JP2011037587A - Substrate carrying position control device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、特に帯状の可撓性基板の位置ズレ(蛇行)を修正する基板搬送位置制御装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer position control device that corrects a positional deviation (meandering) of a strip-shaped flexible substrate.
半導体薄膜などの薄膜積層体基板には、通常、高剛性の基板が用いられている。一方、例えば太陽電池等に使用されるような光電変換素子の基板には、軽量で取り扱いが容易であるといった利便性や、大量生産によるコスト低減や、大面積が容易であるなどの理由から、樹脂などで形成された可撓性基板も用いられている。 As a thin film laminated substrate such as a semiconductor thin film, a highly rigid substrate is usually used. On the other hand, the substrate of a photoelectric conversion element used for, for example, a solar cell is convenient because it is lightweight and easy to handle, cost reduction by mass production, and large area are easy. A flexible substrate formed of resin or the like is also used.
このような可撓性基板を用いて薄膜積層体を製造する装置としては、主に、ロールツーロール方式のものと、ステッピングロール方式のものとがある。前者のロールツーロール方式は、成膜室を連続的に移動していく可撓性基板上に連続的に成膜する方式であり、後者のステッピングロール方式は、成膜室内に搬送される可撓性基板を一旦停止させ、この状態で成膜した後、成膜の終わった可撓性基板部分をその成膜室から次の成膜室へ送り出す方式である。
どちらの方式の成膜装置も、成膜室内の可撓性基板に対向して配置される2つの平行平板型の電極間に電圧を印加するとともに原料ガスを流すことによってプラズマを生成し、このプラズマを利用して原料ガスを分解、反応させることにより一対の電極の片側、もしくは両側に設置した可撓性基板の表面に薄膜を形成している。
As a device for manufacturing a thin film laminate using such a flexible substrate, there are mainly a roll-to-roll system and a stepping roll system. The former roll-to-roll method is a method of continuously forming a film on a flexible substrate that moves continuously in the film formation chamber, and the latter stepping roll method is capable of being transported into the film formation chamber. In this method, the flexible substrate is temporarily stopped, the film is formed in this state, and then the flexible substrate portion after film formation is sent from the film formation chamber to the next film formation chamber.
Both types of film forming apparatuses generate plasma by applying a voltage between two parallel plate-type electrodes arranged facing a flexible substrate in a film forming chamber and flowing a raw material gas. A thin film is formed on the surface of a flexible substrate placed on one side or both sides of a pair of electrodes by decomposing and reacting the source gas using plasma.
ステッピングロール方式の成膜装置は、可撓性基板を固定して成膜し、しかる後に可撓性基板の非成膜部を電極間に移動させてバッチ処理を行うものである。図5に示す成膜装置100では、送り室111に収納された2つの巻き出しロール102から可撓性基板101がそれぞれ引き出され、予備真空室112を経て成膜用真空室113に入る。この成膜用真空室113内では、1つの電圧印加電極121の外側に2つの接地電極122がそれぞれ対向配置されており、両電極の間に搬送された基板101は成膜室105で一旦停止されて成膜が行われる。成膜終了後、アクチュエータ124が作動し、各基板101は、巻き取り室114に収納された2つの巻き取りロール103に巻き取られる。
A stepping roll type film forming apparatus forms a film by fixing a flexible substrate, and then performs a batch process by moving a non-film forming portion of the flexible substrate between electrodes. In the
一方、図6に示すロールツーロール方式の成膜装置200は、更なる生産効率の向上、生産コスト及び販売価格低減の要請により提供されたものであり、容器201の成膜室202には、外部の高周波電源から高周波電力が供給される高周波電極(RF電極)203と、該高周波電極203と対向する位置に接地電極204が配置されている。この接地電極203内には、搬送ロール205によって搬送されてくる可撓性基板206を加熱するヒータが内蔵されている。また、容器201の両側側壁には、可撓性基板206を通過させるための開口部201aが設けられている。
