JP2011041930A - 液体処理システム - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 339
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 287
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 45
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 15
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 11
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 17
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 11
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 33
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 18
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 7
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 2
- 238000011900 installation process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
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- Devices For Medical Bathing And Washing (AREA)
Abstract
【解決手段】液体を処理して浴槽(2)に供給する液体処理システム(1)を前提とする。液体処理システム(1)に、液体に加熱処理を行う給湯装置(10)と、微細気泡を発生させるために気体を液体中に加圧溶解させる気体加圧溶解処理を行う微細気泡供給装置(20)と、上記加熱処理及び気体加圧溶解処理が行われた液体が浴槽(2)に供給される同時運転が可能なように給湯装置(10)及び微細気泡供給装置(20)がそれぞれ接続されて浴槽(2)に処理液体を導く液体流路(30)とを設けた。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態1について説明する。
図1に示すように、本発明に係る液体処理システム(1)は、本発明に係る液体貯留槽としての浴槽(2)に接続されている。
給湯装置(10)は、上記供給路(31)と返送路(32)とを接続して循環路を構成する連絡路(11)を有している。また、連絡路(11)には、浴槽(2)の温水を上記循環路において循環させる循環ポンプ(12)が設けられている。さらに、連絡路(11)の循環ポンプ(12)の上流側には、連絡路(11)を流れる温水を加熱する加熱器(13)が設けられている。加熱器(13)は、連絡路(11)を流れる温水を加熱可能なものであればいかなるものであってもよい。例えば、冷凍サイクルを行う冷媒回路に接続された凝縮器によって構成されて高温の冷媒によって加熱されるものであってもよく、後述する貯湯タンク(14)の温水が循環する温水回路に接続されて浴槽(2)の温水よりも高温の温水によって加熱されるものであってもよい。
上記微細気泡供給装置(20)は、上記液体流路(30)によって浴槽(2)に接続されて、人体への温浴効果等を狙って浴槽(2)内に微細気泡を供給するためのものである。
上記接続ユニット(40)は、供給路(31)の一部を構成する供給側配管(41)と、返送路(32)の一部を構成する返送側配管(42)とを備えている。返送側配管(42)は、主路(32a)の一部を構成する主管(42a)と、主管(42a)から分岐して第1分岐路(32b)の一部を構成する第1分岐管(42b)と、主管(42a)から分岐して第2分岐路(32c)の一部を構成する第2分岐管(42c)とによって構成されている。また、接続ユニット(40)は、主管(42a)に接続されて導出路(33)を構成する導出管(43)と、主管(42a)の導出管(43)よりも下流側に接続されて導入路(34)を構成する導入管(44)とを備えている。
上記液体処理システム(1)では、給湯装置(10)において所定の処理(給湯又は追い焚き)が行われると共に微細気泡供給装置(20)において気体加圧溶解処理が行われた温水が浴槽(2)に供給される同時運転と、給湯装置(10)において所定の処理(給湯又は追い焚き)のみが行われた温水が浴槽(2)に供給される第1単独運転と、微細気泡供給装置(20)において気体加圧溶解処理のみが行われた温水が浴槽(2)に供給される第2単独運転とが実行される。以下、それぞれについて具体的に説明する。
まず、給湯装置(10)において追い焚きが行われる場合の同時運転について説明する。
まず、給湯装置(10)において追い焚きが行われる場合の第1単独運転について説明する。
図6に示すように、第2単独運転では、三方切換弁(46)及び三方切換弁(48)が共に第2状態に切り換えられ、開閉弁(47)が閉状態に切り換えられる。この状態において、加圧ポンプ(23)が駆動される。このとき、循環ポンプ(12)の運転は停止される。
上記同時運転から第1単独運転へは、加圧ポンプ(23)の運転を停止すると共に、三方切換弁(48)を第2状態から第1状態に切り換えることによって切り換えられる。逆に、上記第1単独運転から同時運転へは、加圧ポンプ(23)の運転を開始すると共に、三方切換弁(48)を第1状態から第2状態に切り換えることによって切り換えられる。
以上により、本液体処理システム(1)によれば、液体処理装置としての給湯装置(10)と微細気泡供給装置(20)との処理液体を、液体貯留槽としての浴槽(2)に導く流路を液体流路(30)によって共通化したことにより、両装置(10,20)を備えた液体処理システム(1)の設置スペースの縮小化を図ることができると共に、液体処理システム(1)の設置工程を低減することができる。従って、液体処理システム(1)の設置手間の低減を図ることができる。
図7に示すように、実施形態2は、実施形態1に係る液体処理システム(1)の吸込吹出ノズル(51)及び減圧ノズル(52)の代わりに、後述する調節ノズル(53)を設け、三方切換弁(48)を除いたものである。
実施形態2においても、液体処理システム(1)では、三方切換弁(48)の切り換え動作がなくなる以外は実施形態1とほぼ同様の同時運転と、第1単独運転と、第2単独運転とが実行される。
図11に示すように、実施形態3は、実施形態1において本発明のバイパス手段を構成するバイパス路(35)及び三方切換弁(46)を省略し、これに伴って開閉弁(47)を省略したものである。
図12に示すように、実施形態4は、実施形態3に係る液体処理システム(1)の吸込吹出ノズル(51)及び減圧ノズル(52)の代わりに、実施形態2と同様の調節ノズル(53)を設け、三方切換弁(48)を除いたものである。
上記実施形態については、以下のような構成としてもよい。
2 浴槽(液体貯留槽)
10 給湯装置(液体処理装置)
11 連絡路
12 循環ポンプ(搬送ポンプ)
20 微細気泡供給装置
23 加圧ポンプ
30 液体流路
