JP2011057602A - 残留パラジウムの除去方法 - Google Patents
残留パラジウムの除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011057602A JP2011057602A JP2009207824A JP2009207824A JP2011057602A JP 2011057602 A JP2011057602 A JP 2011057602A JP 2009207824 A JP2009207824 A JP 2009207824A JP 2009207824 A JP2009207824 A JP 2009207824A JP 2011057602 A JP2011057602 A JP 2011057602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- added
- formula
- compound represented
- propanol
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XFGOMLIRJYURLQ-GOKYHWASSA-N C[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1C)N2C(C(O)=O)=C1Sc1nc(C3=C[C@H](C)NC3)c[s]1)C2=O)O Chemical compound C[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1C)N2C(C(O)=O)=C1Sc1nc(C3=C[C@H](C)NC3)c[s]1)C2=O)O XFGOMLIRJYURLQ-GOKYHWASSA-N 0.000 description 1
- DYPZTFZODQMGSY-OHIZHGFFSA-N C[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1C)N2C(C(OCC=C)=O)=C1Sc1nc(C(C3)=C[C@H](C)N3C(OCC=C)=O)c[s]1)C2=O)O Chemical compound C[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1C)N2C(C(OCC=C)=O)=C1Sc1nc(C(C3)=C[C@H](C)N3C(OCC=C)=O)c[s]1)C2=O)O DYPZTFZODQMGSY-OHIZHGFFSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
Description
本発明は、下記式(1):
で表される化合物中の残留パラジウムを効果的に除去する方法に関する。
医薬品中の残留金属に関しては、その許容量がガイドラインとして示されている(非特許文献1)。本化合物を医薬品として使用する場合には、ガイドラインに記載されている許容量を満たす必要がある。
医薬品原薬中の残留パラジウムを低減させる方法としては、非特許文献2に記載されている方法などが知られている。
これらの方法は、(1)蒸留、(2)吸着、(3)結晶化、(4)抽出に大きく分けられる。
(2)吸着では、例えば固体のトリメルカプトトリアジンや各種樹脂に固定されたトリメルカプトトリアジンや活性炭にパラジウムを吸着し、ろ過により除去する方法が挙げられる。
(3)結晶化では、例えば有機溶媒中に医薬品原薬を溶解し、トリブチルホスフィンを加えて溶解し再結晶する方法や、N-アセチルシステイン存在下、2-プロパノール/水あるいはアセトニトリル/水で再結晶する方法などが挙げられる。
(4)抽出では、例えば有機溶媒中に医薬品原薬を溶解しN-アセチルシステインやシステインを含む水溶液で洗浄する方法や、有機溶媒中に医薬品原薬を溶解しトリブチルホスフィンを加えた後、乳酸を含む水溶液中に医薬品原薬を抽出する方法などが挙げられる。
医薬品原薬中の残留パラジウムを低減させる方法としては、非特許文献2に記載されている方法などが知られている。
これらの方法は、(1)蒸留、(2)吸着、(3)結晶化、(4)抽出に大きく分けられる。
(2)吸着では、例えば固体のトリメルカプトトリアジンや各種樹脂に固定されたトリメルカプトトリアジンや活性炭にパラジウムを吸着し、ろ過により除去する方法が挙げられる。
(3)結晶化では、例えば有機溶媒中に医薬品原薬を溶解し、トリブチルホスフィンを加えて溶解し再結晶する方法や、N-アセチルシステイン存在下、2-プロパノール/水あるいはアセトニトリル/水で再結晶する方法などが挙げられる。
(4)抽出では、例えば有機溶媒中に医薬品原薬を溶解しN-アセチルシステインやシステインを含む水溶液で洗浄する方法や、有機溶媒中に医薬品原薬を溶解しトリブチルホスフィンを加えた後、乳酸を含む水溶液中に医薬品原薬を抽出する方法などが挙げられる。
式(1)の化合物は、特許文献1に記載されている。
Guideline on the specification limits for residues of metal catalysts or metal reagents, European Medicines Agency(EMEA), Committee for Medicinal Products for Human Use(CHMP), London, 21 February 2008, p1-34.