この成膜装置200を用いて可撓性基板206に薄膜を形成するには、先ず、図示しない搬送機構及び搬送ロール205により可撓性基板206を容器201内に連続的に搬送し、接地電極204に密着させるとともに、接地電極204内のヒータによって可撓性基板206を所望の温度に加熱する。次いで、高周波電極203と可撓性基板206との間の放電空間に、図示しないガス導入ラインから薄膜原料となる原料ガスを導入し、高周波電源により高周波電極203に電圧を印加し、当該放電空間にプラズマ207を発生させる。すると、原料ガスがプラズマ化して分解、反応するため、可撓性基板206上に所望の薄膜が形成されることになる。
On the other hand, the roll-to-roll
In order to form a thin film on the
ところで、このような成膜装置においては、可撓性基板の幅方向を水平方向に保持した状態で、当該可撓性基板を水平方向に搬送して成膜する方法と、可撓性基板の幅方向を鉛直方向に保持した状態で、当該可撓性基板を鉛直方向に搬送して成膜する方法がある。どちらの方法においても、所定の搬送路から変位する可撓性基板の幅方向へのズレ、いわゆる蛇行の現象を生じやすい。さらに後者の方法では、前者の方法に比べて基板表面が汚染されにくいなどの利点を有しているが、成膜室の増加などによる搬送距離の増加は、重力や可撓性基板の伸びにより表面に皺が発生したり、下方へ垂れ下がったりするという問題を有している。
これらの問題を解決するためには、可撓性基板の搬送路にズレが生じたときにこれを直ちに検出して、ズレに対応した措置を取る必要がある。このような措置として、特許文献1、2に開示された基板側縁位置制御装置(EPC装置)がある。
By the way, in such a film forming apparatus, the flexible substrate is transported in the horizontal direction while the width direction of the flexible substrate is held in the horizontal direction, and the flexible substrate is formed. There is a method of forming a film by transporting the flexible substrate in the vertical direction while keeping the width direction in the vertical direction. In either method, a displacement in the width direction of the flexible substrate that is displaced from a predetermined transport path, that is, a so-called meandering phenomenon is likely to occur. Furthermore, the latter method has the advantage that the substrate surface is less likely to be contaminated than the former method. However, the increase in the transport distance due to the increase in the number of film formation chambers is due to the growth of gravity and the flexible substrate. There is a problem that wrinkles are generated on the surface or the surface hangs down.
In order to solve these problems, it is necessary to detect immediately when a deviation occurs in the conveyance path of the flexible substrate and to take measures corresponding to the deviation. As such measures, there is a substrate side edge position control device (EPC device) disclosed in
このEPC装置は、一般に、基板側縁位置制御センサ(EPCセンサ)と、基板巻き出し装置もしくは巻き取り装置または蛇行修正ロールと、前記基板巻き出し装置を移動させる駆動装置(EPC駆動装置)とから構成されている。
しかしながら、EPC駆動装置や蛇行修正ロールは、EPCセンサからの距離が離れると、蛇行の修正結果がEPCセンサへ反映されるのに時間が掛かり、迅速な蛇行の修正ができず、応答性に問題を有している。また、EPC駆動装置や蛇行修正ロールは、広い設置スペースが必要となるため、設備コスト高などを招くおそれがある。
This EPC device generally includes a substrate side edge position control sensor (EPC sensor), a substrate unwinding device or a winding device or a meandering correction roll, and a driving device (EPC driving device) for moving the substrate unwinding device. It is configured.
However, when the distance from the EPC sensor is increased, it takes time for the EPC drive device and the meander correction roll to reflect the meander correction result to the EPC sensor. have. Moreover, since an EPC drive device and a meandering correction roll require a wide installation space, there is a possibility that the equipment cost may increase.
