JP2011041196A - Heat block structure - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat block structure in which heat transfer between electronic components is blocked and a decline in function of the electronic component due to a temperature rise can be prevented. <P>SOLUTION: In an exemplary embodiment, a heat block structure 100 includes a surrounding rigid body 15 surrounding a solid-state image sensing device 11. The surrounding rigid body 15 has a multilayer cross-sectional structure including: an electromagnetic wave absorption layer of a rigid body 15a that absorbs an electromagnetic wave; and a reduced pressure layer 15b in which a pressure is reduced as compared with an atmospheric pressure. The rigid body 15a absorbs a thermal energy of heat radiation and blocks the heat radiation between the solid-state image-sensing device 11 and a DSP 21. The reduced pressure layer 15b suppresses heat convection and blocks the heat convection between the solid-state image sensing device 11 and the DSP 21. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体素子等の電子部品の間における熱伝達を遮断する熱遮断構造に関するものである。   The present invention relates to a heat blocking structure that blocks heat transfer between electronic components such as semiconductor elements.

従来から、デジタル一眼レフカメラを始めとするデジタルスチルカメラ、またはデジタルビデオカメラ、被検体の臓器内部を観察するための内視鏡、撮像機能を備えた携帯電話機など、各種態様の電子撮像装置が登場している。電子撮像装置は、CCDまたはCMOS等の固体撮像素子を備えた撮像ユニットとレンズ等の光学系とを内蔵する。電子撮像装置は、光学系によって固体撮像素子の受光部に被写体の光学像を結像し、この固体撮像素子の光電変換処理によって被写体の画像を撮像する。   Conventionally, various types of electronic imaging devices such as a digital still camera such as a digital single-lens reflex camera, a digital video camera, an endoscope for observing the inside of an organ of a subject, and a mobile phone having an imaging function have been used. Has appeared. The electronic imaging device includes an imaging unit including a solid-state imaging device such as a CCD or a CMOS and an optical system such as a lens. The electronic imaging apparatus forms an optical image of a subject on a light receiving unit of a solid-state imaging device by an optical system, and captures an image of the subject by photoelectric conversion processing of the solid-state imaging device.

また、近年、電子撮像装置においては、固体撮像素子の高画素化および高速処理化とともに、装置小型化の要望が高まっている。このため、電子撮像装置内に搭載する固体撮像素子およびDSP(Digital Signal Processor)等の電子部品の高性能化および高密度実装化が進行している。このような電子部品の高性能化および高密度実装化に伴い、電子部品の動作時の発熱量が増加するとともに、電子部品間における相互の熱伝達が生じ易くなり、熱伝達による電子部品の温度上昇によって、電子部品の機能低下が発生する。   In recent years, in electronic imaging devices, there is an increasing demand for downsizing of the solid-state imaging device as well as higher pixels and higher speed processing. For this reason, high-performance and high-density mounting of electronic components such as a solid-state imaging device and a DSP (Digital Signal Processor) mounted in the electronic imaging device are in progress. With such high performance and high density mounting of electronic components, the amount of heat generated during operation of the electronic components increases, and mutual heat transfer between the electronic components is likely to occur, and the temperature of the electronic components due to heat transfer is increased. Due to the increase, the function of the electronic component is degraded.

特に、固体撮像素子は、アナログ素子であり、近傍に配置された電子部品間の相互熱干渉に起因する熱の影響を受け易い。例えば、電子撮像装置の全体的な動作制御を行うDSPは、長時間動作しつつ発熱する半導体素子である。このような発熱源となり得るDSPと固体撮像素子との間の熱伝達は、固体撮像素子の温度上昇を引き起こし、この固体撮像素子の温度上昇に伴って暗電流等のノイズが発生する。この熱によるノイズは、画質低下等の固体撮像素子の機能低下を招来し、固体撮像素子による高画質撮像を困難にする。   In particular, the solid-state imaging device is an analog device and is easily affected by heat caused by mutual thermal interference between electronic components arranged in the vicinity. For example, a DSP that performs overall operation control of an electronic imaging apparatus is a semiconductor element that generates heat while operating for a long time. The heat transfer between the DSP that can be a heat source and the solid-state image sensor causes a temperature rise of the solid-state image sensor, and noise such as dark current is generated with the temperature rise of the solid-state image sensor. This heat noise causes a decrease in the function of the solid-state imaging device such as a reduction in image quality, making it difficult to capture high-quality images with the solid-state imaging device.

なお、上述したような電子部品間の相互の熱伝達を抑制する従来技術として、例えば、DSPと固体撮像素子との間にスペーサを介在させてDSPと固体撮像素子との間に空隙を形成するもの(特許文献1参照)もあれば、固体撮像素子に熱伝導可能に接続された放熱板と、集積回路に熱伝導可能に接続された放熱板との間に断熱部材を配置しているもの(特許文献2参照)もある。   As a conventional technique for suppressing the mutual heat transfer between the electronic components as described above, for example, a gap is formed between the DSP and the solid-state image sensor by interposing a spacer between the DSP and the solid-state image sensor. If there is a thing (refer patent document 1), the thing which has arrange | positioned the heat insulation member between the heat sink connected to the solid-state image sensor so that heat conduction is possible, and the heat sink connected to the integrated circuit so that heat conduction is possible (See Patent Document 2).

特許第4036694号公報Japanese Patent No. 4036694 特開2007−174526号公報JP 2007-174526 A

ところで、物体間の熱伝達には、原子または分子の振動あるいは自由電子の移動によって熱エネルギーが伝わる現象である熱伝導と、物体から熱エネルギーが電磁波として放出される現象である熱放射(熱輻射)と、気体等の流体の流れによって熱エネルギーが移動する現象である熱対流とがある。   By the way, in heat transfer between objects, thermal conduction, which is a phenomenon in which thermal energy is transmitted by vibration of atoms or molecules, or movement of free electrons, and thermal radiation (thermal radiation), a phenomenon in which thermal energy is emitted from an object as electromagnetic waves. ) And thermal convection, which is a phenomenon in which thermal energy is moved by the flow of a fluid such as gas.

しかしながら、上述した特許文献1に開示された従来技術では、電子部品間の熱伝導を抑制することは可能であるが、熱放射を抑制することが困難であるため、熱放射によって伝達された熱エネルギーは電子部品の温度上昇を招来し、この温度上昇によって電子部品の機能が低下するという問題がある。   However, in the related art disclosed in Patent Document 1 described above, it is possible to suppress heat conduction between electronic components, but it is difficult to suppress heat radiation, and thus heat transferred by heat radiation is difficult. The energy causes a temperature rise of the electronic component, and there is a problem that the function of the electronic component is lowered by this temperature rise.

また、上述した特許文献2に記載された従来技術では、電磁波として伝達される熱エネルギーを放熱板間の断熱部材によって吸収することは困難であるため、熱放射によって伝達された熱エネルギーによる電子部品の温度上昇を十分に軽減しきれず、この結果、温度上昇によって電子部品の機能が低下するという問題がある。   Moreover, in the prior art described in Patent Document 2 described above, it is difficult to absorb the thermal energy transmitted as electromagnetic waves by the heat insulating member between the heat radiating plates. Therefore, the electronic component using the thermal energy transmitted by thermal radiation As a result, there is a problem that the function of the electronic component deteriorates due to the temperature rise.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、電子部品間の熱伝達を遮断して、温度上昇による電子部品の機能低下を防止可能な熱遮断構造を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a heat blocking structure capable of blocking heat transfer between electronic components and preventing functional deterioration of the electronic components due to temperature rise. .

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる熱遮断構造は、電磁波を吸収する電磁波吸収層と外気に比して減圧された減圧層とを有する多層断面構造からなり、第1の回路基板上の第1の電子部品を包囲する包囲剛体を備え、前記包囲剛体の外部に配置された第2の回路基板上の第2の電子部品と前記第1の電子部品との間における熱伝達を遮断することを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the heat blocking structure according to the present invention has a multilayer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorbing layer that absorbs electromagnetic waves and a reduced pressure layer that is depressurized compared to the outside air, An enclosure rigid body that surrounds the first electronic component on the first circuit board, and the second electronic component on the second circuit board disposed outside the enclosure rigid body and the first electronic component It is characterized in that the heat transfer between them is cut off.

また、本発明にかかる熱遮断構造は、上記の発明において、前記第1の回路基板と前記第2の回路基板とを接続する接続基板に配置され、前記接続基板に伝導された熱を吸収する吸熱体をさらに備えたことを特徴とする。   In the above-described invention, the heat blocking structure according to the present invention is disposed on a connection board that connects the first circuit board and the second circuit board, and absorbs heat conducted to the connection board. It further comprises an endothermic body.

また、本発明にかかる熱遮断構造は、上記の発明において、前記電磁波吸収層は、前記包囲剛体の外層をなし、前記減圧層は、前記外層によって密閉されて形成されることを特徴とする。   In the heat blocking structure according to the present invention as set forth in the invention described above, the electromagnetic wave absorbing layer is formed as an outer layer of the surrounding rigid body, and the reduced pressure layer is sealed by the outer layer.

また、本発明にかかる熱遮断構造は、上記の発明において、前記包囲剛体は、前記電磁波吸収層をなすとともに前記減圧層を密閉する電磁波吸収部材によって形成されることを特徴とする。   In the heat blocking structure according to the present invention as set forth in the invention described above, the surrounding rigid body is formed by an electromagnetic wave absorbing member that forms the electromagnetic wave absorbing layer and seals the reduced pressure layer.

また、本発明にかかる熱遮断構造は、上記の発明において、前記減圧層は、真空層であることを特徴とする。   In the heat blocking structure according to the present invention as set forth in the invention described above, the decompression layer is a vacuum layer.

