JP2011063876A5 - スパッタリング装置及び真空処理装置 - Google Patents

Description

本発明はスパッタリング装置及び真空処理装置に関する。

本発明の目的は、上記問題点に鑑みて、真空容器の外側に取り廻されたガス配管経路を短縮することで、放電ガスが各カソードに供給されるタイミングを一致させるとともに、ガスレスポンスやメンテナンス性、さらには信頼性の向上及び低コスト化を図ることができるスパッタリング装置、及び真空処理装置を提供することを目的とする。

本発明に係るスパッタリング装置は、チャンバフレームと、
前記チャンバフレームに開閉可能に取り付けられ、カソードが設けられた扉と、
該扉に取り付けられ、前記カソードに放電ガスを供給するガス流路を有する扉側導入ブロックと、
前記チャンバフレームに取り付けられ、前記チャンバフレームの外部から導入された放電ガスを前記扉側導入ブロックに供給するガス流路を有するチャンバ側導入ブロックとを備え、
前記扉側導入ブロックおよび前記チャンバ側導入ブロックのいずれか一方は伸縮および屈曲可能であり、
前記扉を閉じた際に、前記扉側導入ブロックのガス流路と前記チャンバ側導入ブロックのガス流路とが連通されることを特徴とする。

本発明によれば、真空容器の外側に取り廻されたガス配管経路を短縮でき、ガスレスポンス、メンテナンス性、信頼性の向上を図ることができる。また、ガス供給に用いる部品点数を削減することができ、コスト低減に寄与することができる。

Claims (4)

1. チャンバフレームと、
   前記チャンバフレームに開閉可能に取り付けられ、カソードが設けられた扉と、
   該扉に取り付けられ、前記カソードに放電ガスを供給するガス流路を有する扉側導入ブロックと、
   前記チャンバフレームに取り付けられ、前記チャンバフレームの外部から導入された放電ガスを前記扉側導入ブロックに供給するガス流路を有するチャンバ側導入ブロックと、を備え、
   前記扉側導入ブロックおよび前記チャンバ側導入ブロックのいずれか一方は伸縮および屈曲可能であり、
   前記扉を閉じた際に、前記扉側導入ブロックのガス流路と前記チャンバ側導入ブロックのガス流路とが連通されることを特徴とするスパッタリング装置。
2. 前記扉側導入ブロックは、
   前記扉側に固定される扉固定部と、
   前記チャンバ側導入ブロックと当接する扉側シール部と、
   前記扉固定部と扉側シール部とを連結する伸縮部とを有し、
   前記伸縮部は、フレキシブルチューブを有することを特徴とする請求項１に記載のスパッタリング装置。
3. 前記伸縮部は、前記フレキシブルチューブとコイルばねとを有し、
   前記フレキシブルチューブは、前記コイルばねの内側に挿通された状態で配設されることを特徴とする請求項２に記載のスパッタリング装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載のスパッタリング装置を備えることを特徴とする真空処理装置。