31 供給路
32 返送路
33 導出路
34 導入路
35 バイパス管(バイパス手段)
40 接続ユニット
45 逆止弁(逆流防止手段)
46 三方切換弁(バイパス手段)
48 三方切換弁(ノズル切換手段)
51 吸込吹出ノズル(吹出ノズル)
52 減圧ノズル
53 調節ノズル
71 第1流路
72 第2流路
80 減圧機構(減圧手段)
Claims (12)
- 液体を処理して液体貯留槽(2)に供給する液体処理システムであって、
液体に所定の処理を行う液体処理装置(10)と、
微細気泡を発生させるために気体を液体中に加圧溶解させる気体加圧溶解処理を行う微細気泡供給装置(20)と、
上記所定の処理及び上記気体加圧溶解処理が行われた液体が上記液体貯留槽(2)に供給される同時運転が可能なように上記液体処理装置(10)及び上記微細気泡供給装置(20)がそれぞれ接続されて上記液体貯留槽(2)に処理液体を導く液体流路(30)とを備えている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項1において、
上記液体流路(30)は、上記同時運転と上記所定の処理のみが行われた液体が上記液体貯留槽(2)に供給される第1単独運転との切換が可能となるように構成されている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項2において、
上記液体流路(30)は、上記液体貯留槽(2)から上記液体処理装置(10)に液体を導く供給路(31)と、上記液体処理装置(10)から上記液体貯留槽(2)に液体を導く返送路(32)とを備え、
上記液体処理装置(10)は、上記供給路(31)と上記返送路(32)とを接続する連絡路(11)と、該連絡路(11)に設けられて液体を搬送する搬送ポンプ(12)とを備え、
上記微細気泡供給装置(20)は、上記返送路(32)の液体を装置内部に引き込んで加圧し、上記返送路(32)に圧送する加圧ポンプ(23)を備えている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項3において、
上記液体流路(30)は、上記返送路(32)から上記微細気泡供給装置(20)に液体を導く導出路(33)と、上記微細気泡供給装置(20)からの液体を上記返送路(32)の上記導出路(33)よりも下流側に導入する導入路(34)とをさらに備え、
上記返送路(32)の上記導出路(33)と上記導入路(34)との間には、上記返送路(32)における上記液体処理装置(10)から上記液体貯留槽(2)へ向かう流動のみを許容する逆流防止手段(45)が設けられている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項4において、
上記液体流路(30)は、上記同時運転と上記気体加圧溶解処理のみが行われた液体が上記液体貯留槽(2)に供給される第2単独運転との切り換えが可能となるように構成されている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項5において、
上記液体流路(30)は、上記第2単独運転の際に、上記供給路(31)の液体を上記液体処理装置(10)を介さずに上記導出路(33)に導くためのバイパス手段(35,46)を有している
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項6において、
上記液体貯留槽(2)に設けられ、上記返送路(32)の液体を減圧して放出する減圧ノズル(52)と、
上記液体貯留槽(2)に設けられ、上記返送路(32)の液体を放出する吹出ノズル(51)と、
上記同時運転及び上記第2単独運転の際には、上記返送路(32)の液体を上記減圧ノズル(52)に導く一方、上記第1単独運転の際には、上記返送路(32)の液体を上記吹出ノズル(51)に導くノズル切換手段(48)とを備えている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項3乃至6のいずれか1つにおいて、
上記返送路(32)の下流側端部に設けられ、液体を減圧する減圧手段(80)が設けられた第1流路(71)と該第1流路(71)を迂回する第2流路(72)とが形成され、所定圧力以上の圧力の液体が供給されると該液体を上記第1流路(71)に導く一方、上記所定圧力未満の圧力の液体が供給されると該液体を上記第2流路(72)に導くように構成された調節ノズル(53)を備えている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項8において、
上記調節ノズル(53)には、上記供給路(31)が接続されると共に、上記液体貯留槽(2)の液体を上記供給路(31)に導入するための吸込流路(75)が形成されている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項6において、
上記導出路(33)と、上記導入路(34)と、上記逆流防止手段(45)と、上記バイパス手段(35,46)とは、上記供給路(31)及び上記返送路(32)の中途部に接続自在な接続ユニット(40)として構成されている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項7において、
上記導出路(33)と、上記導入路(34)と、上記逆流防止手段(45)と、上記バイパス手段(35,46)と、上記ノズル切換手段(48)とは、上記供給路(31)及び上記返送路(32)の中途部に接続自在な接続ユニット(40)として構成されている
ことを特徴とする液体処理システム。 - 請求項3において、
上記液体貯留槽(2)は、浴槽によって構成され、
上記液体処理装置(10)は、水に加熱処理を行う給湯装置によって構成されている
ことを特徴とする液体処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009193497A JP5471161B2 (ja) | 2009-08-24 | 2009-08-24 | 液体処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009193497A JP5471161B2 (ja) | 2009-08-24 | 2009-08-24 | 液体処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011041930A true JP2011041930A (ja) | 2011-03-03 |
JP5471161B2 JP5471161B2 (ja) | 2014-04-16 |
Family
ID=43829772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009193497A Expired - Fee Related JP5471161B2 (ja) | 2009-08-24 | 2009-08-24 | 液体処理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5471161B2 (ja) |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
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