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、その目的は、可撓性基板の搬送位置制御のために新たな設備を設置することが不要であり、既存の搬送ラインの構成をそのまま維持できるとともに、可撓性基板の搬送位置を所望の方向へ迅速かつ確実に移動させることが可能な基板搬送位置制御装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such a situation, and the object thereof is that it is not necessary to install new equipment for controlling the transfer position of the flexible substrate, and the configuration of the existing transfer line. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer position control device that can maintain the same as it is and can move the transfer position of a flexible substrate in a desired direction quickly and reliably.
上記従来技術の有する課題を解決するために、本発明は、可撓性基板に張力を付与し、前記可撓性基板を長手方向に沿って搬送するロールを備え、前記ロールは、曲率半径を軸方向で部分的に変化させることによって、前記可撓性基板が接触した際に生ずる張力に前記可撓性基板の幅方向で分布を与え、前記可撓性基板の搬送位置を変化させるように構成されている。 In order to solve the above-described problems of the prior art, the present invention includes a roll that applies tension to a flexible substrate and conveys the flexible substrate along a longitudinal direction, and the roll has a radius of curvature. By partially changing in the axial direction, the tension generated when the flexible substrate comes into contact is distributed in the width direction of the flexible substrate, and the transport position of the flexible substrate is changed. It is configured.
また、本発明において、前記ロールの内部は、軸方向に沿って少なくとも2分割以上に区切られており、各分割構造部は、供給及び排出される流体圧により膨張及び収縮して曲率半径が可変に構成されていることが好ましい。 Further, in the present invention, the inside of the roll is divided into at least two divisions along the axial direction, and each division structure portion is expanded and contracted by the fluid pressure supplied and discharged to change the radius of curvature. It is preferable that it is comprised.
さらに、本発明において、前記各分割構造部は、流体の供給及び排出にて径が変化することにより前記ロールの内部を加圧及び減圧するための供給管部と、前記供給管部の外側に位置し、前記供給管部の径の変化に追従して径方向へ移動する支持部と、前記支持部の外側に位置し、前記支持部の移動に伴って拡大及び縮小する内外筒状部とを備えていることが好ましい。 Further, in the present invention, each of the divided structure portions includes a supply pipe portion for pressurizing and depressurizing the inside of the roll by changing a diameter by supplying and discharging a fluid, and an outer side of the supply pipe portion. A support part that is positioned and moves in a radial direction following a change in the diameter of the supply pipe part, and an inner and outer cylindrical part that is located outside the support part and that expands and contracts as the support part moves. It is preferable to provide.
そして、本発明において、前記ロールの外周部は、弾性体により形成されており、前記ロールの外周部表面の動摩擦係数が、0.1〜0.6の範囲内であることが好ましい。 And in this invention, it is preferable that the outer peripheral part of the said roll is formed with the elastic body, and the dynamic friction coefficient of the outer peripheral part surface of the said roll exists in the range of 0.1-0.6.
上述の如く、本発明に係る基板搬送位置制御装置は、可撓性基板に張力を付与し、前記可撓性基板を長手方向に沿って搬送するロールを備え、前記ロールは、曲率半径を軸方向で部分的に変化させることによって、前記可撓性基板が接触した際に生ずる張力に前記可撓性基板の幅方向で分布を与え、前記可撓性基板の搬送位置を変化させるように構成されているので、可撓性基板を搬送するロールが当該可撓性基板と接触する部分において、ロール軸方向の全長のうち、ある一定の長さの部分のみ曲率半径を変化させることができる。 As described above, the substrate transport position control device according to the present invention includes a roll that applies tension to the flexible substrate and transports the flexible substrate along the longitudinal direction, and the roll has a radius of curvature. A configuration is provided in which the tension generated when the flexible substrate comes into contact is distributed in the width direction of the flexible substrate by changing partly in the direction, and the transport position of the flexible substrate is changed. Therefore, the radius of curvature can be changed only in a certain length of the entire length in the roll axis direction at the portion where the roll carrying the flexible substrate contacts the flexible substrate.