また、本発明にかかる熱遮断構造は、上記の発明において、電磁波を吸収する電磁波吸収層と外気に比して減圧された減圧層とを有する多層断面構造からなり、前記第2の電子部品を包囲する他の包囲剛体をさらに備えたことを特徴とする。   The heat blocking structure according to the present invention comprises a multilayer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorbing layer that absorbs electromagnetic waves and a reduced pressure layer that is depressurized compared to the outside air in the above-described invention. It further comprises another surrounding rigid body for surrounding.

本発明にかかる熱遮断構造によれば、包囲剛体が、電磁波を吸収する電磁波吸収層と外気に比して減圧された減圧層とを有する多層断面構造からなり、第1の回路基板上の第1の電子部品を包囲し、この包囲剛体の外部に配置された第2の回路基板上の第2の電子部品と前記第1の電子部品との間における熱伝達を遮断するため、包囲剛体の電磁波吸収層によって熱放射による熱エネルギーを吸収でき、さらに、包囲剛体の減圧層によって熱対流を抑制できる。これによって、第1の電子部品および第2の電子部品間の熱伝達を遮断して、第1の電子部品および第2の電子部品の温度上昇を軽減でき、この結果、温度上昇による第1の電子部品および第2の電子部品の機能低下を防止できるという効果を奏する。   According to the heat blocking structure of the present invention, the surrounding rigid body has a multilayer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorbing layer that absorbs electromagnetic waves and a reduced pressure layer that is depressurized compared to the outside air, and the first rigid structure on the first circuit board. In order to surround one electronic component and to block heat transfer between the second electronic component on the second circuit board disposed outside the surrounding rigid body and the first electronic component, The electromagnetic energy absorbing layer can absorb thermal energy due to thermal radiation, and the surrounding rigid body decompression layer can suppress thermal convection. As a result, the heat transfer between the first electronic component and the second electronic component can be interrupted, and the temperature rise of the first electronic component and the second electronic component can be reduced. As a result, the first electronic component due to the temperature rise can be reduced. There is an effect that the functional degradation of the electronic component and the second electronic component can be prevented.

図1は、本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造を備えた半導体装置の一構成例を示す断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor device provided with a heat blocking structure according to an embodiment of the present invention. 図2は、包囲剛体の外形および多層断面構造の一例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the outer shape of the surrounding rigid body and the multilayer cross-sectional structure. 図3は、本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造の作用を説明するための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the operation of the heat shielding structure according to the embodiment of the present invention. 図4は、本発明の実施の形態の変形例にかかる熱遮断構造を備えた半導体装置の一構成例を示す断面模式図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor device provided with a heat blocking structure according to a modification of the embodiment of the present invention.

以下に、本発明にかかる熱遮断構造の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下では、複数の電子部品の一例として電子撮像装置に内蔵される固体撮像素子およびDSPを例示し、固体撮像素子とDSPとの間における熱伝達を遮断する熱遮断構造を説明するが、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。   Embodiments of a heat shield structure according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, as an example of a plurality of electronic components, a solid-state imaging device and a DSP built in an electronic imaging device will be exemplified, and a heat blocking structure that blocks heat transfer between the solid-state imaging device and the DSP will be described. The present invention is not limited by this embodiment.

(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造を備えた半導体装置の一構成例を示す断面模式図である。図1に示すように、この実施の形態にかかる半導体装置1は、被写体の画像を撮像する撮像部10と、撮像部10の動作を制御する制御部20と、撮像部10と制御部20とを電気的に接続する接続基板30とを備える。また、この半導体装置1には、これら撮像部10と制御部20との間における熱伝達を遮断する熱遮断構造100が構成されている。
(Embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor device provided with a heat blocking structure according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 according to this embodiment includes an imaging unit 10 that captures an image of a subject, a control unit 20 that controls the operation of the imaging unit 10, an imaging unit 10, and a control unit 20. And a connection substrate 30 for electrically connecting the two. In addition, the semiconductor device 1 includes a heat blocking structure 100 that blocks heat transfer between the imaging unit 10 and the control unit 20.

撮像部10は、被写体の画像を取得するためのユニットであり、図1に示すように、被写体の画像を撮像する固体撮像素子11と、固体撮像素子11等を実装する撮像基板12と、固体撮像素子11の機能面を保護するカバーガラス13と、撮像基板12上の固体撮像素子11を包囲する包囲剛体15とを備える。   The imaging unit 10 is a unit for acquiring an image of a subject, and as illustrated in FIG. 1, a solid-state imaging device 11 that captures an image of the subject, an imaging substrate 12 that mounts the solid-state imaging device 11, and the like, A cover glass 13 that protects the functional surface of the image sensor 11 and a surrounding rigid body 15 that surrounds the solid-state image sensor 11 on the imaging substrate 12 are provided.

固体撮像素子11は、CCDまたはCMOSイメージセンサ等を用いて実現されるベアチップ状態の半導体素子(電子部品の一例)であり、被写体からの光を受光して、この被写体の画像を撮像する撮像機能を有する。具体的には、固体撮像素子11は、シリコン基板等のサブストレートの表面に、被写体からの光を受光する受光面および撮像機能に必要な各種回路を有する受光機能部11aと、この受光機能部11aと電気的に接続された電極端子上に固定される複数の突起電極11bとを備える。   The solid-state imaging device 11 is a bare-chip semiconductor device (an example of an electronic component) realized by using a CCD or a CMOS image sensor, and has an imaging function of receiving light from a subject and capturing an image of the subject. Have Specifically, the solid-state imaging device 11 includes a light receiving function unit 11a having a light receiving surface that receives light from a subject and various circuits necessary for an imaging function on the surface of a substrate such as a silicon substrate, and the light receiving function unit. A plurality of protruding electrodes 11b fixed on electrode terminals electrically connected to 11a.

受光機能部11aは、2次元的に配置される複数の画素およびカラーフィルタ等を用いて実現される。受光機能部11aは、まず、カバーガラス13を含む光学系を介して被写体からの光を受光し、この受光した光を光電変換処理する。つぎに、受光機能部11aは、この光電変換処理によって得られた信号をもとに、被写体の画像信号を生成する。   The light receiving function unit 11a is realized using a plurality of pixels, a color filter, and the like that are two-dimensionally arranged. First, the light receiving function unit 11a receives light from a subject through an optical system including the cover glass 13, and performs photoelectric conversion processing on the received light. Next, the light receiving function unit 11a generates an image signal of the subject based on the signal obtained by the photoelectric conversion process.

複数の突起電極11bは、受光機能部11aの外側周辺に形成された複数の電極パッドに固定される。なお、特に図示しないが、このように電極パッドに固定された複数の突起電極11bの各々は、固体撮像素子11のサブストレートに形成された回路配線等を介して、受光機能部11aと電気的に接続する。   The plurality of protruding electrodes 11b are fixed to a plurality of electrode pads formed around the outside of the light receiving function unit 11a. Although not particularly illustrated, each of the plurality of protruding electrodes 11b fixed to the electrode pad in this manner is electrically connected to the light receiving function unit 11a via a circuit wiring or the like formed on the substrate of the solid-state imaging device 11. Connect to.

なお、複数の突起電極11bの各々は、ワイヤボンディング方式によって形成された金または銅等のスタッドバンプであってもよいし、めっき方式によって形成された金、銀、インジウムまたは半田等の金属バンプであってもよい。また、複数の突起電極11bの各々は、金属ボールまたは表面に金属めっきを施した樹脂ボールであってもよい。   Each of the plurality of protruding electrodes 11b may be a stud bump such as gold or copper formed by a wire bonding method, or a metal bump such as gold, silver, indium or solder formed by a plating method. There may be. Each of the plurality of protruding electrodes 11b may be a metal ball or a resin ball having a surface plated with metal.

上述したような受光機能部11aおよび複数の突起電極11bを有する固体撮像素子11は、図1に示すように、接着剤11cを用いて撮像基板12にフリップチップ実装される。これによって、複数の突起電極11bの各々は、撮像基板12の電極端子(図示せず)に接続固定される。この結果、固体撮像素子11は、複数の突起電極11bを介して撮像基板12の回路配線と電気的に接続される。なお、上述した受光機能部11aが生成した画像信号は、これら複数の突起電極11bを介して、撮像基板12側に出力される。   The solid-state imaging device 11 having the light receiving function portion 11a and the plurality of protruding electrodes 11b as described above is flip-chip mounted on the imaging substrate 12 using an adhesive 11c as shown in FIG. Accordingly, each of the plurality of protruding electrodes 11b is connected and fixed to an electrode terminal (not shown) of the imaging substrate 12. As a result, the solid-state imaging device 11 is electrically connected to the circuit wiring of the imaging substrate 12 through the plurality of protruding electrodes 11b. The image signal generated by the light receiving function unit 11a described above is output to the imaging substrate 12 side through the plurality of protruding electrodes 11b.

ここで、接着剤11cは、上述した固体撮像素子11と撮像基板12との電気的な接続状態を確保するためのものであり、受光機能部11a側に進入しないように固体撮像素子11と撮像基板12との間隙に充填される。なお、接着剤11cは、エポキシ系、フェノール系、シリコン系、ウレタン系またはアクリル系等の絶縁性接着剤であってもよいし、異方性導電フィルム(ACF)または異方性導電ペースト(ACP)等の異方性導電接着剤であってもよい。   Here, the adhesive 11c is for ensuring the electrical connection state between the solid-state imaging device 11 and the imaging substrate 12 described above, and the solid-state imaging device 11 and the imaging so as not to enter the light receiving function unit 11a side. The gap with the substrate 12 is filled. The adhesive 11c may be an epoxy, phenol, silicon, urethane or acrylic insulating adhesive, an anisotropic conductive film (ACF) or an anisotropic conductive paste (ACP). An anisotropic conductive adhesive such as) may be used.

