JP2011038427A - 真空排気装置 - Google Patents
真空排気装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011038427A JP2011038427A JP2009184556A JP2009184556A JP2011038427A JP 2011038427 A JP2011038427 A JP 2011038427A JP 2009184556 A JP2009184556 A JP 2009184556A JP 2009184556 A JP2009184556 A JP 2009184556A JP 2011038427 A JP2011038427 A JP 2011038427A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- pump
- oil diffusion
- exhaust
- diffusion pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】真空槽内で行われる被処理物の成膜処理の状況に応じて、適切に油拡散ポンプへ電力を供給することにより、排気性能に影響を与えることなく、真空排気装置の運転コストを大幅に低減する。
【解決手段】被処理物の成膜処理が行われる真空槽2を高真空状態とする油拡散ポンプ10と、該油拡散ポンプ10の背圧を低減すると共に、前記真空槽2を低真空状態とする低真空用ポンプ11と、前記真空槽2に於ける成膜処理の各工程に応じて前記油拡散ポンプ10への電力の供給量を制御する制御装置17とを備えている。
【選択図】図1
【解決手段】被処理物の成膜処理が行われる真空槽2を高真空状態とする油拡散ポンプ10と、該油拡散ポンプ10の背圧を低減すると共に、前記真空槽2を低真空状態とする低真空用ポンプ11と、前記真空槽2に於ける成膜処理の各工程に応じて前記油拡散ポンプ10への電力の供給量を制御する制御装置17とを備えている。
【選択図】図1
Description
本発明は、真空成膜処理が行われる真空槽を真空状態とするための真空排気装置に関する。
従来、この種の真空排気装置は、各種の真空処理がなされる真空槽を高真空状態とする油拡散ポンプと、該油拡散ポンプの背圧を低減すると共に、前記真空槽を予備的に低真空状態とするための低真空ポンプとを備えるのが一般的である。
特許文献1は、このような真空排気装置に於ける油拡散ポンプに着目し、その供給電力の削減を図るためになされたものである。即ち、この従来のものは、予め入力された制御信号に基づいて、油拡散ポンプのヒータに供給する電力を断続的に遮断するように構成されている。具体的には、予め基準となる最低油温を決定しておき、実際の油温がこれ以下とならないようなON/OFF比で、ヒータに電力を断続供給するように構成されている。これによると、所謂フィードバック制御方式に基づいて、油拡散ポンプ自身の供給電力についての最適化を図ることができる。
しかしながら、上記従来のものは、油拡散ポンプ自身の省電力化を図るに止まるものであり、真空システム全体でみると、必ずしも省電力化がなされているとは言い難いものであった。そこで、本発明者は、真空排気装置について省電力化を図るためには、真空成膜装置の存在を無視することができず、真空成膜装置の運転の特性に合わせて真空排気装置を制御すれば、更なる省力化が可能であることに思い至ったのである。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、真空槽内で行われる被処理物の成膜処理の状況に応じて、適正に油拡散ポンプへ電力を供給することにより、排気性能に影響を与えることなく、真空排気装置の運転コストを大幅に低減することにある。
本発明に係る真空排気装置は、被処理物の成膜処理が行われる真空槽を高真空状態とする油拡散ポンプと、該油拡散ポンプの背圧を低減すると共に、前記真空槽を低真空状態とする低真空用ポンプと、前記真空槽に於ける成膜処理の各工程に応じて前記油拡散ポンプへの電力の供給量を制御する制御装置とを備えたものである。
これによると、先ず低真空用ポンプにより真空槽内が低真空状態とされた後、油拡散ポンプにより高真空状態とされる。この状態で、真空槽に於いて被処理物の成膜処理が行われることになる。かかる一連の真空成膜処理では、その各工程に応じて油拡散ポンプへの電力の供給量が制御装置により適正に制御される。このため、油拡散ポンプの排気性能に影響を与えることなく、真空排気装置の運転コストを低減することができる。
また、前記油拡散ポンプの背圧を処理する補助ポンプを更に備えさせるようにしてもよい。