これにより、可撓性基板に作用する張力に可撓性基板の幅方向で分布が生じ、当該張力を均一にする方向へ可撓性基板が移動する現象を適用することが可能となり、可撓性基板の搬送位置を所望の方向へ迅速かつ確実に移動させ、可撓性基板の蛇行を修正することができる。
また、本発明の基板搬送位置制御装置は、可撓性基板の搬送位置制御のために新たな設備を設置する必要がなく、既存の搬送ラインの構成をそのまま維持でき、低コストで安定した特性を有する薄膜を成膜することができる。
しかも、本発明の基板搬送位置制御装置は、可撓性基板の搬送方向が逆転した場合でも何ら問題なく対応することが可能であり、優れた機能性を有している。
As a result, it is possible to apply a phenomenon in which the tension acting on the flexible substrate is distributed in the width direction of the flexible substrate and the flexible substrate moves in a direction to make the tension uniform. The conveyance position of the flexible substrate can be moved quickly and reliably in a desired direction, and the meandering of the flexible substrate can be corrected.
In addition, the substrate transfer position control device of the present invention does not require installation of new equipment for transfer position control of the flexible substrate, can maintain the configuration of the existing transfer line as it is, and has stable characteristics at low cost. It is possible to form a thin film having
Moreover, the substrate transfer position control device of the present invention can cope with any problems even when the transfer direction of the flexible substrate is reversed, and has excellent functionality.
また、本発明は、前記基板搬送位置制御装置において、前記ロールの内部は、軸方向に沿って少なくとも2分割以上に区切られており、各分割構造部は、供給及び排出される流体圧により膨張及び収縮して曲率半径が可変に構成され、さらに具体的には、前記各分割構造部は、流体の供給及び排出にて径が変化することにより前記ロールの内部を加圧及び減圧するための供給管部と、前記供給管部の外側に位置し、前記供給管部の径の変化に追従して径方向へ移動する支持部と、前記支持部の外側に位置し、前記支持部の移動に伴って拡大及び縮小する内外筒状部とを備えているので、可撓性基板の位置ズレに応じてロールの必要部分の曲率半径を迅速に拡大及び縮小することができる。 In the substrate transport position control device according to the present invention, the inside of the roll is divided into at least two or more divisions along the axial direction, and each divided structure portion is expanded by fluid pressure supplied and discharged. Further, the radius of curvature is configured to be variable by contraction, and more specifically, each of the divided structures is configured to pressurize and depressurize the inside of the roll by changing the diameter by supplying and discharging fluid. A supply pipe part, a support part located outside the supply pipe part and moving in a radial direction following a change in the diameter of the supply pipe part, and a support part located outside the support part and moving the support part Therefore, the radius of curvature of the necessary portion of the roll can be quickly expanded and reduced according to the positional deviation of the flexible substrate.
さらに、本発明は、前記基板搬送位置制御装置において、前記ロールの外周部は、弾性体により形成されており、前記ロールの外周部表面の動摩擦係数が、0.1〜0.6の範囲内であるので、可撓性基板の搬送に支障なく、可撓性基板に必要な張力を付与することができる。 Furthermore, in the substrate transport position control device according to the present invention, the outer peripheral portion of the roll is formed of an elastic body, and the dynamic friction coefficient of the outer peripheral portion surface of the roll is in the range of 0.1 to 0.6. Therefore, the necessary tension can be applied to the flexible substrate without hindering the conveyance of the flexible substrate.
以下、本発明に係る基板搬送位置制御装置について、その実施形態に基づき詳細に説明する。 Hereinafter, a substrate transfer position control device according to the present invention will be described in detail based on the embodiments.
図1は本発明の実施の形態に係る基板搬送位置制御装置を構成する曲率半径可変ロールを側面から見た模式的断面図、図2は軸方向に沿って2分割の曲率半径可変ロールを正面から見た模式的断面図、図3は上記曲率半径可変ロールを可撓性基板の搬送ラインに設置した状態の概要図、図4は上記曲率半径可変ロールのロール径の変化と可撓性基板の搬送位置との関係を示す線図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a variable curvature radius roll constituting a substrate transfer position control apparatus according to an embodiment of the present invention as viewed from the side, and FIG. 2 is a front view of a variable curvature radius roll divided into two along the axial direction. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view as seen from FIG. 3, FIG. 3 is a schematic view of a state in which the above-described variable-radius variable roll is installed on a flexible substrate transport line, and FIG. It is a diagram which shows the relationship with a conveyance position.