撮像基板12は、固体撮像素子11の撮像機能を実現するための回路と、受光機能部11aに対向する開口部12aとが形成された回路基板である。なお、撮像基板12は、外力の印加によって容易に変形可能な可撓性のフレキシブル回路基板であってもよいし、フレキシブル回路基板に比して変形し難いリジッド回路基板であってもよい。   The imaging board 12 is a circuit board on which a circuit for realizing the imaging function of the solid-state imaging device 11 and an opening 12a facing the light receiving function part 11a are formed. The imaging board 12 may be a flexible flexible circuit board that can be easily deformed by application of an external force, or may be a rigid circuit board that is less likely to be deformed than a flexible circuit board.

開口部12aは、固体撮像素子11の受光機能部11aに対応して設計された開口寸法、つまり、受光機能部11aの大きさに対して所定以上に大きい開口寸法を有し、この受光機能部11aに対する被写体からの光の入射を可能にする。   The opening 12a has an opening size designed corresponding to the light receiving function unit 11a of the solid-state imaging device 11, that is, an opening size larger than a predetermined size with respect to the size of the light receiving function unit 11a. The light from the subject can be incident on 11a.

このような撮像基板12には、図1に示すように、受光機能部11aと開口部12aとを対向させた態様にして、固体撮像素子11がフリップチップ実装される。この場合、撮像基板12は、固体撮像素子11によって開口部12aを閉塞するように、固体撮像素子11を搭載する。さらに、撮像基板12には、この搭載した固体撮像素子11を包囲する包囲剛体15が取り付けられる。   As shown in FIG. 1, the solid-state imaging device 11 is flip-chip mounted on such an imaging substrate 12 with the light receiving function portion 11 a and the opening portion 12 a facing each other. In this case, the imaging substrate 12 is mounted with the solid-state imaging element 11 so as to close the opening 12 a with the solid-state imaging element 11. Furthermore, the surrounding rigid body 15 surrounding the mounted solid-state imaging device 11 is attached to the imaging substrate 12.

また、撮像基板12には、特に図示しないが、固体撮像素子11と電気的に接続する回路配線と、撮像基板12の熱を放出するための放熱用の金属パターン(以下、放熱パターンという)とが形成されている。撮像基板12は、このような回路配線の電極端子を介して接続基板30と電気的に接続される。且つ、撮像基板12は、このような放熱パターンを介して接続基板30と熱伝導可能に接続される。   Although not particularly shown on the imaging substrate 12, circuit wiring that is electrically connected to the solid-state imaging device 11, and a metal pattern for heat dissipation for releasing heat of the imaging substrate 12 (hereinafter referred to as a heat dissipation pattern) Is formed. The imaging substrate 12 is electrically connected to the connection substrate 30 through the electrode terminals of such circuit wiring. In addition, the imaging substrate 12 is connected to the connection substrate 30 through such a heat dissipation pattern so as to be able to conduct heat.

カバーガラス13は、被写体からの光、すなわち固体撮像素子11の受光機能部11aが受光すべき光に対して透明な光学部材である。カバーガラス13は、図1に示すように、固体撮像素子11の受光機能部11aと対向する撮像基板12の開口部12aを閉じるように、接着剤14によって撮像基板12に固定される。このように撮像基板12に取り付けられたカバーガラス13は、固体撮像素子11の受光機能部11a側に被写体からの光を透過するとともに、受光機能部11aへの異物混入を防止し、且つ外力による破損等から受光機能部11aを保護する。   The cover glass 13 is an optical member that is transparent to light from the subject, that is, light that should be received by the light receiving function unit 11a of the solid-state imaging device 11. As shown in FIG. 1, the cover glass 13 is fixed to the imaging substrate 12 with an adhesive 14 so as to close the opening 12 a of the imaging substrate 12 facing the light receiving function portion 11 a of the solid-state imaging device 11. The cover glass 13 attached to the imaging substrate 12 in this manner transmits light from the subject to the light receiving function unit 11a side of the solid-state imaging device 11, prevents foreign matter from entering the light receiving function unit 11a, and is caused by external force. The light receiving function unit 11a is protected from damage or the like.

包囲剛体15は、撮像基板12上の固体撮像素子11を包囲する多層断面構造の剛体である。図2は、包囲剛体の外形および多層断面構造の一例を示す模式図である。包囲剛体15は、図1,2に示すように、電磁波吸収性を有する剛体15aによって形成される。   The surrounding rigid body 15 is a rigid body having a multilayer cross-sectional structure that surrounds the solid-state imaging device 11 on the imaging substrate 12. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the outer shape of the surrounding rigid body and the multilayer cross-sectional structure. As shown in FIGS. 1 and 2, the surrounding rigid body 15 is formed by a rigid body 15 a having electromagnetic wave absorbability.

剛体15aは、フェライトまたはカーボン等の電磁波吸収部材であり、例えば図2に示すように、一端が開口した箱型の外形をなす中空な構造体に形成される。この剛体15aの開口端部、すなわち、包囲剛体15の開口端部は、図1に示すように、撮像基板12上の固体撮像素子11の外周部近傍に固定される。なお、このような撮像基板12と包囲剛体15との固定は、エポキシ系接着剤または熱伝導性接着剤等を用いて行われる。このように撮像基板12に固定された包囲剛体15は、図1に示すように、撮像基板12上の固体撮像素子11を包囲し、これによって、固体撮像素子11と包囲剛体15の外部とを遮断する。   The rigid body 15a is an electromagnetic wave absorbing member such as ferrite or carbon, and is formed in a hollow structure having a box-shaped outer shape with one end opened as shown in FIG. The opening end of the rigid body 15a, that is, the opening end of the surrounding rigid body 15 is fixed in the vicinity of the outer periphery of the solid-state imaging device 11 on the imaging substrate 12, as shown in FIG. The imaging substrate 12 and the surrounding rigid body 15 are fixed using an epoxy adhesive or a heat conductive adhesive. The surrounding rigid body 15 fixed to the imaging substrate 12 as described above surrounds the solid-state imaging device 11 on the imaging substrate 12 as shown in FIG. 1, and thereby, the solid-state imaging device 11 and the outside of the surrounding rigid body 15 are connected. Cut off.

ここで、包囲剛体15は、電磁波を吸収する剛体15aの層、すなわち電磁波吸収層と、外気(包囲剛体15の外部雰囲気)に比して減圧された減圧層15bとを有する多層断面構造からなる。具体的には、包囲剛体15の多層断面構造は、図1,2に示すように、2つの電磁波吸収層によって減圧層15bを挟んだ3層断面構造である。この3層断面構造において、剛体15aは、包囲剛体15の外層をなし、包囲剛体15の電磁波吸収層は、外層である剛体15aによって形成される。   Here, the surrounding rigid body 15 has a multilayer cross-sectional structure including a layer of a rigid body 15a that absorbs electromagnetic waves, that is, an electromagnetic wave absorbing layer, and a decompression layer 15b that is decompressed compared to the outside air (the atmosphere outside the surrounding rigid body 15). . Specifically, the multilayer cross-sectional structure of the surrounding rigid body 15 is a three-layer cross-sectional structure in which the decompression layer 15b is sandwiched between two electromagnetic wave absorption layers, as shown in FIGS. In this three-layer cross-sectional structure, the rigid body 15a forms an outer layer of the surrounding rigid body 15, and the electromagnetic wave absorbing layer of the surrounding rigid body 15 is formed by the rigid body 15a that is the outer layer.

一方、減圧層15bは、上述した剛体15aによって密閉された中空層であり、外気に比して減圧することによって形成される。具体的には、剛体15aの一部分に外気に通じる通気穴(図示せず)を形成し、この通気穴を通して剛体15a間の中空層を脱気(減圧処理)することによって、減圧層15bが形成される。なお、この剛体15aの通気穴は、減圧層15bを形成後、電磁波吸収部材等によって閉塞される。このようにして形成された減圧層15bは、外気に比して減圧されていれば空気を含んでもよいが、真空であることが望ましい。   On the other hand, the decompression layer 15b is a hollow layer sealed by the rigid body 15a described above, and is formed by decompressing compared to the outside air. Specifically, a vent hole (not shown) communicating with the outside air is formed in a part of the rigid body 15a, and the vacuum layer 15b is formed by degassing (depressurizing treatment) the hollow layer between the rigid bodies 15a through the vent hole. Is done. The vent hole of the rigid body 15a is closed by an electromagnetic wave absorbing member or the like after the decompression layer 15b is formed. The decompression layer 15b formed in this way may contain air as long as the decompression layer 15b is decompressed as compared with the outside air, but is preferably a vacuum.

制御部20は、撮像部10を制御するためのユニットであり、図1に示すように、DSP21と、チップコンデンサ等の他の電子部品22と、DSP21および電子部品22を実装する制御基板23とを備える。DSP21は、上述した固体撮像素子11の動作を制御する半導体素子(電子部品の一例)であり、制御機能に必要な回路等が形成されたシリコン基板等のサブストレートの表面に、複数の突起電極21aを備える。   The control unit 20 is a unit for controlling the imaging unit 10, and as shown in FIG. 1, a DSP 21, another electronic component 22 such as a chip capacitor, and a control board 23 on which the DSP 21 and the electronic component 22 are mounted. Is provided. The DSP 21 is a semiconductor element (an example of an electronic component) that controls the operation of the solid-state imaging device 11 described above. A plurality of protruding electrodes are formed on the surface of a substrate such as a silicon substrate on which a circuit necessary for a control function is formed. 21a.

複数の突起電極21aは、サブストレートに形成された複数の電極パッドに固定される。なお、特に図示しないが、このように電極パッドに固定された複数の突起電極21aの各々は、サブストレートに形成された回路配線等を介してDSP21の回路と電気的に接続する。   The plurality of protruding electrodes 21a are fixed to a plurality of electrode pads formed on the substrate. Although not particularly illustrated, each of the plurality of protruding electrodes 21a fixed to the electrode pad in this manner is electrically connected to the circuit of the DSP 21 through a circuit wiring or the like formed on the substrate.

