JP2011045814A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置において、基板Wを保持する保持テーブル4と、その保持テーブル4を回転させるテーブル回転機構と、基板Wの表面に対向して離間する位置からその表面を覆うように設けられ、基板W側の表面M2に複数の窪み8aを有する平板8とを備える。
【選択図】図2
Description
3 カップ
3a 窪み
4 保持テーブル
5 テーブル回転機構
8 平板
8a 窪み
M1 内面(表面)
M2 内面(表面)
W 基板
Claims (4)
- 基板を保持して回転させる回転機構と、
前記基板の表面に対向して離間する位置からその表面を覆うように設けられ、前記基板側の表面に複数の窪みを有する平板と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の窪みは、その密度が前記基板の回転中心から外周に向かって増加するように設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記基板を周囲から囲むように設けられ、前記基板側の表面に複数の窪みを有するカップをさらに備えることを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。
- 基板を保持して回転させる回転機構と、
前記基板を周囲から囲むように設けられ、前記基板側の表面に複数の窪みを有するカップと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2009195263A JP5461107B2 (ja) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | 基板処理装置 |
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JP2009195263A JP5461107B2 (ja) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | 基板処理装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018026477A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
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-
2009
- 2009-08-26 JP JP2009195263A patent/JP5461107B2/ja active Active
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