本実施形態の基板搬送位置制御装置は、帯状の可撓性基板を連続的(あるいは断続的)に搬送して成膜するロールツーロール方式(あるいはステッピングロール方式)の成膜装置の搬送ライン(図5及び図6参照)に設置されるものであり、図1〜図3に示すように、帯状の可撓性基板10に張力を付与し、可撓性基板10を長手方向に沿って搬送する曲率半径可変ロール1を備えている。なお、図3において矢印Zは、可撓性基板10の搬送方向を示している。
The substrate transfer position control apparatus of the present embodiment is a roll-to-roll (or stepping roll) film-forming apparatus transfer line (or stepping roll-type) film forming apparatus that continuously (or intermittently) forms a belt-like flexible substrate to form a film. 5 and 6), as shown in FIGS. 1 to 3, tension is applied to the belt-like
本実施形態の可変ロール1は、曲率半径を軸方向で部分的に変化させることによって、可撓性基板10が接触した際に生ずる張力に可撓性基板10の幅方向で分布を与え、可撓性基板10の搬送位置を変化させるように構成されている。すなわち、可変ロール1により一定の張力が付与された可撓性基板10には、幅方向で部分的に所定以上もしくは所定以下の張力が付与されるため、その幅方向において張力の分布が不均一となる。したがって、可撓性基板10は、圧力分布が均一となるように搬送位置を変化させ、搬送位置が調整されることになる。
The
そのため、可変ロール1の内部は、図1及び図2に示すように、軸方向に沿って少なくとも2分割以上(本実施形態では2分割)に区切られ、2つの分割構造部2a,2bを有している。
これら分割構造部2a,2bは、供給及び排出される流体(例えば、空気)の圧力により膨張及び収縮して、それぞれの曲率半径が可変に構成されている。すなわち、可変ロール1は、可撓性基板10を調整する方向に応じて、搬送位置を調整したい方向と反対側に位置する分割構造部2a,2bの曲率半径を変えることができるようになっている。
Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, the inside of the
These divided
各分割構造部2a,2bは、流体の供給及び排出にて径が変化することにより可変ロール1の内部を加圧及び減圧するための供給管部3と、供給管部3の外側に位置し、供給管部3の径の変化に追従して径方向へ移動する複数の支持部4と、これら支持部4の外側に位置し、支持部4の移動に伴って拡大及び縮小する内外2つの円筒状部5,6とをそれぞれ備えている。
供給管部3は、可変ロール1の軸方向に沿って延在する内側先端部が閉じた管状体で形成され、可変ロール1の軸心部に設けられており、外周部の径を拡大及び縮小できるような弾力性を有している。また、供給管部3は、図3に示すように、可変ロール1の開口端部1a及び管路7aを介して流体供給装置7に接続されており、流体供給装置7からの流体が管路7a及び開口端部1aを通って矢印Aに示すように供給管部3の内部に供給され、あるいは、供給管部3の内部の流体が矢印Bに示すように開口端部1a及び管路7aを通って流体供給装置7に排出されるようになっている。
Each of the divided
The
そして、支持部4は、板状体に形成されており、供給管部3の外周面からそれぞれ径方向に突出して設けられ、内側円筒状部5を支持している。本実施形態においては、8枚の支持部4が同一位置で周方向に沿って等間隔に配置されている。また、支持部4は、同様の配置関係の枚数で、可変ロール1の軸方向に間隔を空けて設けられている。
And the
さらに、内外2つの円筒状部5,6は、同一の軸心を中心にして径方向に間隔を空けて配置されており、外側円筒状部6の外径は、内側円筒状部5のものよりも大きく形成されている。また、2つの円筒状部5,6は、外周部の径を拡大及び縮小できるような弾力性を有する弾性体により形成されており、外側円筒状部6の外周部表面の動摩擦係数は、0.1〜0.6の範囲内となるように設定されている。外側円筒状部6の外周部表面の動摩擦係数が上記範囲を超えると、可撓性基板10の搬送に支障が生じる可能性がある。
Further, the inner and outer two