なお、複数の突起電極21aの各々は、ワイヤボンディング方式によって形成された金または銅等のスタッドバンプであってもよいし、めっき方式によって形成された金、銀、インジウムまたは半田等の金属バンプであってもよい。また、複数の突起電極21aの各々は、金属ボールまたは表面に金属めっきを施した樹脂ボールであってもよい。   Each of the plurality of protruding electrodes 21a may be a stud bump such as gold or copper formed by a wire bonding method, or may be a metal bump such as gold, silver, indium, or solder formed by a plating method. There may be. Each of the plurality of protruding electrodes 21a may be a metal ball or a resin ball having a surface plated with metal.

このような構成を有するDSP21は、図1に示すように、接着剤21bを用いて制御基板23にフリップチップ実装される。これによって、複数の突起電極21aの各々は、制御基板23の電極端子(図示せず)に接続固定される。この結果、DSP21は、複数の突起電極21aを介して制御基板23の回路配線と電気的に接続される。なお、DSP21が固体撮像素子11を制御するための制御信号は、これら複数の突起電極21aを介して、制御基板23側に出力される。   The DSP 21 having such a configuration is flip-chip mounted on the control board 23 using an adhesive 21b as shown in FIG. Thereby, each of the plurality of protruding electrodes 21 a is connected and fixed to an electrode terminal (not shown) of the control board 23. As a result, the DSP 21 is electrically connected to the circuit wiring of the control board 23 through the plurality of protruding electrodes 21a. A control signal for the DSP 21 to control the solid-state imaging device 11 is output to the control board 23 side through the plurality of protruding electrodes 21a.

一方、電子部品22は、例えばチップコンデンサ等の電子部品であり、DSP21が正常に動作するために必要に応じて制御基板23の電極端子に実装される。なお、この電子部品22と制御基板23との固定は、接着剤22aを用いて行われる。   On the other hand, the electronic component 22 is an electronic component such as a chip capacitor, and is mounted on the electrode terminal of the control board 23 as necessary for the DSP 21 to operate normally. The electronic component 22 and the control board 23 are fixed using an adhesive 22a.

ここで、接着剤21bは、DSP21と制御基板23との電気的な接続状態を確保するためのものであり、接着剤22aは、電子部品22と制御基板23との電気的な接続状態を確保するためのものである。なお、接着剤21b,22aは、エポキシ系、フェノール系、シリコン系、ウレタン系またはアクリル系等の絶縁性接着剤であってもよいし、ACFまたはACP等の異方性導電接着剤であってもよい。   Here, the adhesive 21b is for ensuring an electrical connection state between the DSP 21 and the control board 23, and the adhesive 22a is an electrical connection state between the electronic component 22 and the control board 23. Is to do. The adhesives 21b and 22a may be an epoxy, phenol, silicon, urethane or acrylic insulating adhesive, or an anisotropic conductive adhesive such as ACF or ACP. Also good.

制御基板23は、DSP21の制御機能を実現するために必要な回路が形成された回路基板である。この制御基板23には、図1に示すように、DSP21がフリップチップ実装され、さらに、電子部品22が実装される。なお、制御基板23は、外力の印加によって容易に変形可能な可撓性のフレキシブル回路基板であってもよいし、フレキシブル回路基板に比して変形し難いリジッド回路基板であってもよい。   The control board 23 is a circuit board on which a circuit necessary for realizing the control function of the DSP 21 is formed. As shown in FIG. 1, the DSP 21 is flip-chip mounted on the control board 23, and the electronic component 22 is further mounted. The control board 23 may be a flexible flexible circuit board that can be easily deformed by application of an external force, or may be a rigid circuit board that is less likely to be deformed than a flexible circuit board.

また、制御基板23には、特に図示しないが、DSP21と電気的に接続する回路配線と、制御基板23の熱を放出するための放熱パターンとが形成されている。制御基板23は、このような回路配線の電極端子を介して接続基板30と電気的に接続される。且つ、制御基板23は、このような放熱パターンを介して接続基板30と熱伝導可能に接続される。   The control board 23 is formed with circuit wiring that is electrically connected to the DSP 21 and a heat radiation pattern for releasing the heat of the control board 23, although not particularly shown. The control board 23 is electrically connected to the connection board 30 through the electrode terminals of such circuit wiring. Further, the control board 23 is connected to the connection board 30 through such a heat dissipation pattern so as to be able to conduct heat.

接続基板30は、外力の印加によって容易に変形可能な可撓性のフレキシブル回路基板であり、上述した撮像基板12と制御基板23とを接続する。具体的には、接続基板30は、撮像基板12と電気的に接続する撮像基板側電極端子と、制御基板23と電気的に接続する制御基板側電極端子とを有する。また、接続基板30には、これら撮像基板側電極端子と制御基板側電極端子とを電気的に接続する回路が形成される。   The connection board 30 is a flexible flexible circuit board that can be easily deformed by applying external force, and connects the imaging board 12 and the control board 23 described above. Specifically, the connection board 30 includes an imaging board side electrode terminal electrically connected to the imaging board 12 and a control board side electrode terminal electrically connected to the control board 23. The connection board 30 is formed with a circuit for electrically connecting the imaging board side electrode terminals and the control board side electrode terminals.

また、接続基板30は、撮像基板12からの熱を伝導する放熱パターンと、制御基板23からの熱を伝導する放熱パターンとを有する。接続基板30は、このような放熱パターンを介して、撮像基板12および制御基板23と接続される。   Further, the connection board 30 has a heat radiation pattern that conducts heat from the imaging board 12 and a heat radiation pattern that conducts heat from the control board 23. The connection board 30 is connected to the imaging board 12 and the control board 23 through such a heat radiation pattern.

このような構成を有する接続基板30には、撮像基板12および制御基板23が電気的且つ熱的に接続される。すなわち、撮像基板12および制御基板23は、接続基板30を介して電気的に接続されるとともに、接続基板30に対して熱伝導可能に接続される。また、可撓性を有する接続基板30を介して接続された撮像基板12および制御基板23は、図1に示すように、対向する態様で互いに近傍に位置する。   The imaging board 12 and the control board 23 are electrically and thermally connected to the connection board 30 having such a configuration. That is, the imaging board 12 and the control board 23 are electrically connected via the connection board 30 and are connected to the connection board 30 so as to be capable of conducting heat. In addition, the imaging board 12 and the control board 23 connected via the flexible connection board 30 are positioned in the vicinity of each other in an opposing manner as shown in FIG.

一方、接続基板30には、図1に示すように、吸熱体31が配置される。吸熱体31は、接続基板30に伝導された熱を吸収する。具体的には、吸熱体31は、銅またはアルミニウム等の放熱性の高い金属または合金によって形成され、接続基板30の所定の位置(例えば放熱パターン上)に固定される。接続基板30上の吸熱体31は、撮像基板12側から接続基板30に伝導した熱と、制御基板23側から接続基板30に伝導した熱とを吸収し、吸収した熱を外部に放出する。これによって、吸熱体31は、接続基板30を介した撮像基板12と制御基板23との間の熱伝導を遮断する。詳細には、吸熱体31は、接続基板30を介した固体撮像素子11とDSP21との間の熱伝導を遮断する。   On the other hand, as shown in FIG. The heat absorber 31 absorbs heat conducted to the connection substrate 30. Specifically, the heat absorber 31 is formed of a metal or alloy having high heat dissipation such as copper or aluminum, and is fixed to a predetermined position (for example, on the heat dissipation pattern) of the connection substrate 30. The heat absorber 31 on the connection board 30 absorbs heat conducted from the imaging board 12 side to the connection board 30 and heat conducted from the control board 23 side to the connection board 30 and releases the absorbed heat to the outside. Thus, the heat absorber 31 blocks heat conduction between the imaging substrate 12 and the control substrate 23 via the connection substrate 30. Specifically, the heat absorber 31 blocks heat conduction between the solid-state imaging device 11 and the DSP 21 via the connection substrate 30.

ここで、上述した包囲剛体15および吸熱体31は、半導体装置1の熱遮断構造100を構成する。具体的には、包囲剛体15は、電磁波吸収部材である剛体15aの作用によって、固体撮像素子11とDSP21との間の熱放射を遮断し、減圧層15bの作用によって、固体撮像素子11とDSP21との間の熱対流を遮断する。一方、吸熱体31は、上述したように、接続基板30を介した固体撮像素子11とDSP21との間の熱伝導を遮断する。このような包囲剛体15および吸熱体31を有する熱遮断構造100は、固体撮像素子11とDSP21との間における全ての熱伝達(熱放射、熱対流、熱伝導)を遮断する。   Here, the surrounding rigid body 15 and the heat absorbing body 31 described above constitute the heat blocking structure 100 of the semiconductor device 1. Specifically, the surrounding rigid body 15 blocks heat radiation between the solid-state imaging element 11 and the DSP 21 by the action of the rigid body 15a that is an electromagnetic wave absorbing member, and the solid-state imaging element 11 and the DSP 21 by the action of the decompression layer 15b. Block heat convection between On the other hand, the heat absorber 31 blocks heat conduction between the solid-state imaging device 11 and the DSP 21 via the connection substrate 30 as described above. The heat blocking structure 100 having the surrounding rigid body 15 and the heat absorbing body 31 blocks all heat transfer (thermal radiation, heat convection, heat conduction) between the solid-state imaging device 11 and the DSP 21.

なお、以上のような構成を有する半導体装置1は、デジタルカメラおよびデジタルビデオカメラを始め、被検体の臓器内部を観察するための内視鏡、撮像機能を備えた携帯電話機等、各種態様の電子撮像装置の撮像ユニットとして適用することができる。   The semiconductor device 1 having the above-described configuration includes various types of electronic devices such as a digital camera and a digital video camera, an endoscope for observing the inside of an organ of a subject, and a mobile phone having an imaging function. It can be applied as an imaging unit of an imaging device.