これによると、油拡散ポンプの背圧の低減処理は、低真空用ポンプ又は補助ポンプにより行われる。この場合も同様に、真空排気装置の運転コストを低減することができる。また、一般に補助ポンプの消費電力は低真空用ポンプのそれと比較して少ないために、この点に於いても運転コストの低減化が図れることになる。
更に、前記成膜処理の各工程は、前記真空槽が大気圧状態にある排気前工程と、前記真空槽が低真空状態とされる低真空用ポンプによる排気工程と、前記真空槽が高真空状態とされる油拡散ポンプによる排気工程と、高真空状態にある前記真空槽内で被処理物に成膜処理が施される成膜処理工程と、前記真空槽を大気圧状態に戻す復帰工程とからなるように構成することもできる。
これによると、成膜処理の全工程が各状況に応じて適切に分割されることになる。従って、このように分割された各工程の状況に応じて、油拡散ポンプへの電力の供給量を適切に制御することができる。因みに、油拡散ポンプによる消費電力は、油拡散ポンプによる排気工程に於いて最大となり、その他の工程では低下する。これに基づいて、制御装置により的確に制御された電力が油拡散ポンプに供給される。
また、前記制御装置による油拡散ポンプに対する供給電力は、前記油拡散ポンプによる排気工程から成膜処理工程に移行する際に低減されるように設定してもよい。
油拡散ポンプの排気工程が完了すると、真空槽が高真空状態となるために、油拡散ポンプへの高い電力の供給は不要となる。このため、成膜処理工程への移行時に、油拡散ポンプへの供給電力を低減させることにより、運転コストの軽減が図れる。
更に、前記制御装置による油拡散ポンプに対する供給電力は、前記排気前工程及び復帰工程に於ける電力が、成膜処理工程の電力よりも低く設定されると共に、低真空用ポンプによる排気工程及び油拡散ポンプによる排気工程に於ける電力が、前記成膜処理工程の電力よりも高く設定されるようにしてもよい。
これによると、油拡散ポンプが各工程に於いて必要とする電力が適切に供給されることになる。このように、供給電力の適宜調整することにより、排気性能に影響を与えることなく、真空排気装置の運転コストを低減することができる。尚、低真空用ポンプによる排気工程に於ける供給電力を、油拡散ポンプによる排気工程と同様に高く設定しているのは、以下の理由による。即ち、油拡散ポンプに高い電力を供給することにより、その作動油の温度を高温として、油拡散ポンプの臨界背圧を一定以上に維持するためである。これにより、低真空用ポンプによる排気工程に於いては、油拡散ポンプの背圧処理は不要となり、そのために別途ポンプを用意する必要もない。
また、前記補助ポンプを備えさせた場合に於ける油拡散ポンプに対する供給電力は、前記排気前工程及び復帰工程に於ける電力が低真空用ポンプによる排気工程及び成膜処理工程の電力よりも低く設定されると共に、油拡散ポンプによる排気工程に於ける電力が前記低真空用ポンプによる排気工程及び成膜処理工程の電力よりも高く設定されるようにしてもよい。
この場合は、補助ポンプにより油拡散ポンプの背圧処理が行われるために、低真空用ポンプによる排気工程に於ける油拡散ポンプへの供給電力を油拡散ポンプによる排気工程に於けるそれよりも低く設定している。この場合に於いても、各工程に応じて油拡散ポンプに適切に電力が供給されるために、上記補助ポンプを有しない場合と同様の作用効果を得ることができる。
更に、前記補助ポンプを備えさせた場合、低真空用ポンプは、前記制御装置により前記排気前工程及び復帰工程に於いてOFF状態となるように設定される共に、低真空用ポンプによる排気工程、油拡散ポンプによる排気工程及び成膜処理工程に於いてON状態となるように設定され、前記補助ポンプは、前記排気前工程、復帰工程及び低真空用ポンプによる排気工程に於いてON状態となるように設定される共に、前記油拡散ポンプによる排気工程及び成膜処理工程に於いてOFF状態となるように設定させてもよい。
これによると、排気前工程、低真空用ポンプによる排気工程及び復帰工程に於ける油拡散ポンプの背圧は、補助ポンプにより処理される。一方、油拡散ポンプによる排気工程及び成膜処理工程に於ける油拡散ポンプの背圧は、低真空用ポンプにより処理される。
このように低真空用ポンプ及び補助ポンプについても、真空成膜装置の各処理工程に応じて適切に運転することにより、消費電力の低減化を図ることができる。その結果、真空排気装置の運転コストを低減することが可能になる。
また、本実施形態に係る真空排気装置は、非常に簡易に構成できるために、その製作も容易に且つ安価に行うことが可能になる。
以上のように、本発明によれば、油拡散ポンプの排気性能に影響を与えることなく、真空排気装置の運転コストを大幅に低減することができる。
<第1実施形態>
以下、本発明の一実施形態について図面に従って説明する。図1(a)に示すように、真空成膜装置1は略円筒状の真空槽2を有しており、その内部に於いて被処理物に真空成膜処理が施される。真空槽2には真空排気装置3が配管接続されており、これにより真空槽2内の空気が外部に排気されて、真空状態が形成される。