ところで、本実施形態の基板搬送位置制御装置において、可変ロール1の曲率半径を大きくするほど可撓性基板10の搬送位置の調整効果は大きくなるが、可変ロール1の軸方向長さ内で曲率半径の差が大きくなり過ぎると、搬送する可撓性基板10に皺が発生することになる。このため、可変ロール1の曲率半径の増大量及び減少量には、制限を設ける必要がある。例えば、各分割構造部2a,2bの配設位置に対応するロール外径の差は5〜20mm程度が好ましい。
また、可変ロール1の表面材質は、フッ素系ゴムなど摩擦係数が小さく、かつ弾性有する材質が好ましい。その理由として、可変ロール1の外径が一部変化することから、無変化部との差による可撓性基板10への傷を防止し、ロール内部からの流体圧による押し出し機構部(分割構造部2a,2b)との鋭角な接触を避けるためには、弾性有する材質を可変ロール1の外周部に使用することが良いからである。さらに、可変ロール1の外周を覆う材料の表面は、凹凸を有する形状に形成され、皺の発生を防ぐような処理が施されているのが好ましい。
By the way, in the board | substrate conveyance position control apparatus of this embodiment, the adjustment effect of the conveyance position of the flexible board |
Further, the surface material of the
また、本実施形態の基板搬送位置制御装置は、図3に示すように、可撓性基板10の幅方向端部の位置を検出する変位センサ8を備えている。この変位センサ8は、可撓性基板10の搬送位置制御を必要とする可変ロール1の設置場所より搬送方向(矢印Z方向)において下流側に設置されている。また、変位センサ8は、コントローラ9と電気的に接続されており、検出した可撓性基板10の幅方向端部の位置の信号は、コントローラ9に送られるようになっている。コントローラ9は、流体供給装置7と電気的に接続されており、変位センサ8の位置検出信号に基づいて流体供給装置7を作動させ、可変ロール1の分割構造部2a,2bのいずれか一方の供給管部3に流体を供給したり、あるいは供給管部3の流体を排出したりするように構成されている。
Further, as shown in FIG. 3, the substrate transport position control device of the present embodiment includes a
本発明の実施の形態に係る基板搬送位置制御装置を用いて、可撓性基板10の位置ズレや蛇行位置を調整するには、まず、変位センサ8により搬送中の可撓性基板10の幅方向端部の位置を検出する。この検出結果に基づいて、コントローラ9が流体供給装置7を作動させ、移動させたい方向と反対側の端部に位置する可変ロール1の分割構造部2a,2bの供給管部3に流体供給装置7から流体を開口端部1aより供給し、可撓性基板10の全幅のうち0.10〜0.40倍の範囲で可変ロール1の外径(曲率半径)を変化させると、所望の方向へ可撓性基板10の位置を移動させることが可能となる。
したがって、本発明の実施の形態に係る基板搬送位置制御装置によれば、可撓性基板10に掛かる張力に可撓性基板10の幅方向で分布を生じさせることが可能となり、可撓性基板10の位置ズレや蛇行に応じて可撓性基板10の搬送位置を蛇行などの不具合を解消する方向へ迅速に移動させることができる。
In order to adjust the positional deviation or meandering position of the
Therefore, according to the substrate transport position control device according to the embodiment of the present invention, it is possible to cause the tension applied to the
なお、可変ロール1を変化させる軸方向の長さが短く(幅が狭く)、より端部または外径を大きくするほど、可撓性基板10の移動量は大きくなるので、位置調整効果は大きいものとなる。しかし、可変ロール1の軸方向で外径差が大き過ぎると、極度に基板位置が移動するため可撓性基板10の表面に皺を発生させてしまうことになる。
In addition, since the amount of movement of the
本発明の実施の形態に係る基板搬送位置制御装置の効果を確認するため、図3に示す搬送ラインを有する成膜装置に本実施形態の基板搬送位置制御装置を配置して実施した。この実施例の成膜装置は、可撓性基板10の幅方向を水平方向にして搬送する装置である。搬送する可撓性基板10には、500mm幅のポリイミドフィルムを使用した。また、搬送に使用した装置の全ライン長は約7mであり、巻き取り部11にはガイドロール及び巻き取り軸部を使用した。