つぎに、本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造100の作用について説明する。図3は、本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造の作用を説明するための模式図である。なお、図3において、波線矢印は、熱放射による熱エネルギーの流れを示し、一点鎖線矢印は、熱対流による熱エネルギーの流れを示し、破線矢印は、熱伝導による熱エネルギーの流れを示す。   Next, the operation of the heat blocking structure 100 according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the operation of the heat shielding structure according to the embodiment of the present invention. In FIG. 3, the wavy arrow indicates the flow of thermal energy due to thermal radiation, the alternate long and short dash line indicates the flow of thermal energy due to thermal convection, and the dashed arrow indicates the flow of thermal energy due to heat conduction.

まず、DSP21が発熱源である場合を例示して、熱遮断構造100の作用を説明する。DSP21は、固体撮像素子11を制御するために動作する度に発熱し、この発熱した熱エネルギーは、熱放射、熱対流および熱伝導によってDSP21から伝達される。   First, the case where the DSP 21 is a heat generation source will be described as an example to explain the operation of the heat blocking structure 100. The DSP 21 generates heat each time it operates to control the solid-state imaging device 11, and the generated heat energy is transmitted from the DSP 21 by heat radiation, heat convection, and heat conduction.

このようなDSP21によって放射された熱エネルギー、すなわち熱放射による熱エネルギーは、図3の波線矢印に示すように、DSP21から放射状に放出され、その後、熱遮断構造100の一つである包囲剛体15に到達する。   The thermal energy radiated by the DSP 21, that is, the thermal energy by the thermal radiation, is emitted radially from the DSP 21 as indicated by a wavy arrow in FIG. 3, and thereafter, the surrounding rigid body 15 that is one of the heat blocking structures 100. To reach.

ここで、熱放射による熱エネルギーは、電磁波として放出される。したがって、図3に示すDSP21からの熱放射による熱エネルギーは、包囲剛体15の電磁波吸収層である剛体15aによって吸収される。このため、DSP21からの熱放射による熱エネルギーは、剛体15aによって囲まれた状態の固体撮像素子11に伝わらず、この結果、DSP21から固体撮像素子11への熱放射は、包囲剛体15によって遮断される。なお、剛体15aによって吸収された熱エネルギーは、撮像基板12の放熱パターンを介して接続基板30に伝導する。   Here, the thermal energy by thermal radiation is emitted as electromagnetic waves. 3 is absorbed by the rigid body 15a which is the electromagnetic wave absorbing layer of the surrounding rigid body 15. For this reason, the thermal energy generated by the thermal radiation from the DSP 21 is not transmitted to the solid-state imaging device 11 surrounded by the rigid body 15a. As a result, the thermal radiation from the DSP 21 to the solid-state imaging device 11 is blocked by the surrounding rigid body 15. The The thermal energy absorbed by the rigid body 15a is conducted to the connection substrate 30 through the heat radiation pattern of the imaging substrate 12.

一方、DSP21に接触する空気の対流によって伝わる熱エネルギー、すなわち熱対流による熱エネルギーは、図3の一点鎖線矢印に示すように、DSP21近傍の空気の対流に伴ってDSP21から伝達され、その後、熱遮断構造100の一つである包囲剛体15に到達する。   On the other hand, the thermal energy transmitted by the convection of the air in contact with the DSP 21, that is, the thermal energy by the thermal convection is transmitted from the DSP 21 along with the convection of the air in the vicinity of the DSP 21 as shown by the one-dot chain arrow in FIG. The surrounding rigid body 15 that is one of the blocking structures 100 is reached.

ここで、包囲剛体15の減圧層15bは、上述したように、外気に比して減圧された中空層であり、真空状態に近い。したがって、減圧層15bにおいては、空気の対流が起こり難く、これによって、熱対流による熱エネルギーは、減圧層15b内部に伝わらない。なお、減圧層15b内部における空気の対流は、減圧層15bの気圧が低いほど起こり難くなる。さらには、減圧層15bが真空状態である場合、減圧層15b内部において、空気の対流は起こらない。   Here, the depressurization layer 15b of the surrounding rigid body 15 is a hollow layer depressurized compared to the outside air as described above, and is close to a vacuum state. Accordingly, air convection hardly occurs in the decompression layer 15b, and thus, thermal energy due to thermal convection is not transmitted to the inside of the decompression layer 15b. Note that air convection inside the decompression layer 15b is less likely to occur as the pressure in the decompression layer 15b is lower. Furthermore, when the decompression layer 15b is in a vacuum state, air convection does not occur inside the decompression layer 15b.

このため、DSP21からの熱対流による熱エネルギーは、減圧層15bによって囲まれた状態の固体撮像素子11に伝わらず、この結果、DSP21から固体撮像素子11への熱対流は、包囲剛体15によって遮断される。なお、減圧層15bによって遮断された熱エネルギーは、剛体15aおよび撮像基板12の放熱パターンを介して接続基板30に伝導する。   For this reason, thermal energy from the thermal convection from the DSP 21 is not transmitted to the solid-state imaging device 11 surrounded by the decompression layer 15b, and as a result, thermal convection from the DSP 21 to the solid-state imaging device 11 is blocked by the surrounding rigid body 15. Is done. The thermal energy blocked by the decompression layer 15b is conducted to the connection substrate 30 through the rigid body 15a and the heat radiation pattern of the imaging substrate 12.

他方、DSP21から制御基板23に伝導する熱エネルギー、すなわち熱伝導による熱エネルギーは、図3の破線矢印に示すように、制御基板23から接続基板30に伝導し、その後、熱遮断構造100の一つである吸熱体31に到達する。   On the other hand, thermal energy conducted from the DSP 21 to the control board 23, that is, thermal energy by thermal conduction, is conducted from the control board 23 to the connection board 30 as shown by a broken line arrow in FIG. Reaches the endothermic body 31.

ここで、吸熱体31は、図3に示すように、半導体装置1を内蔵する電子撮像装置の筐体40に固定されている。この状態の吸熱体31は、制御基板23から接続基板30に伝導した熱エネルギーを吸収し、その後、この吸収した熱エネルギーを筐体40に伝導させる。したがって、熱伝導による熱エネルギーは、吸熱体31から撮像基板12側に伝導しない。   Here, as shown in FIG. 3, the heat absorber 31 is fixed to a housing 40 of an electronic imaging device incorporating the semiconductor device 1. The heat absorber 31 in this state absorbs the thermal energy conducted from the control board 23 to the connection board 30, and then conducts the absorbed thermal energy to the housing 40. Therefore, heat energy by heat conduction is not conducted from the heat absorber 31 to the imaging substrate 12 side.

このため、DSP21からの熱伝導による熱エネルギーは、吸熱体31を境界にして撮像基板12側に位置する固体撮像素子11に伝わらず、この結果、DSP21から固体撮像素子11への熱伝導は、吸熱体31によって遮断される。なお、吸熱体31によって遮断された熱エネルギーは、筐体40に伝達された後、電子撮像装置の外部に放出される。   For this reason, thermal energy from the heat conduction from the DSP 21 is not transmitted to the solid-state imaging device 11 located on the imaging substrate 12 side with the endothermic body 31 as a boundary. As a result, heat conduction from the DSP 21 to the solid-state imaging device 11 is It is blocked by the heat absorber 31. The thermal energy blocked by the heat absorber 31 is transmitted to the housing 40 and then released to the outside of the electronic imaging device.

上述したようにして、熱遮断構造100は、DSP21から固体撮像素子11への熱放射、熱対流および熱伝導を全て遮断する。このため、DSP21において発生した熱エネルギーは、固体撮像素子11に伝わらず、この結果、DSP21の発熱による固体撮像素子11の温度上昇を低減することができる。   As described above, the heat blocking structure 100 blocks all heat radiation, heat convection, and heat conduction from the DSP 21 to the solid-state imaging device 11. For this reason, the thermal energy generated in the DSP 21 is not transmitted to the solid-state imaging device 11, and as a result, the temperature rise of the solid-state imaging device 11 due to the heat generated by the DSP 21 can be reduced.

つぎに、固体撮像素子11が発熱源である場合を例示して、熱遮断構造100の作用を説明する。固体撮像素子11は、DSP21の制御に基づいて動作する度に発熱し、この発熱した熱エネルギーは、熱放射、熱対流および熱伝導によって固体撮像素子11から伝達される。   Next, the case where the solid-state imaging device 11 is a heat generation source will be described as an example, and the operation of the heat blocking structure 100 will be described. The solid-state image sensor 11 generates heat each time it operates based on the control of the DSP 21, and the generated heat energy is transmitted from the solid-state image sensor 11 by heat radiation, heat convection, and heat conduction.

このような固体撮像素子11によって放射された熱エネルギー、すなわち熱放射による熱エネルギーは、図3の波線矢印に示すように、固体撮像素子11から放射状に放出され、その後、包囲剛体15に到達する。   The thermal energy radiated by the solid-state imaging device 11, that is, the thermal energy by thermal radiation, is emitted radially from the solid-state imaging device 11 and then reaches the surrounding rigid body 15 as indicated by the wavy arrow in FIG. 3. .

ここで、固体撮像素子11からの熱放射による熱エネルギーは、電磁波として放出された熱エネルギーであるため、包囲剛体15の電磁波吸収層である剛体15aによって吸収される。このため、固体撮像素子11からの熱放射による熱エネルギーは、剛体15aの外部に位置するDSP21に伝わらず、この結果、固体撮像素子11からDSP21への熱放射は、包囲剛体15によって遮断される。なお、剛体15aによって吸収された熱エネルギーは、DSP21が発熱源である場合と同様に、撮像基板12の放熱パターンを介して接続基板30に伝導する。   Here, since the thermal energy generated by the thermal radiation from the solid-state imaging device 11 is the thermal energy emitted as an electromagnetic wave, it is absorbed by the rigid body 15 a that is the electromagnetic wave absorbing layer of the surrounding rigid body 15. For this reason, the thermal energy generated by the thermal radiation from the solid-state imaging device 11 is not transmitted to the DSP 21 located outside the rigid body 15a. As a result, the thermal radiation from the solid-state imaging device 11 to the DSP 21 is blocked by the surrounding rigid body 15. . The thermal energy absorbed by the rigid body 15a is conducted to the connection substrate 30 through the heat radiation pattern of the imaging substrate 12 as in the case where the DSP 21 is a heat source.