Adv. Synth. Catal. 2004, 346, 889-900.
非特許文献2に記載の通り、全ての化合物に対して効果的な残留パラジウムの低減方法というものはなく、個別的に最適な条件を設定する必要がある。
実際、文献記載の方法を式(1)で表される化合物に適用した場合、効果的な残留パラジウムの低減はできなかった。また、式(1)で表される化合物が有機溶媒にほとんど溶解しないことから適用できない方法もあった。
実際、文献記載の方法を式(1)で表される化合物に適用した場合、効果的な残留パラジウムの低減はできなかった。また、式(1)で表される化合物が有機溶媒にほとんど溶解しないことから適用できない方法もあった。
本発明者らは種々の検討を行った結果、下記式(1)で表される化合物に対して効果的な残留パラジウムの低減方法を見出し、本発明を完成した。
即ち本発明は以下のものに関する。
〔1〕 式(1):
即ち本発明は以下のものに関する。
〔1〕 式(1):
で表される化合物、溶解補助剤および水の混合液に、3置換ホスフィンを加え、さらに、貧溶媒を加えて晶析することを特徴とする、式(1)で表される化合物中の残留パラジウムの低減方法。
〔2〕 溶解補助剤が、リン酸ジブチル、リン酸モノブチル、炭酸水素ナトリウム、および2−プロパノールである、〔1〕に記載の方法。
〔3〕 3置換ホスフィンを有機溶媒に溶解して加える、〔1〕または〔2〕に記載の方法。
〔4〕 有機溶媒が、2−プロパノール、アセトンまたはモノクロロベンゼンである、〔3〕に記載の方法。
〔5〕 3置換ホスフィンがトリフェニルホスフィンである、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の方法。
〔6〕 3置換ホスフィン量が原料に対して0.5モル%〜5モル%である〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の方法。
〔7〕 貧溶媒が、テトラヒドロフランまたはアセトンである、〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の方法。
〔8〕 式(1)で表される化合物、リン酸ジブチル、リン酸モノブチル、炭酸水素ナトリウム、2−プロパノールおよび水の混合液に、トリフェニルホスフィンを加え、さらに、貧溶媒を加えて晶析する、〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の方法。
〔9〕 トリフェニルホスフィン量が原料に対して0.5〜5モル%である〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の方法。
〔10〕 R1がメチル基である、〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の方法。
〔11〕 R2がメチル基である、〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の方法。
〔12〕 R1がメチル基でありR2がメチル基である、〔1〕〜〔11〕のいずれかに記載の方法。
本発明によれば、医薬品原薬として有用な化合物において、不純物として含まれる残留パラジウムの量を低減することができる。
以下に、本発明をさらに詳細に説明する。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチルまたはn−ヘキシルのような直鎖状、または分枝鎖状の炭素数1〜6のものが挙げられる。
式(1)で表される化合物、溶解補助剤および水の混合液に、3置換ホスフィンを加え、さらに、貧溶媒を加えて晶析することで、残留パラジウム量を低減させた式(1)で表される化合物を得ることが出来る。
溶解補助剤および水の混合液のpHの範囲としては5.5〜8.0が挙げられ、好ましくは6.4〜7.5が挙げられる。
溶解補助剤は、式(1)で表される化合物と反応しにくく、混合後に均一になるものであれば特に限定されず、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミンや、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどの無機塩基、あるいは塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの鉱酸、酢酸、アルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、リン酸モノアルキルエステル、リン酸ジアルキルエステルなどの有機酸、あるいはアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、t−ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物などが挙げられる。好適には、リン酸ジブチル、リン酸モノブチル、炭酸水素ナトリウム、2−プロパノールの組み合わせが挙げられる。好適な割合としては、水溶液のpHの範囲が上述の範囲であれば特に限定されないが、リン酸ジブチルが原料に対して2.7〜3.9モル倍、リン酸モノブチルが原料に対して1.2〜1.8モル倍、炭酸水素ナトリウムが原料に対して3.8〜6.3モル倍、2−プロパノールが原料に対して1〜10重量倍が挙げられる。さらに好適には、リン酸ジブチルが原料に対して3.1〜3.8モル倍、リン酸モノブチルが原料に対して1.4〜1.7モル倍、炭酸水素ナトリウムが原料に対して4.3〜6.1モル倍、2−プロパノールが原料に対して2〜6重量倍が挙げられる。
3置換ホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(1−ナフチル)ホスフィン、トリ(p−クロロフェニル)ホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−t−ブチルホスフィンなどが挙げられ、好適には、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンが挙げられる。