以下、本発明の一実施形態について図面に従って説明する。図1(a)に示すように、真空成膜装置1は略円筒状の真空槽2を有しており、その内部に於いて被処理物に真空成膜処理が施される。真空槽2には真空排気装置3が配管接続されており、これにより真空槽2内の空気が外部に排気されて、真空状態が形成される。
真空排気装置3は、3種類のポンプ10〜12と、4種類のバルブ13〜16と、これらの各動作を制御する制御装置17とを備えている。油拡散ポンプ10は、前記真空槽2を真空状態とするために、メインバルブ13を備えた主配管20を介して真空槽2の吸気口(図示せず)に配管接続されている。この油拡散ポンプ10は、従来より存在する一般的なものであり、ポンプ本体30に油加熱用のヒータ31と、油温測定用の温度センサ32と、作動油33を下方に噴射するノズル34とが内装されている。前記ヒータ31により加熱された作動油33は、蒸気となってノズル34から下方に噴射され、その際に発生する吸引力により、前記吸気口を介して真空槽2内の空気が排気される。前記ヒータ31による作動油33の温度を加熱調整することにより、真空槽2に於いて所望の真空度を得ることができる。
低真空用ポンプ11は、一般的な油回転ポンプ等からなるものであり、ラフバルブ14を備えた粗引き用配管40及び主配管20を介して前記真空槽2の吸気口に配管接続されている。また、低真空用ポンプ11は、粗引き用配管40、フォアラインバルブ15を備えた背圧用配管41を介して前記油拡散ポンプ10の排気口(図示せず)に配管接続されている。補助ポンプ12は、補助バルブ16を備えた補助配管42、及び背圧用配管41を介して油拡散ポンプ10の排気口(図示せず)に配管接続されている。背圧用配管41は油拡散ポンプ10の背圧を低減するための配管であり、その際には低真空用ポンプ11又は補助ポンプ12が使用される。尚、通常、低真空用ポンプ11の排気容量は、補助ポンプ12のそれよりも大きく設定されるが、本発明はこれに限定されず、各ポンプ11、12の排気容量やその大小は任意に変更が可能である。
制御装置17は、真空成膜装置1、真空排気装置3のポンプ10〜12及びバルブ13〜16の動作を制御するために、これら各構成部材に配線接続されている。具体的には、これら真空排気装置3の構成部材は、制御装置17により真空成膜装置1の各処理工程に応じて制御されるように構成されている。制御装置17は、所謂フィードフォワードと称される制御方式を採用しており、作動油33の温度が前記各処理工程について予め設定されて値となるように制御される。
真空成膜装置1による処理工程は、図1(b)に示すように、真空槽2内が大気圧状態にある「排気前工程」と、低真空用ポンプ11により真空槽2内を低真空状態とする「低真空用ポンプによる排気工程」と、油拡散ポンプ10により真空槽2内を高真空状態とする「油拡散ポンプによる排気工程」と、被処理物に成膜処理が行われる「成膜処理工程」と、真空槽2内を元の大気圧状態に復帰させる「復帰工程」とからなっており、これらの各工程が所謂バッチ方式により、繰返して行われるように設定されている。尚、各工程に於ける前記作動油33の具体的な温度は、例えば事前の真空排気装置3の試験運用等に於いて得られたデータに基づいて設定される。以下の説明に於ける作動油33の温度は、その一例を示すものである。
同図に示すように、「排気前工程」に於いて、油拡散ポンプ10の作動油33は予め低い電力が供給されたヒータ31により加熱されており、所定の温度(例えば、約235°C)に保温されている。これは、油拡散ポンプ10の臨界背圧を一定レベル以上に維持すると共に、作動油33が更に加熱される次の「油拡散ポンプによる排気工程」への移行を効率良く行うためである。また、前記臨界背圧を一定レベル以上に維持するには、油拡散ポンプ10の排気口側に発生する背圧を低減させておく必要がある。このため、メインバルブ13を閉塞する一方で、補助バルブ16を開放させており、ON状態にある補助ポンプ12の吸気により油拡散ポンプ10の背圧は低減される。
次工程である「低真空用ポンプによる排気工程」では、基本的には前記「排気前工程」に於ける状態がそのまま維持されるが、ヒータ31には「排気前工程」よりも高い電力が供給されて、作動油33の温度は上昇する(例えば、約240°C)。この工程で、ラフバルブ14が開放されると共に、低真空用ポンプ11がON状態とされて、真空槽2が所定の低真空状態となるまで排気される。尚、補助ポンプのON状態は維持されており、油拡散ポンプ10の背圧処理を継続して行っている。