一方、固体撮像素子11に接触する空気の対流によって伝わる熱エネルギー、すなわち熱対流による熱エネルギーは、図3の一点鎖線矢印に示すように、固体撮像素子11近傍の空気の対流に伴って固体撮像素子11から伝達され、その後、包囲剛体15に到達する。   On the other hand, the thermal energy transmitted by the convection of the air in contact with the solid-state image sensor 11, that is, the thermal energy by the thermal convection, is shown in FIG. It is transmitted from the element 11 and then reaches the surrounding rigid body 15.

ここで、包囲剛体15の減圧層15b内部における空気の対流は、上述したように、減圧層15bの気圧が低いほど、起こり難く、さらには、減圧層15bが真空状態である場合、減圧層15b内部において、空気の対流は起こらない。したがって、熱対流による熱エネルギーは、減圧層15b内部に伝わらない。   Here, as described above, the convection of air inside the decompression layer 15b of the surrounding rigid body 15 is less likely to occur as the pressure of the decompression layer 15b is lower. Furthermore, when the decompression layer 15b is in a vacuum state, the decompression layer 15b There is no air convection inside. Therefore, the thermal energy by thermal convection is not transmitted to the inside of the decompression layer 15b.

このため、固体撮像素子11からの熱対流による熱エネルギーは、減圧層15bの外部に位置するDSP21に伝わらず、この結果、固体撮像素子11からDSP21への熱対流は、包囲剛体15によって遮断される。なお、減圧層15bによって遮断された熱エネルギーは、DSP21が発熱源である場合と同様に、剛体15aおよび撮像基板12の放熱パターンを介して接続基板30に伝導する。   For this reason, thermal energy from thermal convection from the solid-state imaging device 11 is not transmitted to the DSP 21 located outside the decompression layer 15b, and as a result, thermal convection from the solid-state imaging device 11 to the DSP 21 is blocked by the surrounding rigid body 15. The The thermal energy blocked by the decompression layer 15b is conducted to the connection substrate 30 through the rigid body 15a and the heat radiation pattern of the imaging substrate 12 as in the case where the DSP 21 is a heat generation source.

他方、固体撮像素子11から撮像基板12に伝導する熱エネルギー、すなわち熱伝導による熱エネルギーは、図3の破線矢印に示すように、撮像基板12から接続基板30に伝導し、その後、吸熱体31に到達する。   On the other hand, thermal energy conducted from the solid-state imaging device 11 to the imaging substrate 12, that is, thermal energy due to thermal conduction, is conducted from the imaging substrate 12 to the connection substrate 30 as shown by a broken line arrow in FIG. To reach.

ここで、吸熱体31は、上述したように、筐体40に固定された状態である。この状態の吸熱体31は、撮像基板12から接続基板30に伝導した熱エネルギーを吸収し、その後、この吸収した熱エネルギーを筐体40に伝導させる。したがって、熱伝導による熱エネルギーは、吸熱体31から制御基板23側に伝導しない。   Here, the heat absorber 31 is in a state of being fixed to the housing 40 as described above. The heat absorber 31 in this state absorbs the thermal energy conducted from the imaging substrate 12 to the connection substrate 30, and then conducts the absorbed thermal energy to the housing 40. Therefore, the heat energy by heat conduction is not conducted from the heat absorber 31 to the control board 23 side.

このため、固体撮像素子11からの熱伝導による熱エネルギーは、吸熱体31を境界にして制御基板23側に位置するDSP21に伝わらず、この結果、固体撮像素子11からDSP21への熱伝導は、吸熱体31によって遮断される。なお、吸熱体31によって遮断された熱エネルギーは、DSP21が発熱源である場合と同様に、筐体40を介して電子撮像装置の外部に放出される。   For this reason, the heat energy from the heat conduction from the solid-state image sensor 11 is not transmitted to the DSP 21 located on the control board 23 side with the heat absorber 31 as a boundary. As a result, the heat conduction from the solid-state image sensor 11 to the DSP 21 is It is blocked by the heat absorber 31. Note that the thermal energy blocked by the heat absorber 31 is released to the outside of the electronic imaging apparatus via the housing 40, as in the case where the DSP 21 is a heat source.

上述したようにして、熱遮断構造100は、固体撮像素子11からDSP21への熱放射、熱対流および熱伝導を全て遮断する。このため、固体撮像素子11において発生した熱エネルギーは、DSP21に伝わらず、この結果、固体撮像素子11の発熱によるDSP21の温度上昇を低減することができる。   As described above, the heat blocking structure 100 blocks all heat radiation, heat convection, and heat conduction from the solid-state imaging device 11 to the DSP 21. For this reason, the thermal energy generated in the solid-state imaging device 11 is not transmitted to the DSP 21, and as a result, the temperature rise of the DSP 21 due to heat generation of the solid-state imaging device 11 can be reduced.

以上、説明したように、本発明の実施の形態では、電磁波吸収層と中空の減圧層とを有する多層断面構造からなる包囲剛体によって、第1の回路基板上の第1の電子部品を包囲し、この包囲剛体の外部に位置する第2の回路基板上の第2の電子部品と第1の電子部品とを包囲剛体によって隔離するように構成した。このため、包囲剛体の電磁波吸収層によって熱放射による熱エネルギーを吸収でき、さらに、包囲剛体の減圧層によって熱対流を抑制でき、これによって、第1の電子部品および第2の電子部品間の熱放射および熱対流を遮断することができる。この結果、第1の電子部品および第2の電子部品間の相互熱干渉を抑制して、第1の電子部品および第2の電子部品の温度上昇を軽減でき、これによって、温度上昇による第1の電子部品および第2の電子部品の機能低下を防止することができる。   As described above, in the embodiment of the present invention, the first electronic component on the first circuit board is surrounded by the surrounding rigid body having the multilayer cross-sectional structure having the electromagnetic wave absorbing layer and the hollow decompression layer. The second electronic component and the first electronic component on the second circuit board located outside the surrounding rigid body are separated from each other by the surrounding rigid body. For this reason, thermal energy by thermal radiation can be absorbed by the electromagnetic wave absorbing layer of the surrounding rigid body, and furthermore, thermal convection can be suppressed by the decompression layer of the surrounding rigid body, whereby heat between the first electronic component and the second electronic component can be suppressed. Radiation and thermal convection can be blocked. As a result, the mutual heat interference between the first electronic component and the second electronic component can be suppressed, and the temperature rise of the first electronic component and the second electronic component can be reduced, thereby the first due to the temperature rise. The functional deterioration of the electronic component and the second electronic component can be prevented.

また、本発明の実施の形態では、第1の回路基板と第2の回路基板とを接続する接続基板に吸熱体を配置し、この吸熱体によって、接続基板に伝導する熱を吸収するように構成した。このため、第1の回路基板側から接続基板に伝導した熱と、第2の回路基板側から接続基板に伝導した熱とを共に吸収して、装置外部に放出することができ、これによって、第1の電子部品および第2の電子部品間の熱伝導を遮断することができる。この結果、回路基板を介して接続された状態の第1の電子部品および第2の電子部品間の相互熱干渉を抑制して、第1の電子部品および第2の電子部品の温度上昇を軽減でき、これによって、温度上昇による第1の電子部品および第2の電子部品の機能低下を防止することができる。   Further, in the embodiment of the present invention, a heat absorber is disposed on the connection board that connects the first circuit board and the second circuit board, and the heat conducted to the connection board is absorbed by the heat absorber. Configured. For this reason, the heat conducted from the first circuit board side to the connection board and the heat conducted from the second circuit board side to the connection board can both be absorbed and released to the outside of the apparatus. The heat conduction between the first electronic component and the second electronic component can be blocked. As a result, the mutual thermal interference between the first electronic component and the second electronic component connected via the circuit board is suppressed, and the temperature rise of the first electronic component and the second electronic component is reduced. Thus, it is possible to prevent the first electronic component and the second electronic component from deteriorating due to temperature rise.

さらに、可撓性を有する接続基板を湾曲させて、第1の回路基板と第2の回路基板とを対向配置するように構成した。このため、装置筐体の内部に、第1の回路基板および第2の回路基板を高密度に配置することができ、これによって、装置筐体の小型化を阻害せずに第1の電子部品および第2の電子部品間の熱伝達を遮断することができる。   Furthermore, the connection board having flexibility is curved, and the first circuit board and the second circuit board are arranged to face each other. For this reason, the first circuit board and the second circuit board can be arranged at high density inside the apparatus housing, and thereby the first electronic component can be achieved without hindering downsizing of the apparatus housing. The heat transfer between the second electronic component and the second electronic component can be blocked.

本発明の実施の形態にかかる熱遮断構造を電子撮像装置内の半導体装置に適用することによって、この半導体装置内の固体撮像素子とDSPとの間における熱伝達を遮断することができる。このため、固体撮像素子およびDSP間の相互熱干渉を抑制して、固体撮像素子およびDSPの温度上昇を軽減することができ、この結果、温度上昇による固体撮像素子の機能低下およびDSPの機能低下を共に防止することができる。   By applying the heat blocking structure according to the embodiment of the present invention to the semiconductor device in the electronic imaging device, heat transfer between the solid-state imaging device and the DSP in the semiconductor device can be blocked. For this reason, it is possible to suppress the mutual thermal interference between the solid-state imaging device and the DSP and reduce the temperature rise of the solid-state imaging device and the DSP. As a result, the solid-state imaging device and the DSP are degraded due to the temperature rise. Can be prevented together.

