JP2011060602A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】給電口カバー等に付着した食品等の汚れを、強くこすらなくても容易に落とすことができる加熱調理器を提供すること。
【解決手段】被加熱物を加熱する加熱室２と、加熱室２の側面２ｂから加熱室２内に高周波を発振するマグネトロン６と、加熱室２の側面２ｂに設けられマグネトロン６から発振された高周波を導波管７を介して加熱内に供給する給電口５と、給電口５を覆う給電口カバー１０とを備え、給電口カバー１０は表面処理層１５が設けられたセラミック素材１１で構成され、前記表面処理層１５を、表面セラミック素材１１の表面に形成された非通水性の釉薬層１２と、非通水性の釉薬層１２の上に形成された通水性の釉薬層１３と、通水性の釉薬層１３の上に形成された非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４とによって構成したものである。
【選択図】図３

Description

本発明は、加熱調理器に係り、より詳しくは、セラミック素材で構成された給電口カバー等の表面に表面処理層を形成して、食品かす等の汚れが付着しても容易に落とすことができる加熱調理器に関するものである。

従来の高周波加熱装置に、加熱室に設けられた給電口のカバーを塗装やホーローのガラスコーティングで覆い、食品かす等の汚れが付着しにくくし、また掃除をし易くしたものがある（例えば、特許文献１参照）。

特開昭５８−１４５８２７号公報（第２頁、第３図）

特許文献１の給電口のカバーに塗装したものは、付着した食品かす等を掃除する際に強くこすると塗装が剥がれてしまい、密着性が充分ではなかった。また、給電口のカバーをホーロー被覆したものは、強くこすることができて耐久性はあるが、付着した食品かす等がこびり付いてしまい、落とすことが容易ではなかった。

本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、給電口カバー等に付着した食品等の汚れを、強くこすらなくても容易に落とすことができる加熱調理器を提供することを目的とする。

本発明に係る加熱調理器は、被加熱物を加熱する加熱室と、加熱室の側面から加熱室内に高周波を発振するマグネトロンと、加熱室の側面に設けられマグネトロンから発振された高周波を導波管を伝搬させて加熱室内に供給する給電口と、給電口を覆う給電口カバーとを備え、
給電口カバーは表面処理層が設けられたセラミック素材で構成され、表面処理層を、セラミック素材の表面に形成された非通水性の釉薬層と、非通水性の釉薬層の上に形成された通水生の釉薬層と、通水性の釉薬層の上に形成された非粘着性に優れたフッ素樹脂層とによって構成した。

給電口カバー、仕切り板、加熱室側板、調理皿等をセラミック素材で構成し、その表面に非通水性の釉薬層と通水性の釉薬層の２種類の釉薬を形成し、通水性の釉薬層の上に非粘着性に優れたフッ素樹脂層を形成して表面処理層を設けたので、食品かす等の汚れが付着しても強くこすらずに容易に落とすことができる。

本発明の実施の形態１に係る加熱調理器の斜視図である。 図１の縦断面図である。 図２の給電口カバーの要部を示す縦断面図である。 図２の給電口カバーの他の例を示す縦断面図である。 本発明の実施の形態２に係る加熱調理器の斜視図である。

実施の形態１．
図１、図２は本発明の実施の形態１に係る側部給電方式の加熱調理器を示し、その本体（調理器本体）１の内部には、前面が開口したほぼ箱形の加熱室２が形成されており、主に食品である被加熱物を収容して加熱する。本体１の前面開口部には、ドア４０が開閉自在に取り付けられている。
本体１の前面であってドア４０の側方には操作パネル４１が設けられており、温度設定キー４２、クリーニングモードキー４３、調理時間設定や調理開始等のキー（図示せず）と調理モードを示す表示部４４を備えている。

加熱室２の側面２ａ、２ｂ、天面２ｃ、底面２ｄ、背面２ｅは鋼板で構成され、加熱室２の天面２ｃの外側には上ヒーター（ヒーター加熱手段）３が設けられており、底面２ｄの外側には下ヒーター（ヒーター加熱手段）４が設けられている。また、加熱室２の側面２ｂ（図２の右側側面）には外側に窪んだ凹部２ｆに給電口５が設けられている。
加熱室２の側面２ｂの外側には、高周波発振器であるマグネトロン６が設けられており、マグネトロン６から発振された高周波を給電口５を介して加熱室２へ伝播する導波管７が設けられている。

加熱室２内部の底面２ｄの近傍には被加熱物を載置する受台８が設けられており、モーター９により回転駆動されるようになっている。

側面２ｂの凹部２ｆに設けられた給電口５は凹部２ｆの内側（加熱室２側）から給電口カバー１０により覆われており、凹部２ｆの外側に位置する導波管７とともにねじ１０ａによって一体に固定されている。給電口カバー１０は、導波管７を介して給電口５から加熱室２内に伝播される高周波を透過する高周波透過性のカバーであって、例えば長方形状をなし、被加熱物から飛散した食品かすや醤油などの液体が給電口５に付着したり、給電口５から導波管７内に侵入しないようにしてある。