また、「油拡散ポンプによる排気工程」への移行前には、作動油33の温度が高温(例えば、約245°C)となるように、更に高い電力が供給されたヒータ31により加熱されて保温される。この状態になった時点で「油拡散ポンプによる排気工程」が開始される。即ち、メインバルブ13が開放されて、油拡散ポンプ10により真空槽2内が所定の高真空状態となるまで排気される。また、これと同時にラフバルブ14は閉塞されて、低真空用ポンプ11による真空槽2の排気が停止される一方で、フォアラインバルブ15が開放されて、低真空用ポンプ11は油拡散ポンプ10の排気口と連通し、その背圧処理に使用される。これに伴い、補助バルブ16が閉塞されると共に、補助ポンプ12がOFF状態とされて停止する。このように、「油拡散ポンプによる排気工程」に於ける背圧の処理を、補助ポンプ12よりも排気容量のある低真空用ポンプ11に切替えることにより、適切に背圧処理を行うことができる。その結果、油拡散ポンプ10の臨界背圧の低下を良好に阻止することが可能となる。
そして、真空槽2に於いて所定の高真空度が得られれば、メインバルブ13が閉塞される。これにより、油拡散ポンプ10による排気が完了するために、高い電力を供給する必要はなくなり、油拡散ポンプ10への供給電力は低減される。但し、上述したように、この場合も油拡散ポンプ10の臨界背圧を一定レベル以上に維持しておくために、その作動油33の温度は前記「低真空用ポンプによる排気工程」に於ける温度よりも高く設定されている。この状態で、真空成膜装置1による「成膜処理工程」へと移行し、真空槽2内で被処理物に対して成膜処理が行われることになる。尚、真空槽2内の真空度を圧力センサ等(図示せず)により常時測定しておき、真空度が一定以上低下した場合は、制御装置17により適宜油拡散ポンプ10等を前記「油拡散ポンプによる排気工程」に準じて動作させることも可能である。このように、制御装置17については、所謂フィードバック式の制御方式も行えるようにしても構わない。
「成膜処理工程」が終了すると、次の「復帰工程」へと移行する。本工程では、真空槽2が大気開放状態にされて、成膜処理が施された製品が搬出される。また、油拡散ポンプ10の作動油33の温度を前記「排気前工程」の状態に戻すため、油拡散ポンプ10への供給電力が低減される。更に、低真空用ポンプ11がOFF状態にされる一方で、補助ポンプ12がON状態とされて、油拡散ポンプ10の背圧処理が再度開始される。同様の操作が繰返し行われて、一連の真空成膜処理が完了することになる。
このように、本実施形態では、真空成膜装置1を含む真空システム全体を考慮しつつ、図1(b)に示すように、真空成膜装置1の処理工程を複数に分割すると共に、この各処理工程に対応させて油拡散ポンプ10が適正に運転されるようにしている。これにより、真空成膜装置1の各処理工程に於いて、油拡散ポンプ10が必要とする電力を適正に供給されるために、その排気性能を低下せしめることなく、消費電力を削減することができる。また、低真空用ポンプ11及び補助ポンプ12についても、真空成膜装置1の各処理工程に応じて適切に運転することにより、消費電力の低減化を図ることができる。その結果、真空排気装置3の運転コストを低減することが可能になる。
また、本実施形態に係る真空排気装置3は、非常に簡易に構成できるために、その製作も容易に且つ安価に行うことが可能になる。
<第2実施形態>
尚、上記実施形態に於ける真空排気装置3は補助ポンプ12を備えているが、例えば図2(a)に示すように、補助ポンプ12は省略してもよい。これによれば、補助バルブ16や補助配管42も不要となるために、全体的な構成を簡略化することができる結果、コストの削減が図れることになる。
尚、上記実施形態に於ける真空排気装置3は補助ポンプ12を備えているが、例えば図2(a)に示すように、補助ポンプ12は省略してもよい。これによれば、補助バルブ16や補助配管42も不要となるために、全体的な構成を簡略化することができる結果、コストの削減が図れることになる。
この場合も、基本的な構成は上記第1実施形態と同様である。但し、同図(b)に示すように「低真空用ポンプによる排気工程」に於いて、油拡散ポンプ10の作動油33の温度が高く設定されている点で相違している。このように作動油33の温度を高く設定すると、油拡散ポンプ10の臨界背圧が一定以上に維持されることになる。このため、本工程では油拡散ポンプ10の背圧を処理する必要がなくなり、補助ポンプ12の省略による不都合を適切に回避することができる。また、低真空用ポンプ11を全工程に於いて作動させておく点も、第1実施形態とは相違している。これは、低真空用ポンプ11を補助ポンプ12の代用としたためである。本実施形態に於いても、上記第1実施形態と同様の作用効果を得ることができるために、真空排気装置3の運転コストを大幅に低減することが可能である。
<その他の実施形態>