(変形例)
つぎに、本発明の実施の形態の変形例について説明する。上述した実施の形態では、包囲剛体15によって固体撮像素子11を包囲していたが、この変形例では、包囲剛体15と同様の多層構造からなる他の包囲剛体によって、制御基板23上のDSP21および電子部品22をさらに包囲している。
(Modification)
Next, a modification of the embodiment of the present invention will be described. In the embodiment described above, the solid-state imaging device 11 is surrounded by the surrounding rigid body 15. However, in this modification, the DSP 21 on the control board 23 and the surrounding rigid body having the same multilayer structure as the surrounding rigid body 15 are used. The electronic component 22 is further surrounded.

図4は、本発明の実施の形態の変形例にかかる熱遮断構造を備えた半導体装置の一構成例を示す断面模式図である。図4に示すように、この変形例にかかる半導体装置2は、上述した実施の形態にかかる半導体装置1の熱遮断構造100に代えて熱遮断構造200を備える。この熱遮断構造200は、上述した包囲剛体15および吸熱体31に加えて、制御基板23上のDSP21および電子部品22を包囲する包囲剛体25をさらに備えることによって構成される。その他の構成は上述した実施の形態と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor device provided with a heat blocking structure according to a modification of the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the semiconductor device 2 according to this modification includes a heat blocking structure 200 instead of the heat blocking structure 100 of the semiconductor device 1 according to the above-described embodiment. In addition to the surrounding rigid body 15 and the heat absorbing body 31 described above, the heat blocking structure 200 is configured by further including an surrounding rigid body 25 that surrounds the DSP 21 and the electronic component 22 on the control board 23. Other configurations are the same as those of the above-described embodiment, and the same reference numerals are given to the same components.

包囲剛体25は、制御基板23上のDSP21および電子部品22を包囲する多層断面構造の剛体である。具体的には、包囲剛体25は、上述した実施の形態における包囲剛体15と同様の多層断面構造からなり、図4に示すように、電磁波吸収性を有する剛体25aによって形成される。   The surrounding rigid body 25 is a rigid body having a multilayer cross-sectional structure that surrounds the DSP 21 and the electronic component 22 on the control board 23. Specifically, the surrounding rigid body 25 has a multilayer cross-sectional structure similar to that of the surrounding rigid body 15 in the above-described embodiment, and is formed by a rigid body 25a having electromagnetic wave absorbability as shown in FIG.

剛体25aは、フェライトまたはカーボン等の電磁波吸収部材であり、一端が開口した箱型の外形をなす中空な構造体に形成される。この剛体25aの開口端部、すなわち、包囲剛体25の開口端部は、図4に示すように、制御基板23上の部品実装領域(DSP21および電子部品22の実装領域)の外側近傍に固定される。なお、このような制御基板23と包囲剛体25との固定は、エポキシ系接着剤または熱伝導性接着剤等を用いて行われる。   The rigid body 25a is an electromagnetic wave absorbing member such as ferrite or carbon, and is formed into a hollow structure having a box-shaped outer shape with one end opened. The open end of the rigid body 25a, that is, the open end of the surrounding rigid body 25 is fixed near the outside of the component mounting area (the mounting area of the DSP 21 and the electronic component 22) on the control board 23, as shown in FIG. The The control board 23 and the surrounding rigid body 25 are fixed using an epoxy adhesive or a heat conductive adhesive.

このように制御基板23に固定された包囲剛体25は、図4に示すように、制御基板23上のDSP21および電子部品22を包囲し、これによって、DSP21および電子部品22と包囲剛体25の外部とを遮断する。   The surrounding rigid body 25 fixed to the control board 23 as described above surrounds the DSP 21 and the electronic component 22 on the control board 23 as shown in FIG. And shut off.

ここで、包囲剛体25は、電磁波を吸収する剛体25aの層、すなわち電磁波吸収層と、外気(包囲剛体25の外部雰囲気)に比して減圧された減圧層25bとを有する多層断面構造からなる。具体的には、包囲剛体25の多層断面構造は、図4に示すように、2つの電磁波吸収層によって減圧層25bを挟んだ3層断面構造である。この3層断面構造において、剛体25aは、包囲剛体25の外層をなし、包囲剛体25の電磁波吸収層は、外層である剛体25aによって形成される。   Here, the surrounding rigid body 25 has a multilayer cross-sectional structure including a layer of a rigid body 25a that absorbs electromagnetic waves, that is, an electromagnetic wave absorbing layer, and a reduced pressure layer 25b that is decompressed compared to the outside air (the external atmosphere of the surrounding rigid body 25). . Specifically, the multilayer cross-sectional structure of the surrounding rigid body 25 is a three-layer cross-sectional structure in which the decompression layer 25b is sandwiched between two electromagnetic wave absorption layers, as shown in FIG. In this three-layer cross-sectional structure, the rigid body 25a forms an outer layer of the surrounding rigid body 25, and the electromagnetic wave absorbing layer of the surrounding rigid body 25 is formed by the rigid body 25a that is the outer layer.

一方、減圧層25bは、上述した剛体25aによって密閉された中空層であり、外気に比して減圧することによって形成される。具体的には、剛体25aの一部分に外気に通じる通気穴(図示せず)を形成し、この通気穴を通して剛体25a間の中空層を脱気(減圧処理)することによって、減圧層25bが形成される。なお、この剛体25aの通気穴は、減圧層25bを形成後、電磁波吸収部材等によって閉塞される。このようにして形成された減圧層25bは、外気に比して減圧されていれば空気を含んでもよいが、真空であることが望ましい。   On the other hand, the decompression layer 25b is a hollow layer sealed by the rigid body 25a described above, and is formed by decompressing compared to the outside air. Specifically, a vent hole (not shown) that communicates with the outside air is formed in a part of the rigid body 25a, and the hollow layer between the rigid bodies 25a is degassed (depressurized) through the vent hole to form the decompressed layer 25b. Is done. The vent hole of the rigid body 25a is closed by an electromagnetic wave absorbing member or the like after the decompression layer 25b is formed. The decompression layer 25b formed in this way may contain air as long as the decompression layer 25b is decompressed as compared with the outside air, but is preferably a vacuum.

ここで、上述した包囲剛体15,25および吸熱体31は、半導体装置2の熱遮断構造200を構成する。なお、包囲剛体15および吸熱体31の熱遮断作用は、上述した実施の形態の場合と同様である。   Here, the surrounding rigid bodies 15 and 25 and the heat absorbing body 31 described above constitute the heat blocking structure 200 of the semiconductor device 2. The heat blocking action of the surrounding rigid body 15 and the endothermic body 31 is the same as that in the above-described embodiment.

包囲剛体25は、電磁波吸収部材である剛体25aの作用によって、固体撮像素子11とDSP21との間の熱放射を遮断し、減圧層25bの作用によって、固体撮像素子11とDSP21との間の熱対流を遮断する。具体的には、包囲剛体25は、包囲剛体25の外部からDSP21に対する熱放射および熱対流を遮断するとともに、DSP21から包囲剛体25の外部に対する熱放射および熱対流を遮断する。なお、このようなDSP21に対する包囲剛体25の熱遮断作用は、上述した固体撮像素子11に対する包囲剛体15の熱遮断作用と同様である。   The surrounding rigid body 25 blocks heat radiation between the solid-state imaging device 11 and the DSP 21 by the action of the rigid body 25a that is an electromagnetic wave absorbing member, and heat between the solid-state imaging element 11 and the DSP 21 by the action of the decompression layer 25b. Block convection. Specifically, the surrounding rigid body 25 blocks heat radiation and heat convection from the outside of the surrounding rigid body 25 to the DSP 21 and blocks heat radiation and heat convection from the DSP 21 to the outside of the surrounding rigid body 25. Note that the heat blocking action of the surrounding rigid body 25 on the DSP 21 is the same as the heat blocking action of the surrounding rigid body 15 on the solid-state imaging device 11 described above.

上述したような包囲剛体15,25および吸熱体31を有する熱遮断構造200は、包囲剛体25の熱遮断作用を追加することによって、上述した実施の形態の場合に比して、固体撮像素子11とDSP21との間における全ての熱伝達(熱放射、熱対流、熱伝導)を一層効率的に遮断する。   The heat blocking structure 200 having the surrounding rigid bodies 15 and 25 and the heat absorbing body 31 as described above is added with the heat blocking action of the surrounding rigid body 25, so that the solid-state imaging device 11 is compared with the above-described embodiment. All heat transfer (heat radiation, heat convection, heat conduction) between the device and the DSP 21 is cut off more efficiently.

なお、以上のような構成を有する半導体装置2は、上述した実施の形態における半導体装置1と同様に、デジタルカメラおよびデジタルビデオカメラを始め、被検体の臓器内部を観察するための内視鏡、撮像機能を備えた携帯電話機等、各種態様の電子撮像装置の撮像ユニットとして適用することができる。   The semiconductor device 2 having the above-described configuration is an endoscope for observing the inside of an organ of a subject, including a digital camera and a digital video camera, like the semiconductor device 1 in the above-described embodiment. The present invention can be applied as an imaging unit of various types of electronic imaging devices such as a mobile phone having an imaging function.

以上、説明したように、本発明の実施の形態の変形例では、電磁波吸収層と中空の減圧層とを有する多層断面構造からなる他の包囲剛体によって、第2の回路基板上の第2の電子部品をさらに包囲するようにし、その他を実施の形態と同様に構成した。このため、この追加した包囲剛体によって、第2の電子部品から第1の電子部品に対する熱放射および熱対流を遮断できるとともに、第1の電子部品から第2の電子部品に対する熱放射および熱対流を一層効率的に遮断できる。この結果、第1の電子部品および第2の電子部品間の相互熱干渉を一層抑制して、第1の電子部品および第2の電子部品の温度上昇を一層軽減でき、これによって、温度上昇による第1の電子部品および第2の電子部品の機能低下を効率的に防止することができる。   As described above, in the modification of the embodiment of the present invention, the second envelope on the second circuit board is provided by another surrounding rigid body having a multilayer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorption layer and a hollow decompression layer. The electronic component is further surrounded, and the others are configured in the same manner as in the embodiment. Therefore, the added surrounding rigid body can block heat radiation and heat convection from the second electronic component to the first electronic component, and can also prevent heat radiation and heat convection from the first electronic component to the second electronic component. It can be blocked more efficiently. As a result, the mutual thermal interference between the first electronic component and the second electronic component can be further suppressed, and the temperature increase of the first electronic component and the second electronic component can be further reduced, thereby causing the temperature increase. It is possible to efficiently prevent functional degradation of the first electronic component and the second electronic component.