給電口カバー１０は、図３（図２のＡ部の拡大図）に示すように、セラミック素材１１からなり、その表面は、非通水性の釉薬、通水性の釉薬、及び非粘着性に優れたフッ素樹脂からなる表面処理層１５によって被覆されている。すなわち、給電口カバー１０のセラミック素材１１の表面に非通水性の釉薬層１２が形成されて、この非通水性の釉薬層１２の上に通水性の釉薬層１３が形成され、さらにこの通水性の釉薬層１３の上に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が形成されて表面処理層１５が構成されている。通水性の釉薬層１３は多孔質構造１３ａとなっており、通水性の釉薬層１３の細い孔にフッ素樹脂が入り込んで食い込んだ状態となるので、非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が通水性の釉薬層１３に強固に接合されて剥がれることはない。

次に動作について説明する。
被加熱物を加熱調理する場合、まずドア４０を開けて受台８に被加熱物を載置し、ドア４０を閉じる。次に、本体１に設けられた操作パネル４１により調理メニューを選択して調理時間を設定し、調理を開始する。そして、マグネトロン６が稼働して高周波を発振し、この高周波は、導波管７を介して給電口５から加熱室２内に放射される。同時に、モーター９が稼働し、受台８と被加熱物を回転させる。

加熱室２内に放射された高周波は、加熱室２内で拡散して加熱室２内の壁面によって逐次反射され、被加熱物に照射される。これにより、被加熱物は加熱される。

主に食品である被加熱物は、その形状、寸法、量、材質、密閉状態などによって、沸騰などの現象により、食品かすや汁などの液体が加熱室２内に飛散することがある。また、被加熱物の内容物を加熱室２内にこぼしてしまうことがある。
この場合、飛散等した食品かすや液体は、給電口カバー１０によって阻止され、給電口５から導波管７内へ侵入することはない。

さらに、給電口カバー１０は、表面に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４を有する表面処理層１５によって強固に被覆されているので、飛散等した食品かすや液体は給電口カバー１０に付着しにくく、こびり付かず、付着しても強くこすらずに容易に落とすことができ、掃除も簡単である。

上記の説明では、給電口カバー１０の両側に表面処理層１５を形成した場合について示したが、図４に示すように、給電口カバー１０の加熱室２側だけに表面処理層１５を形成したものであってもよい。すなわち、給電口カバー１０のセラミック素材１１の加熱室２側の表面に非通水性の釉薬層１２を形成し、この非通水性の釉薬層１２の上の加熱室２側に通水性の釉薬層１３が形成され、さらにこの通水性の釉薬層１３の上（すなわち加熱室２側）に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４を形成する。
こうすると、給電口カバー１０の汚れやすい加熱室２側だけを表面処理層１５で被覆することになり、安価に表面処理することができる。

実施の形態２．
図５は本発明の実施の形態２に係る下部給電方式の加熱調理器を示し、その本体（調理器本体）１の内部には、前面が開口したほぼ箱形の加熱室２が形成されている。そして、加熱室２の両側面２ａ、２ｂにはそれぞれ２段に窪んだ凹部２ｇ、２ｈが形成され、１段目の窪みにセラミック素材の側面板（加熱室側板）２０が取り付けられて耐熱性のシリコンゴム接着材２１によって接着され、水や食品かす等が凹部２ｇ、２ｈ内に入らないようにシールしてある。セラミック素材の側面板２０の加熱室２側には、これと一体に棚部（支持部）２０ａが上下方向に１段又は複数段（図には２段の場合が示してある）形成され、セラミック素材の調理皿２２の両側側縁を支持して、調理皿２２を棚部２０ａに沿って前後にスライドできるようにしてある。

上記のセラミック素材の側面板２０の加熱室２側は、表面処理層１５によって被覆されている。すなわち、図４で示した場合と同様に、セラミック素材の側面板２０は、セラミック素材１１の表面に非通水性の釉薬層１２が形成されて、この非通水性の釉薬層１２の上の加熱室２側に通水性の釉薬層１３が形成され、さらにこの通水性の釉薬層１３の上（すなわち加熱室２側）に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が形成されている。
また、図３で示した場合と同様に、セラミック素材の調理皿２２の表面は、表面処理層１５によって被覆されている。すなわち、セラミック素材１１の表面に非通水性の釉薬層１２が形成されて、この非通水性の釉薬層１２の上に通水性の釉薬層１３が形成され、さらにこの通水性の釉薬層１３の上に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が形成されている。

加熱室２の底面２ｄには２段に窪んだ大きな凹み（凹状部）３０が形成され、下部に位置する２段目の窪みには被加熱物を加熱するシーズヒターのような下ヒーター（ヒーター加熱手段）４が設置されている。
底面２ｄの凹み３０の外側には、高周波発振器であるマグネトロン６と、マグネトロン６から発振された高周波を伝播する導波管７が設けられている。また、底面２ｄの凹み３０の２段目の窪み部分にはアンテナ３１が配設され、アンテナモーター３２により回転駆動されて、導波管７を介して伝播された高周波を加熱室２に供給するようになっている。

底面２ｄの凹み３０の上部（１段目の窪み部分）は、その全体がセラミック素材からなる平板状の仕切り板３３によって覆われ、耐熱性のシリコンゴム接着剤２１により接着されている。仕切り板３３の加熱室２側は、表面処理層１５で被覆されている。すなわち、図４で示した場合と同様に、セラミック素材１１の表面に非通水性の釉薬層１２が形成されて、この非通水性の釉薬層１２の上の加熱室２側に通水性の釉薬層１３が形成され、さらにこの通水性の釉薬層１３の上に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が形成されている。
その他の構成、作用は、実施の形態１で示した場合と同様なので、説明を省略する。

実施形態２によれば、セラミック素材の側面板２０、セラミック素材の調理皿２２、仕切り板３３のそれぞれのセラミック素材１１の表面には、非通水性の釉薬層１２、その上に通水性の釉薬層１３、その上に非粘着性に優れたフッ素樹脂層１４が形成された表面処理層１５が設けられているので、表面に食品かすがこびり付かず、付着しにくく、掃除も簡単である。この場合、汚れ易い部分のみにフッ素樹脂層１４を含む表面処理層１５を設ければ、安価に処理することができる。

また、加熱室２のセラミック素材の側面板２０の棚部２０ａとセラミック素材の調理皿２２は、ともに表面がフッ素樹脂層１４で被覆されているので、滑り易くなり、セラミック素材の調理皿２２の出し入れを円滑に行うことができる。従来は、側面板の棚部及び調理皿はセラミック素材のみからなっているので、調理皿を出し入れすると、擦れにより磨耗粉と擦れ音が発生していたが、本実施の形態ではともにフッ素樹脂層１４で表面を被覆したので、静かで円滑にセラミック素材の調理皿２２を出し入れすることができる。また、底面２ｄの仕切り板３３の表面もフッ素樹脂層１４で被覆されているので、被加熱物である調理物を入れた茶碗、皿などの容器の出し入れを円滑に行うことができる。

１ 本体（調理器本体）、２ 加熱室、２ａ、２ｂ 側面、２ｃ 天面、２ｄ 底面、３、４ ヒーター加熱手段、５ 給電口、６ マグネトロン、７ 導波管、１０ 給電口カバー、１１ セラミック素材、１２ 非通水性の釉薬層、１３ 通水性の釉薬層、１４ フッ素樹脂層、１５ 表面処理層、２０ セラミック素材の側面板（加熱室側板）、２０ａ 棚部（支持部）、２２ セラミック素材の調理皿、３０ 凹み（凹状部）、３１ アンテナ、３２ アンテナモーター、３３ 仕切り板。

Claims (6)

1. 被加熱物を加熱する加熱室と、該加熱室の側面から該加熱室内に高周波を発振するマグネトロンと、前記加熱室の側面に設けられ前記マグネトロンから発振された高周波を導波管を介して前記加熱室内に供給する給電口と、該給電口を覆う給電口カバーとを備え、
   該給電口カバーは表面処理層が設けられたセラミック素材で構成され、前記表面処理層を、前記セラミック素材の表面に形成された非通水性の釉薬層と、該非通水性の釉薬層の上に形成された通水性の釉薬層と、該通水性の釉薬層の上に形成された非粘着性に優れたフッ素樹脂層とによって構成した、
   ことを特徴とする加熱調理器。
2. 被加熱物を加熱する加熱室と、該加熱室の底面から該加熱室内に高周波を発振するマグネトロンと、前記加熱室の底面に設けられ前記マグネトロンから発振された高周波を導波管を介して前記加熱室内に供給する凹状部と、該凹状部の開口を覆う仕切り板とを備え、
   該仕切り板は表面処理層が設けられたセラミック素材で構成され、前記表面処理層を、前記セラミック素材の表面に形成された非通水性の釉薬層と、該非通水性の釉薬層の上に形成された通水性の釉薬層と、該通水性の釉薬層の上に形成された非粘着性に優れたフッ素樹脂層とによって構成した、
   ことを特徴とする加熱調理器。
3. 前記底面の凹状部にアンテナが設けられ、該アンテナがアンテナモーターにより駆動されて、前記導波管を介して伝播された高周波を前記加熱室に供給するようにしたことを特徴とする請求項２記載の加熱調理器。
4. 前記加熱室内に被加熱物を載置する調理皿を設けるとともに、前記加熱室の両側面の内側に該加熱室側に対向して支持部を有する一対の加熱室側板を設け、
   前記調理皿及び加熱室側板は表面処理層が設けられたセラミック素材で構成され、前記表面処理層を前記セラミック素材の表面に形成された非通水性の釉薬層と、該非通水性の釉薬層の上に形成された通水性の釉薬層と、該通水性の釉薬層の上に形成された非粘着性に優れたフッ素樹脂層とによって構成し、
   前記調理皿が前記加熱室側板の支持部にスライド自在に支持されることを特徴とする請求項２または３記載の加熱調理器。
5. 前記表面処理層を、前記セラミック素材の少なくとも加熱室側に形成したことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の加熱調理器。
6. 前記被加熱物を加熱するヒーター加熱手段を、前記加熱室の天面及び底面の両者またはいずれか一方に設けたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の加熱調理器。

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