尚、上記実施形態に於いては、成膜処理の各工程を、真空槽2が大気圧状態にある排気前工程と、前記真空槽2が低真空状態とされる低真空用ポンプ11による排気工程と、真空槽2が高真空状態とされる油拡散ポンプ10による排気工程と、高真空状態にある真空槽2内で被処理物に成膜処理が施される成膜処理工程と、真空槽2を大気圧状態に戻す復帰工程とに分割しているが、本発明は決してこれに限定されるものではない。成膜処理の各工程は、それ以上に分割してもよく、それ以下に分割して構成しても構わない。
尚、上記実施形態に於いては、成膜処理の各工程を、真空槽2が大気圧状態にある排気前工程と、前記真空槽2が低真空状態とされる低真空用ポンプ11による排気工程と、真空槽2が高真空状態とされる油拡散ポンプ10による排気工程と、高真空状態にある真空槽2内で被処理物に成膜処理が施される成膜処理工程と、真空槽2を大気圧状態に戻す復帰工程とに分割しているが、本発明は決してこれに限定されるものではない。成膜処理の各工程は、それ以上に分割してもよく、それ以下に分割して構成しても構わない。
また、低真空用ポンプ11としては、上記実施形態の油回転ポンプの他に、例えばドライポンプやメカニカルブースターポンプ等を使用することも可能である。
更に、本発明に係る真空排気装置3は、上記各実施形態とは異なり、1基の真空成膜装置1に対して複数の真空排気装置3を設けて構成してもよい。また、複数の真空成膜装置1に対して1又は複数の真空排気装置3を設けて構成することも可能である。
その他、油拡散ポンプ10や補助ポンプ12等の具体的な構成も、本発明の意図する範囲内に於いて任意に設計変更自在である。
2 真空槽
10 油拡散ポンプ
11 低真空用ポンプ
12 補助ポンプ
17 制御装置
10 油拡散ポンプ
11 低真空用ポンプ
12 補助ポンプ
17 制御装置
Claims (8)
- 被処理物の成膜処理が行われる真空槽を高真空状態とする油拡散ポンプと、
該油拡散ポンプの背圧を低減すると共に、前記真空槽を低真空状態とする低真空用ポンプと、
前記真空槽に於ける成膜処理の各工程に応じて前記油拡散ポンプへの電力の供給量を制御する制御装置と、を備えてなることを特徴とする真空排気装置。 - 請求項1記載の真空排気装置に於いて、前記油拡散ポンプの背圧を低減する補助ポンプを更に備えた真空排気装置。
- 前記成膜処理の各工程が、前記真空槽が大気圧状態にある排気前工程と、前記真空槽が低真空状態とされる低真空用ポンプによる排気工程と、前記真空槽が高真空状態とされる油拡散ポンプによる排気工程と、高真空状態にある前記真空槽内で被処理物に成膜処理が施される成膜処理工程と、前記真空槽を大気圧状態に戻す復帰工程と、からなる請求項1記載の真空排気装置。
- 前記成膜処理の各工程が、前記真空槽が大気圧状態にある排気前工程と、前記真空槽が低真空状態とされる低真空用ポンプによる排気工程と、前記真空槽が高真空状態とされる油拡散ポンプによる排気工程と、高真空状態にある前記真空槽内で被処理物に成膜処理が施される成膜処理工程と、前記真空槽を大気圧状態に戻す復帰工程と、からなる請求項2記載の真空排気装置。
- 前記制御装置による油拡散ポンプに対する供給電力は、前記油拡散ポンプによる排気工程から成膜処理工程に移行する際に低減されるように設定されている請求項3又は4記載の真空排気装置。
- 前記制御装置による油拡散ポンプに対する供給電力は、前記排気前工程及び復帰工程に於ける電力が、成膜処理工程の電力よりも低く設定されると共に、低真空用ポンプによる排気工程及び油拡散ポンプによる排気工程に於ける電力が、前記成膜処理工程の電力よりも高く設定されている請求項3記載の真空排気装置。
- 前記制御装置による油拡散ポンプに対する供給電力は、前記排気前工程及び復帰工程に於ける電力が、低真空用ポンプによる排気工程及び成膜処理工程の電力よりも低く設定されると共に、油拡散ポンプによる排気工程に於ける電力が、前記低真空用ポンプによる排気工程及び成膜処理工程の電力よりも高く設定されている請求項4記載の真空排気装置。
- 前記低真空用ポンプは、前記制御装置により前記排気前工程及び復帰工程に於いてOFF状態となるように設定される共に、低真空用ポンプによる排気工程、油拡散ポンプによる排気工程及び成膜処理工程に於いてON状態となるように設定され、前記補助ポンプは、前記排気前工程、復帰工程及び低真空用ポンプによる排気工程に於いてON状態となるように設定される共に、前記油拡散ポンプによる排気工程及び成膜処理工程に於いてOFF状態となるように設定されている請求項7記載の真空排気装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009184556A JP2011038427A (ja) | 2009-08-07 | 2009-08-07 | 真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009184556A JP2011038427A (ja) | 2009-08-07 | 2009-08-07 | 真空排気装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011038427A true JP2011038427A (ja) | 2011-02-24 |
