JP2008211037A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを水平姿勢で保持する保持部1と、基板Wを回転させるモータ5と、基板Wに洗浄液を供給するノズル7と、基板Wの一側方から基板面に沿ってドライエアを供給するエア供給部21と、基板Wを挟んでエア供給部21に対向配置され、ドライエアを排出するエア排出部23とを備えている。洗浄処理が行われた基板Wにエア供給部21からドライエアを供給させると、ドライエアは基板面に沿って一方向に流れる。よって、基板W上に極小であっても洗浄液の液滴が残ることなく基板Wを乾燥されることができる。この結果、基板Wにパーティクルが発生することを防止できる。
【選択図】図1
Description
半導体デバイスの微細化が進むにつれて、乾燥処理を行っても基板上に極小の水滴が残り、基板に点状または筋状のパーティクルが付着してしまうという不都合がある。特に、疎水性の性質を示すLow−K材料(低誘電率層間絶縁膜)を使用したときは、基板上の水滴残りの影響が大きい。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行う基板処理装置において、基板を水平姿勢で保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された基板の一側方から基板面に沿って乾燥気体を供給する気体供給手段と、基板を挟んで前記気体供給手段に対向配置され、乾燥気体を排出する気体排出手段と、処理液による処理が行われた基板に対して前記気体供給手段から乾燥気体を供給させつつ、前記気体排出手段から乾燥気体を排出させて、基板に乾燥処理を行う制御手段と、
を備えていることを特徴とするものである。
図示省略の搬送機構が、外部装置において薬液処理等が行われた基板Wを保持部1に載置する。制御部41は保持部1を操作して、基板Wを吸着させる。これにより、基板Wは水平姿勢で保持される。このとき、仕切りカバー31は退避位置にあり、基板Wの搬入に支障を与えない。
制御部41はモータ5を回転駆動させる。これにより、基板Wは水平姿勢で回転する。また、制御部41は開閉弁13を開放させて、ノズル7から基板Wに洗浄液を吐出供給する。この状態を所定時間が経過するまで継続させることで、基板Wに洗浄処理を行う(洗浄過程)。
洗浄処理が終了すると、制御部41は開閉弁13を閉止させて、基板Wへの洗浄液の供給を停止させる。また、制御部41はモータ5をより高速に駆動させて、基板Wをより高速に回転させる。これにより、基板W上の洗浄液は、基板Wの回転によって振り切られて、基板W外へ捨てられる。この結果、基板W上に残る洗浄液の液滴も小さくなり、基板W上の洗浄液の量も少なくなる。基板W上の洗浄液を捨てると、制御部41はモータ5の駆動を停止させて、基板Wを水平姿勢で静止させる。
制御部41はカバー移動機構33を操作して、仕切りカバー31を乾燥処理位置に移動させる。また、ドライエア供給装置27及び排気ファン29を操作して、エア供給部21からドライエアを供給させるとともに、エア排出部23でドライエアを吸引・排出させる。これにより、ドライエアは、吹出口21aから吸引口23aに向う方向に基板Wの上面に沿って流れる。このドライエアによって、基板W上に付着している洗浄液は蒸発する。このとき、ドライエアの流路とその周囲の雰囲気とは仕切りカバー31によって隔てられているので、ドライエアの露点が周囲の雰囲気の影響により悪化(上昇)することがない。この状態を継続させて、基板Wに乾燥処理を行う(乾燥過程)。
乾燥処理が終了すると、制御部41はカバー移動機構33を操作して、仕切りカバー31を退避位置に移動させるとともに、保持部1による基板Wの吸着を解除する。そして、図示省略の搬送機構が基板Wを基板処理装置から搬出する。
5 … モータ
7 … ノズル
21 … エア供給部
23 … エア排出部
31 … 仕切りカバー
33 … カバー移動機構
41 … 制御部
W … 基板
Claims (5)
- 基板に処理を行う基板処理装置において、
基板を水平姿勢で保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された基板の一側方から基板面に沿って乾燥気体を供給する気体供給手段と、
基板を挟んで前記気体供給手段に対向配置され、乾燥気体を排出する気体排出手段と、
処理液による処理が行われた基板に対して前記気体供給手段から乾燥気体を供給させつつ、前記気体排出手段から乾燥気体を排出させて、基板に乾燥処理を行う制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
基板に処理液を供給する液供給手段を備え、
前記制御手段は、前記保持手段に保持された基板に対して前記液供給手段から処理液を供給させて基板に洗浄処理を行い、前記洗浄処理が行われた基板に前記乾燥処理を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記保持手段に保持される基板を移動させる移動手段を備え、
前記制御手段は、前記乾燥処理を行う際に、前記移動手段を操作して前記洗浄処理が行われた基板を移動させて基板上の処理液を捨てることを特徴とする
基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記移動手段は、基板を回転または傾斜させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、前記乾燥処理の際に、乾燥気体の流路をその周囲の雰囲気から隔てる位置に仕切りカバーを移動させることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2007047297A JP2008211037A (ja) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Family
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Family Applications (1)
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JP2007047297A Abandoned JP2008211037A (ja) | 2007-02-27 | 2007-02-27 | 基板処理装置 |
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2007
- 2007-02-27 JP JP2007047297A patent/JP2008211037A/ja not_active Abandoned
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