3置換ホスフィンの量としては、原料に対して0.1モル%〜10モル%が挙げられ、好適には、0.5モル%〜5モル%が挙げられる。
3置換ホスフィンを当該化合物の水溶液中に添加する場合、3置換ホスフィンのみ添加してもよく、また、3置換ホスフィンを溶媒に溶解させて添加してもよい。3置換ホスフィンを溶解させる溶媒としては、3置換ホスフィンを溶解する能力があり、また、水溶液に添加後、晶析用の貧溶媒を添加したときに水と貧溶媒とともに均一になる溶媒であれば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、t−ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒や、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶媒や、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒や、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒や、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素系溶媒や、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒や、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒などが挙げられ、好適には2−プロパノール、アセトン、クロロベンゼンが挙げられる。
晶析時に添加する貧溶媒としては、該当化合物の水溶液と3置換ホスフィン(あるいは3置換ホスフィン溶液)の混合物に貧溶媒を添加したときに、水、3置換ホスフィン、3置換ホスフィン溶解溶媒とともに均一になる溶媒であれば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、t−ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、イロプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられ、好適には2−プロパノール、アセトン、テトラヒドロフランが挙げられる。
溶解温度としては、通常−15℃〜40℃、好ましくは−10℃〜30℃、さらに好ましくは0℃〜20℃、が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
得られた(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3−({4−[(5S)−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アセトン溶媒和晶1gをリン酸モノブチル1.6gとリン酸モノブチル0.5gと7%重曹水16gと2−プロパノール2.6gの混合物に氷冷下溶解した。この水溶液に表1中の添加物をそれぞれ下表の量および添加方法により加え、さらに室温下アセトン42gを添加して結晶を析出させた。生じた結晶をろ過、減圧乾燥して(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3−({4−[(5S)−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アセトン溶媒和晶を得た。
添加物の種類、量、添加方法、残留パラジウム量について表1に示す。
上記のように、文献的に知られた各種添加物およびトリフェニルホスフィンを、化合物を溶解させた水溶液中に添加して、残留パラジウム低減実験を実施した。水に溶解するものはそのまま固体で、水に溶解しないものはクロロベンゼン溶液として添加した。実験の結果、トリフェニルホスフィンを添加した場合のみ残留パラジウム量が低減した。
実施例2
アリル(4R,5S,6S)−3−({4−[(5S)−1−アリルオキシカルボニル−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシラート 16 gを含むモノクロロベンゼン溶液286gを-10℃に冷却し、アニリン 22 g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 1.0 gを加えて反応させた。反応終了後、リン酸ジブチル24g、リン酸モノブチル8g、7%重曹水192g、2-プロパノール64 g を加えて水層のpHを7.0とした。静置してモノクロロベンゼン層を分離し、水層を128 gのモノクロロベンゼンで1回洗浄した。表2に示した量のトリフェニルホスフィンを含むモノクロロベンゼン溶液 5 gを加え、続いてアセトン512 gを添加して結晶を析出させた。生じた結晶をろ過、減圧乾燥して(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3−({4−[(5S)−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アセトン溶媒和晶を表2に示した収率で取得した。