本実施例では、可撓性基板10に張力を付与するため、可変ロール1を一対のガイドローラ12の間であって、搬送ラインから偏位させて設置した。また、可撓性基板10の搬送位置を検出するため、可変ロール1に対して搬送方向(矢印Z方向)の下流側であって、巻き取り部11の軸部手前の端部に変位センサ8を設置し、可撓性基板10の幅方向端部の位置変動を検証した。
In order to confirm the effect of the substrate transfer position control apparatus according to the embodiment of the present invention, the substrate transfer position control apparatus of this embodiment was arranged in the film forming apparatus having the transfer line shown in FIG. The film forming apparatus of this embodiment is an apparatus that conveys the
In this embodiment, in order to apply tension to the
また、実施例に使用した可変ロール1の外径(ロール径)は100mm、軸方向の長さ(ロール幅)は650mmである。可変ロール1の外径の変化については、当該可変ロール1の一方の端部から軸方向で150〜200mmの長さにわたってロール径を変化させるようにするため、可変ロール1の外周部に摩擦係数が1.0以下であるニトリルゴム、ウレタンゴムなどを巻き付けて可変ロール1の曲率半径を部分的に順次変化させた。厚みの調整は、ゴムを巻く回数を変えることで行った。
そして、このように可変ロール1の曲率半径を変化させた状態で、上記した条件の可撓性基板10を20m搬送して、そのときのフィルム端面の変位量を5m置きに測定し、評価した。
Moreover, the outer diameter (roll diameter) of the
And in the state which changed the curvature radius of the
その結果を図4に示した。可変ロール1の一方の端部の外径を10mmまで大きくすると、可撓性基板10は、正常位置より約3mm程度ロール径を大きくした方の端部と反対側の端部の方向へ移動することが分かった。さらに、可変ロール1の一方の端部の外径を20mmまで大きくすると、可撓性基板10の移動量は、さらに大きくなることが分かった。また、可変ロール1の一方の端部の外径を20mmまで大きくしても、可撓性基板10の表面に皺が発生せず、ロール径の可変による可撓性基板10への影響はなかった。しかし、可変ロール1の一方の端部の外径を更に大きくすると、可撓性基板10の表面に皺が発生するため、軸方向で可変ロール1の外径差には一定の範囲を設ける必要があることが分かった。
The results are shown in FIG. When the outer diameter of one end of the
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。 While the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes can be made based on the technical idea of the present invention.
例えば、既述の実施の形態では、可変ロール1の分割数を2分割としているが、搬送する可撓性基板10などに応じて3分割以上とすることもできる。また、既述の実施の形態における可撓性基板10の搬送方向(矢印Z方向)を逆転して使用することもできる。この場合、巻き取り部11は巻き出し部とし、変位センサ8は可変ロール1の下流側(既述の実施の形態の巻き取り部11と反対側)に配置を変更する必要がある。
For example, in the above-described embodiment, the number of divisions of the
1 曲率半径可変ロール
1a 開口端部
2a,2b 分割構造部
3 供給管部
4 支持部
5 内側円筒状部
6 外側円筒状部
7 流体供給装置
7a 管路
8 変位センサ
9 コントローラ
10 可撓性基板
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