Family
ID=43766445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009184556A Pending JP2011038427A (ja) | 2009-08-07 | 2009-08-07 | 真空排気装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011038427A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5687749B1 (ja) * | 2013-10-25 | 2015-03-18 | 芝浦エレテック株式会社 | 油拡散ポンプの制御装置、真空処理装置及び油拡散ポンプの制御方法 |
-
2009
- 2009-08-07 JP JP2009184556A patent/JP2011038427A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5687749B1 (ja) * | 2013-10-25 | 2015-03-18 | 芝浦エレテック株式会社 | 油拡散ポンプの制御装置、真空処理装置及び油拡散ポンプの制御方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6208219B2 (ja) | 真空ポンプ装置のウォーミングアップ方法およびウォーミングアップ装置 | |
US10399237B2 (en) | Controlling a vacuum system comprising a vacuum generator | |
TW200746294A (en) | Processing apparatus and processing method | |
EP2956670B1 (en) | Pumping system | |
JP2006291952A (ja) | エネルギー消費を制限しながら、エンクロージャを迅速に排気すること | |
CN107529504B (zh) | 控制包括真空发生器装置的真空系统 | |
TW201139851A (en) | Vacuum exhaust device and vacuum exhaust method, and substrate treatment device | |
US20090084405A1 (en) | Substrate treating apparatus and substrate treating method | |
JP2006322405A (ja) | 真空排気システム | |
RU2562899C2 (ru) | Система создания вакуума | |
ATE408756T1 (de) | Pumpvorrichtung zum schnellen evakuiieren eines behälters mit niedrigem energieverbrauch | |
JP2011038427A (ja) | 真空排気装置 | |
JP5877532B2 (ja) | プロセシングシステムの自己同調装置および自己同調方法 | |
JP2012513111A (ja) | チャージ−ディスチャージロック内の圧力を下げるための方法および関連装置 | |
JP2018010986A (ja) | ゲートバルブ、真空処理装置及び真空処理装置の制御方法 | |
JP2010167338A (ja) | 真空処理装置及び真空処理方法 | |
KR20090092460A (ko) | 가마를 이용한 용기 고진공 처리장치 및 처리방법 | |
JP5956754B2 (ja) | 真空排気システム | |
JPWO2011007652A1 (ja) | 減圧システム及び真空処理装置 | |
JP2006075850A (ja) | 真空装置及び真空引き方法 | |
JP2006348818A (ja) | 燃料供給制御装置 | |
KR100841343B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
CN210897311U (zh) | 一种层压机用抽真空装置及光伏组件用层压机 | |
JP5687749B1 (ja) | 油拡散ポンプの制御装置、真空処理装置及び油拡散ポンプの制御方法 | |
JP2013135072A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |