JP2011060924A5 - 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents

Claims (4)

1. 基板を保持可能に構成される基板支持部と、
   前記基板支持部に保持された基板の周縁の少なくとも一部に設けられるプレートを有し、
   前記基板支持部に保持された基板と前記プレートとの間に所定の間隔が設けられるように形成される基板保持具の前記基板支持部に基板を搬送する基板移載装置と、
   前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置を検出可能に構成される検出装置と、
   前記基板移載装置を制御する制御装置と、を有し、前記制御装置は、前記基板支持部に保持された基板の第一正常位置範囲データ及び前記プレートの第二正常位置範囲データを記憶する記憶装置と、
   前記検出装置が検出した前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置と前記記憶装置に記憶された前記第一正常位置範囲データ及び前記第二正常位置範囲データとを比較し、前記基板の位置及び前記プレートの位置の少なくとも一方が前記第一正常位置範囲データ外若しくは及び前記第二正常位置範囲データ外にあると判断した場合に異常と判断する判断装置と、
   を有する基板処理装置。
2. 前記基板移載装置は、さらに前記基板保持具と異なり、前記基板支持部を有し、前記プレートを有さない他の基板保持具における前記基板支持部に基板を搬送可能に構成されており、前記基板移載装置が、前記他の基板保持具における前記基板支持部に基板を搬送する場合には、前記判断装置は、前記異常判断に代えて、前記検出装置が検出した前記基板保持具に保持された基板の位置と前記記憶装置に記憶された前記第一正常位置範囲データとを比較し、前記基板の位置が前記第一正常位置範囲データ外にあると判断した場合に異常と判断する請求項１の基板処理装置。
3. 基板を保持した基板支持部と、前記基板支持部に保持された基板の周縁の少なくとも一部に設けられるプレートを有し、前記基板支持部に保持された基板と前記プレートとの間に所定の間隔が設けられるように形成される基板保持具を処理室内に搬送する工程と、
   前記処理室で前記基板を熱処理する工程と、検出装置により、前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置を検出する工程と、
   前記検出装置が検出した前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置と、記憶装置に記憶された前記基板支持部に保持された基板の第一正常位置範囲データ及び前記プレートの第二正常位置範囲データとを比較し、前記基板の位置及び前記プレートの位置の少なくとも一方が前記第一正常位置範囲データ外若しくは及び前記第二正常位置範囲データ外であれば異常と判断する工程と、
   を有する基板処理方法。
4. 基板を保持した基板支持部と、前記基板支持部に保持された基板の周縁の少なくとも一部に設けられるプレートを有し、前記基板支持部に保持された基板と前記プレートとの間に所定の間隔が設けられるように形成される基板保持具を処理室内に搬送する工程と、
   前記処理室で前記基板を熱処理する工程と、検出装置により、前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置を検出する工程と、
   前記検出装置が検出した前記基板支持部に保持された基板の位置及び前記プレートの位置と、記憶装置に記憶された前記基板支持部に保持された基板の第一正常位置範囲データ及び前記プレートの第二正常位置範囲データとを比較し、前記基板の位置及び前記プレートの位置の少なくとも一方が前記第一正常位置範囲データ外若しくは及び前記第二正常位置範囲データ外であれば異常と判断する工程と、
   を有する半導体装置の製造方法。