本発明の実施の形態の変形例にかかる熱遮断構造を電子撮像装置内の半導体装置に適用することによって、この半導体装置内の固体撮像素子とDSPとの間における熱伝達を一層効率的に遮断することができる。このため、固体撮像素子およびDSP間の相互熱干渉を一層抑制して、固体撮像素子およびDSPの温度上昇を効率的に軽減することができ、この結果、温度上昇による固体撮像素子の機能低下およびDSPの機能低下を共に効率的に防止することができる。   By applying the heat blocking structure according to the modification of the embodiment of the present invention to the semiconductor device in the electronic imaging device, the heat transfer between the solid-state imaging device and the DSP in the semiconductor device is more efficiently blocked. can do. For this reason, the mutual thermal interference between the solid-state imaging device and the DSP can be further suppressed, and the temperature rise of the solid-state imaging device and the DSP can be efficiently reduced. It is possible to efficiently prevent both DSP functions from being degraded.

なお、上述した実施の形態および変形例では、電磁波吸収層によって減圧層を挟んだ3層断面構造からなる包囲剛体を例示したが、これに限らず、本発明における熱遮断構造の一つである包囲剛体の多層断面構造は、少なくとも電磁波吸収層および減圧層(好ましくは真空層)を有するものであればよく、4層以上の断面構造からなる包囲剛体であってもよい。この場合、例えば断熱部材によって形成される断熱層を追加してもよい。   In the above-described embodiment and modification, the surrounding rigid body having a three-layer cross-sectional structure in which the reduced pressure layer is sandwiched by the electromagnetic wave absorption layer is illustrated, but the invention is not limited to this and is one of the heat shielding structures in the present invention. The multi-layered cross-sectional structure of the surrounding rigid body is sufficient if it has at least an electromagnetic wave absorption layer and a reduced pressure layer (preferably a vacuum layer), and may be a surrounding rigid body having a cross-sectional structure of four or more layers. In this case, for example, a heat insulating layer formed by a heat insulating member may be added.

また、上述した実施の形態および変形例では、電磁波吸収部材からなる剛体によって包囲剛体を形成していたが、これに限らず、包囲剛体を形成する剛体は、電磁波吸収性の低い剛体(樹脂、金属等)または断熱部材の表面に、電磁波吸収粒子または電磁波吸収塗料等によって形成される電磁波吸収層を有するものであってもよい。   In the embodiment and the modification described above, the surrounding rigid body is formed by the rigid body made of the electromagnetic wave absorbing member. However, the rigid body forming the surrounding rigid body is not limited to this, and the rigid body having low electromagnetic wave absorption (resin, It may have an electromagnetic wave absorbing layer formed of electromagnetic wave absorbing particles or electromagnetic wave absorbing paint on the surface of a metal or the like or a heat insulating member.

さらに、上述した実施の形態および変形例では、1つの包囲剛体によって1つまたは2つの電子部品(半導体素子を含む)を包囲していたが、これに限らず、1つの包囲剛体によって3つ以上の電子部品を包囲してもよい。特に、1つの包囲剛体によって3つ以上の半導体素子を包囲してもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment and modification, one or two electronic components (including a semiconductor element) are surrounded by one surrounding rigid body. However, the present invention is not limited to this, and three or more are surrounded by one surrounding rigid body. The electronic component may be surrounded. In particular, three or more semiconductor elements may be surrounded by one surrounding rigid body.

また、上述した実施の形態および変形例では、熱遮断構造の一つである吸熱体31を接続基板30に配置していたが、これに限らず、熱遮断対象の電子部品間が接続基板30によって接続されていない場合、吸熱体31を設けなくてもよい。   In the embodiment and the modification described above, the heat absorber 31 that is one of the heat blocking structures is arranged on the connection board 30. However, the present invention is not limited to this, and the connection between the electronic components to be heat blocked is between the connection boards 30. If the heat absorber 31 is not connected, the heat absorber 31 may not be provided.

さらに、上述した実施の形態および変形例では、包囲剛体によって固体撮像素子またはDSPを包囲していたが、これに限らず、包囲剛体によって包囲される半導体素子は、固体撮像素子以外の半導体素子であってもよいし、DSP以外の半導体素子であってもよい。すなわち、本発明にかかる熱遮断構造を備えた半導体装置は、電子撮像装置に内蔵されるものに限定されない。   Furthermore, in the above-described embodiment and modification, the solid-state imaging element or the DSP is surrounded by the surrounding rigid body. However, the semiconductor element surrounded by the surrounding rigid body is not limited to this, but is a semiconductor element other than the solid-state imaging element. It may be a semiconductor element other than a DSP. That is, the semiconductor device provided with the heat blocking structure according to the present invention is not limited to the one built in the electronic imaging device.

また、上述した実施の形態および変形例では、包囲剛体の断面形状がコの字形状または多角形状であったが、これに限らず、包囲剛体の断面形状は、矩形状であってもよいし、円形状であってもよいし、楕円形状であってもよい。すなわち、包囲剛体によって包囲する電子部品に合わせて、所望の断面形状の包囲剛体を用いてもよい。   In the embodiment and the modification described above, the cross-sectional shape of the surrounding rigid body is a U-shape or a polygonal shape. However, the cross-sectional shape of the surrounding rigid body may be a rectangular shape. The shape may be circular or elliptical. That is, a surrounding rigid body having a desired cross-sectional shape may be used in accordance with the electronic component surrounded by the surrounding rigid body.

以上のように、本発明にかかる熱遮断構造は、電子部品間の熱遮断に有用であり、特に、電子部品間の熱伝達を遮断して、温度上昇による電子部品の機能低下を防止可能な熱遮断構造に適している。   As described above, the heat shut-off structure according to the present invention is useful for heat shut-off between electronic components, and in particular, it can block heat transfer between electronic components and prevent deterioration of the function of the electronic components due to temperature rise. Suitable for heat shield structure.

1,2 半導体装置
10 撮像部
11 固体撮像素子
11a 受光機能部
11b 突起電極
11c 接着剤
12 撮像基板
12a 開口部
13 カバーガラス
14 接着剤
15,25 包囲剛体
15a,25a 剛体
15b,25b 減圧層
20 制御部
21 DSP
21a 突起電極
21b 接着剤
22 電子部品
22a 接着剤
23 制御基板
30 接続基板
31 吸熱体
100,200 熱遮断構造
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Semiconductor device 10 Image pick-up part 11 Solid-state image pick-up element 11a Light receiving function part 11b Projection electrode 11c Adhesive agent 12 Imaging board 12a Opening part 13 Cover glass 14 Adhesive 15, 25 Surrounding rigid body 15a, 25a Rigid body 15b, 25b Decompression layer 20 Control Part 21 DSP
21a Protruding electrode 21b Adhesive 22 Electronic component 22a Adhesive 23 Control board 30 Connection board 31 Endothermic body 100, 200 Heat blocking structure

Claims (6)

電磁波を吸収する電磁波吸収層と外気に比して減圧された減圧層とを有する多層断面構造からなり、第1の回路基板上の第1の電子部品を包囲する包囲剛体を備え、
前記包囲剛体の外部に配置された第2の回路基板上の第2の電子部品と前記第1の電子部品との間における熱伝達を遮断することを特徴とする熱遮断構造。
It has a multilayer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorbing layer that absorbs electromagnetic waves and a reduced pressure layer that is depressurized compared to the outside air, and includes a surrounding rigid body that surrounds the first electronic component on the first circuit board,
A heat shut-off structure that cuts off heat transfer between a second electronic component on a second circuit board disposed outside the surrounding rigid body and the first electronic component.
前記第1の回路基板と前記第2の回路基板とを接続する接続基板に配置され、前記接続基板に伝導された熱を吸収する吸熱体をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の熱遮断構造。   The heat sink which is arrange | positioned at the connection board | substrate which connects the said 1st circuit board and the said 2nd circuit board, and absorbs the heat | fever conducted by the said connection board | substrate is further provided. Heat insulation structure. 前記電磁波吸収層は、前記包囲剛体の外層をなし、
前記減圧層は、前記外層によって密閉されて形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の熱遮断構造。
The electromagnetic wave absorbing layer is an outer layer of the surrounding rigid body,
The heat insulation structure according to claim 1 or 2, wherein the decompression layer is hermetically sealed by the outer layer.
前記包囲剛体は、前記電磁波吸収層をなすとともに前記減圧層を密閉する電磁波吸収部材によって形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の熱遮断構造。   The heat shielding structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the surrounding rigid body is formed by an electromagnetic wave absorbing member that forms the electromagnetic wave absorbing layer and seals the reduced pressure layer. 前記減圧層は、真空層であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の熱遮断構造。   The heat blocking structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the decompression layer is a vacuum layer. 電磁波を吸収する電磁波吸収層と外気に比して減圧された減圧層とを有する多層断面構造からなり、前記第2の電子部品を包囲する他の包囲剛体をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の熱遮断構造。   2. A multi-layer cross-sectional structure having an electromagnetic wave absorbing layer that absorbs electromagnetic waves and a reduced pressure layer that is depressurized compared to outside air, and further comprising another surrounding rigid body that surrounds the second electronic component. Item 6. The heat shielding structure according to any one of Items 1 to 5.
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