アリル(4R,5S,6S)−3−({4−[(5S)−1−アリルオキシカルボニル−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシラート 16 gを含むモノクロロベンゼン溶液286gを-10℃に冷却し、アニリン 22 g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム 1.0 gを加えて反応させた。反応終了後、リン酸ジブチル24g、リン酸モノブチル8g、7%重曹水192g、2-プロパノール64 g を加えて水層のpHを7.0とした。静置してモノクロロベンゼン層を分離し、水層を128 gのモノクロロベンゼンで1回洗浄した。表2に示した量のトリフェニルホスフィンを含むモノクロロベンゼン溶液 5 gを加え、続いてアセトン512 gを添加して結晶を析出させた。生じた結晶をろ過、減圧乾燥して(4R,5S,6S)−6−[(1R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3−({4−[(5S)−5−メチル−2,5−ジヒドロ−1H−ピロール−3−イル]−1,3−チアゾール−2−イル}チオ)−7−オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸アセトン溶媒和晶を表2に示した収率で取得した。
トリフェニルホスフィンの添加量に対する化合物中の残留パラジウムの量を表2および図1に示す。
残留パラジウム低減実験で良好な結果を与えたトリフェニルホスフィンを、脱保護反応後の抽出水層中に、モノクロロベンゼン溶液として添加した。
トリフェニルホスフィンを原料に対して0.5mol%以上添加することで再現よく残留パラジウム量を2ppm付近に低減できることがわかった。
トリフェニルホスフィンを原料に対して0.5mol%以上添加することで再現よく残留パラジウム量を2ppm付近に低減できることがわかった。
以上より、本発明は、式(1)で表される化合物中の残留パラジウム量を効果的に除去する方法であることがわかる。
本発明によれば、医薬品原薬として有用な化合物において、不純物として含まれる残留パラジウムの量を低減することができる。
Claims (12)
- 溶解補助剤が、リン酸ジブチル、リン酸モノブチル、炭酸水素ナトリウム、および2−プロパノールである、請求項1に記載の方法。
- 3置換ホスフィンを有機溶媒に溶解して加える、請求項1または2に記載の方法。
- 有機溶媒が、2−プロパノール、アセトンまたはモノクロロベンゼンである、請求項3に記載の方法。
- 3置換ホスフィンがトリフェニルホスフィンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 3置換ホスフィン量が原料に対して0.5モル%〜5モル%である請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 貧溶媒が、テトラヒドロフランまたはアセトンである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 式(1)で表される化合物、リン酸ジブチル、リン酸モノブチル、炭酸水素ナトリウム、2−プロパノールおよび水の混合液に、トリフェニルホスフィンを加え、さらに、貧溶媒を加えて晶析する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- トリフェニルホスフィン量が原料に対して0.5〜5モル%である請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- R1がメチル基である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- R2がメチル基である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- R1がメチル基でありR2がメチル基である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009207824A JP2011057602A (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 残留パラジウムの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009207824A JP2011057602A (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 残留パラジウムの除去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011057602A true JP2011057602A (ja) | 2011-03-24 |
Family
ID=43945671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009207824A Pending JP2011057602A (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 残留パラジウムの除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011057602A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102838634A (zh) * | 2012-09-28 | 2012-12-26 | 江苏奥赛康药业股份有限公司 | 一种降低化合物中钯残留的方法及应用这种方法的高纯度福沙匹坦二甲葡胺的制备方法 |
EP2834242A4 (en) * | 2012-04-04 | 2016-01-06 | Hospira Inc | IMPROVED PROCESS FOR THE PREPARATION OF CARBAPENEM ANTIBIOTICS |
CN107840866A (zh) * | 2016-09-20 | 2018-03-27 | 正大天晴药业集团股份有限公司 | 醋酸阿比特龙的制备方法 |
CN109336807A (zh) * | 2018-10-09 | 2019-02-15 | 无锡富泽药业有限公司 | 一种盐酸替罗非班制备工艺的除钯方法 |
CN113135916A (zh) * | 2020-01-20 | 2021-07-20 | 鲁南制药集团股份有限公司 | 一种亚胺培南制备工艺的除钯方法 |
-
2009
