ 蒸着源
４ 蒸着材料
４ａ 蒸着経路
２ 蒸着用マスク
２ａ 開口部
２ａ１ 被蒸着部材側開口部
２ａ２ 蒸着源側開口部
３ 蒸着源
４ 蒸着材料
４ａ 蒸着経路
Claims (3)
- 蒸着源から蒸発した蒸着材料を被蒸着部材に所定のパターンで蒸着させるための開口部を有する１層の金属板からなる蒸着用マスクであって、
前記開口部は、大きさの異なる被蒸着部材側開口部と蒸着源側開口部とからなり、前記蒸着源側開口部は前記被蒸着部材側開口部より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスク。 - 前記蒸着源は前記被蒸着部材の中心からオフセットした位置に配置され、前記被蒸着部材側開口部と前記蒸着源側開口部との寸法差をｘ、前記蒸着源側開口部の厚さをｙ、前記蒸着源からの前記蒸着材料の入射角をθとしたとき、
ｘ＞ｙ×ｔａｎθ
であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。 - 前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって前記被蒸着部材側開口部及び前記蒸着源側開口部を形成してなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009223565A JP2011074404A (ja) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | 蒸着用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009223565A JP2011074404A (ja) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | 蒸着用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011074404A true JP2011074404A (ja) | 2011-04-14 |
Family
ID=44018692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009223565A Pending JP2011074404A (ja) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | 蒸着用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2011074404A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103205695A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用掩模板及其制作工艺 |
| WO2013187089A1 (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-19 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌデバイスの製造方法、および、有機ｅｌデバイス |
| JP2018508375A (ja) * | 2015-02-20 | 2018-03-29 | シーウェア システムズＳｉ−Ｗａｒｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ | 微細加工構造のための選択的なステップカバレッジ |
| CN110079762A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003045657A (ja) * | 2001-05-24 | 2003-02-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機ｅｌ素子用蒸着マスクと有機ｅｌ素子用蒸着マスクの製造方法 |
| JP2004030975A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法 |
| JP2004225077A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク |
-
2009
- 2009-09-29 JP JP2009223565A patent/JP2011074404A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003045657A (ja) * | 2001-05-24 | 2003-02-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機ｅｌ素子用蒸着マスクと有機ｅｌ素子用蒸着マスクの製造方法 |
| JP2004030975A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法 |
| JP2004225077A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103205695A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用掩模板及其制作工艺 |
| CN103205695B (zh) * | 2012-01-16 | 2015-11-25 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用掩模板及其制作工艺 |
| WO2013187089A1 (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-19 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌデバイスの製造方法、および、有機ｅｌデバイス |
| JP2013257991A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Nitto Denko Corp | 有機ｅｌデバイスの製造方法、および、有機ｅｌデバイス |
| JP2018508375A (ja) * | 2015-02-20 | 2018-03-29 | シーウェア システムズＳｉ−Ｗａｒｅ Ｓｙｓｔｅｍｓ | 微細加工構造のための選択的なステップカバレッジ |
| CN110079762A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
| CN110079762B (zh) * | 2019-04-11 | 2021-06-01 | Tcl华星光电技术有限公司 | 掩膜板及蒸镀oled器件的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI609978B (zh) | 蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩準備體、蒸鍍遮罩之製造方法、及有機半導體元件之製造方法 | |
| KR102242389B1 (ko) | 증착 마스크의 제조 방법 | |
| JP6345901B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着方法および有機ｅｌ表示装置の製造方法 | |
| TWI687315B (zh) | 蒸鍍遮罩、圖案之製造方法、有機半導體元件的製造方法 | |
| TWI509095B (zh) | A manufacturing method of the imposition-type deposition mask and a manufacturing method of the resulting stencil sheet and an organic semiconductor device | |
| JP6168944B2 (ja) | 成膜マスク | |
| US20140033974A1 (en) | Mask for deposition and method for aligning the same | |
| TW201932631A (zh) | 用於製造有機半導體元件的蒸鍍遮罩、用於製造有機半導體元件的蒸鍍遮罩之製造方法、用於製造有機半導體元件的蒸鍍遮罩準備體、圖案之形成方法、及有機半導體元件之製造方法 | |
| JP2011074404A (ja) | 蒸着用マスク | |
| TW201114935A (en) | Sputtering system, rotatable cylindrical target assembly, backing tube, target element and cooling shield | |
| JP6394877B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
| JP6407479B2 (ja) | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 | |
| JP4364957B2 (ja) | 蒸着マスク | |
| JPWO2014122700A1 (ja) | 成膜装置 | |
| JP4995306B2 (ja) | 成膜基板ホルダ及び成膜装置 | |
| WO2018196365A1 (zh) | 掩模片、掩模板及其组装方法 | |
| JP2005105406A (ja) | 蒸着用マスク | |
| KR100477747B1 (ko) | 증착장치 및 증착장치용 차단부재의 설계방법 | |
| JP2004232050A (ja) | 蒸着用治具 | |
| JP2008010268A (ja) | メタルマスク及び有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法 | |
| JP2007119893A (ja) | 蒸着装置 | |
| WO2014019534A1 (zh) | 一种镀膜方法及镀膜器件 | |
| TW200901534A (en) | Apparatus for depositing organic thin film | |
| JP2005076037A (ja) | 有機薄膜形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130709 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130711 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131105 |