- 2009-09-09 JP JP2009207824A patent/JP2011057602A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2834242A4 (en) * | 2012-04-04 | 2016-01-06 | Hospira Inc | IMPROVED PROCESS FOR THE PREPARATION OF CARBAPENEM ANTIBIOTICS |
CN102838634A (zh) * | 2012-09-28 | 2012-12-26 | 江苏奥赛康药业股份有限公司 | 一种降低化合物中钯残留的方法及应用这种方法的高纯度福沙匹坦二甲葡胺的制备方法 |
CN107840866A (zh) * | 2016-09-20 | 2018-03-27 | 正大天晴药业集团股份有限公司 | 醋酸阿比特龙的制备方法 |
CN109336807A (zh) * | 2018-10-09 | 2019-02-15 | 无锡富泽药业有限公司 | 一种盐酸替罗非班制备工艺的除钯方法 |
CN113135916A (zh) * | 2020-01-20 | 2021-07-20 | 鲁南制药集团股份有限公司 | 一种亚胺培南制备工艺的除钯方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20090036680A1 (en) | Salts of hmg-coa reductase inhibitors and use thereof | |
EP1709008A1 (en) | Salts of hmg-coa reductase inhibitors and use thereof | |
WO2014157612A1 (ja) | (1s,4s,5s)-4-ブロモ-6-オキサビシクロ[3.2.1]オクタン-7-オンの製造方法 | |
JP2011057602A (ja) | 残留パラジウムの除去方法 | |
US9233963B2 (en) | Method for preparing meropenem using zinc powder | |
US20170190670A1 (en) | Improved process for the preparation of enzalutamide | |
WO2018104954A1 (en) | Process for the preparation of n-(4-(6,7-dimethoxyquinolin-4-yloxy) phenyl)-n'-(4-fluorophenyl)cyclopropane-1, 1-dicarboxamide, (2s)-hydroxybutanedioate and its polymorphs thereof | |
TWI689495B (zh) | 用於製備3-羥基吡啶甲酸的方法 | |
EP2368870A1 (en) | Process for producing optically active carboxylic acid | |
WO2008077035A2 (en) | Processes for the preparation of levetiracetam | |
TW202120470A (zh) | 製備一氧化氮供體型前列腺素類似物之方法 | |
EP2189438B1 (en) | Method for purification of optically active -fluorocarboxylic acid esters | |
WO2015087343A2 (en) | An improved process for the preparation of nilotinib and pharmaceutically acceptable salts thereof | |
WO2010122682A1 (ja) | N-アルコキシカルボニル-tert-ロイシンの製造法 | |
WO2014188445A1 (en) | PROCESS FOR THE PREPARATION OF (3β)-17-(3-PYRIDINYL)ANDROSTA-5,16-DIEN-3-YL ACETATE AND POLYMORPH THEREOF | |
WO2007020960A1 (ja) | 連続化反応によるカルバぺネム誘導体の製法 | |
CN102666527B (zh) | 5-(2-氨基-嘧啶-4-基)-2-芳基-1h-吡咯-3-甲酰胺的制备方法 | |
JP5397706B2 (ja) | 高純度1−ベンジル−3−アミノピロリジンの製造方法 | |
US20240199615A1 (en) | Novel crystalline polymorphs of 1-[(3r)-3-[4-amino-3-(4-phenoxyphenyl)-1h-pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]-1-piperidinyl]-2-propen-1-one and process for preparation thereof | |
JP5613509B2 (ja) | フェキソフェナジン一塩酸塩の取得方法 | |
JP2011057601A (ja) | カルバペネム化合物の水への安定な溶解方法 | |
US20230107889A1 (en) | Process for producing acylthiourea compound | |
JP2005112761A (ja) | (シス)−4−ヒドロキシプロリン誘導体の製造方法 | |
TW200400165A (en) | Process for preparing trans-4-aminocylcohexanecarboxylic acids | |
MX2012014758A (es) | Proceso mejorado para preparar amoxicilina sodica. |