JP5315228B2 - Film forming apparatus and method for manufacturing solar cell - Google Patents

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Description

本発明は可撓性基板の搬送装置及び成膜装置に関するものである。   The present invention relates to a flexible substrate transfer apparatus and a film forming apparatus.

近年、薄膜系太陽電池の量産において、低コストで生産できる工程が期待されている。製造の低コスト化を図る手段の一つとして、ロール状に巻いた可撓性基板を他方のロールへ巻き取りながら、その過程において成膜、印刷、レーザー加工等の各単位操作をインラインで行って、連続的に処理する方法が知られている。この方法をロールツーロール(Roll―to−Roll、以下ロールツーロールと表記)法と呼んでいる。   In recent years, a process that can be produced at low cost is expected in mass production of thin film solar cells. As one of the means to reduce manufacturing costs, each unit operation such as film formation, printing, laser processing, etc. is performed in-line while winding a flexible substrate wound in a roll shape on the other roll. Thus, a continuous processing method is known. This method is called a roll-to-roll (hereinafter referred to as roll-to-roll) method.

特に薄膜形成工程の生産性を高める方法として、例えば特開昭58−216475号公報、特開昭59−34668号公報に示されるようなロールツーロール方式の搬送装置を設けた成膜装置を使用し、連続搬送及び連続成膜を行うことは有効である。   In particular, as a method for increasing the productivity of the thin film forming process, a film forming apparatus provided with a roll-to-roll type conveying apparatus as shown in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-216475 and 59-34668 is used. However, it is effective to perform continuous conveyance and continuous film formation.

ロールツーロール方式の搬送装置を設けた成膜装置においては、可撓性フィルム基板を連続的に搬送しながら連続成膜を行うわけであるが、目的とする膜厚を効率良く得るためには成膜用の放電電極長を長くし、搬送速度を上げることが一つの方法である。   In a film forming apparatus provided with a roll-to-roll type transport device, continuous film formation is performed while continuously transporting a flexible film substrate, but in order to obtain a desired film thickness efficiently. One method is to increase the length of the discharge electrode for film formation and increase the transport speed.

しかし可撓性基板を、搬送装置により搬送しながら成膜するにあたって、一般的に小型、安価な平行平板方式の成膜装置を使用した場合、基板に発生するしわが成膜むらの原因となり、問題であった。図1に平行平板方式による成膜装置を示す。図1(A)は成膜装置全体側面、図1(B)は電極108付近を可撓性基板101と共に下方から見たものである。電極108は接地されており、可撓性基板101を必要に応じて加熱できるよう、ヒーターが内蔵されている。基板の設置方法は、先ず可撓性基板101を巻き出しロール105から巻き出し、巻き出し用真空室110と成膜用真空室102の基板搬送部分側面にそれぞれ設けた基板を通すための隙間103に通し、電極108と対向電極109の間を通し、成膜用真空室右側の隙間112を通して更に巻き取りロール104に巻き付ける。基板を電極と平行に保つため、巻き取りロール104及び巻き出しロール105に一定の回転トルクを発生させ、基板に張力をかける。このときガイドローラー106と107の間では可撓性基板が空間に浮いた状態になっている。また可撓性基板は伸縮するため、基板に張力がかかった状態において、空間に浮いた状態になっている可撓性基板の各部分では、搬送方向に伸びる力、幅方向に縮む力が存在し、しわ111を発生させる要因となる。可撓性基板はヒーターにより加熱したときは伸縮が大きくなり、しわの発生は顕著に表れる。また成膜時しわの発生した部分が放電空間にさらされ成膜されるため、成膜むらの原因となっていた。電極長が長くなるほど、つまり基板が空間に浮いた部分が長くなるほどしわの発生頻度は高い。   However, when a flexible substrate is deposited while being transported by a transport device, if a generally small and inexpensive parallel plate type film deposition device is used, wrinkles that occur on the substrate cause uneven film deposition. It was a problem. FIG. 1 shows a parallel plate type film forming apparatus. 1A is a side view of the entire film formation apparatus, and FIG. 1B is a view of the vicinity of the electrode 108 together with the flexible substrate 101 from below. The electrode 108 is grounded, and a heater is incorporated so that the flexible substrate 101 can be heated as necessary. The substrate is installed by first unwinding the flexible substrate 101 from the unwinding roll 105 and passing through the substrates provided on the substrate transfer portion side surfaces of the unwinding vacuum chamber 110 and the film forming vacuum chamber 102, respectively. , And between the electrode 108 and the counter electrode 109, and further wound around the take-up roll 104 through the gap 112 on the right side of the film forming vacuum chamber. In order to keep the substrate parallel to the electrodes, a constant rotational torque is generated in the winding roll 104 and the unwinding roll 105 to apply tension to the substrate. At this time, the flexible substrate is floating in the space between the guide rollers 106 and 107. In addition, since the flexible substrate expands and contracts, there is a force that extends in the transport direction and a force that contracts in the width direction at each part of the flexible substrate that is floating in space when tension is applied to the substrate. However, it becomes a factor which generates the wrinkle 111. When the flexible substrate is heated by a heater, the expansion and contraction becomes large, and the generation of wrinkles appears remarkably. In addition, the wrinkled portion at the time of film formation is exposed to the discharge space for film formation, which causes uneven film formation. The longer the electrode length, that is, the longer the part where the substrate floats in the space, the higher the frequency of wrinkle generation.

可撓性基板のしわの発生を防止するために、一つの方法として円筒キャン方式がある。円筒キャン方式による搬送装置を設けた成膜装置は、例えば特開昭58−216475号公報に示されている。可撓性基板に張力をかけ、搬送を支持する部分である円筒キャンの曲面上に密着させることにより基板に発生するしわを抑えることができる。従来の円筒キャン方式では、成膜用接地電極として用いられる領域が円筒キャンの一部分であり、電極面積に比例して装置が大型化した。
特に太陽電池を目的とした、PIN各層を連続成膜するため多数の真空室を一列に接続したマルチチャンバー方式の成膜装置において大型化は顕著である。
In order to prevent the generation of wrinkles on the flexible substrate, there is a cylindrical can method as one method. A film forming apparatus provided with a transfer apparatus using a cylindrical can system is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-216475. By applying tension to the flexible substrate and bringing it into close contact with the curved surface of the cylindrical can, which is a part that supports conveyance, wrinkles generated on the substrate can be suppressed. In the conventional cylindrical can system, the region used as the film-forming ground electrode is a part of the cylindrical can, and the apparatus is enlarged in proportion to the electrode area.
In particular, an increase in size is remarkable in a multi-chamber type film forming apparatus in which a large number of vacuum chambers are connected in a row in order to continuously form PIN layers for solar cells.

円筒キャン方式による搬送装置を設けた成膜装置では大型化は避けられないが、装置の小型化を考えて改良型平行平板方式を使用する方法も考えられる。可撓性基板に接触し搬送を支持する部分を、曲面状にすれば良い。図2に、曲面状電極を搬送支持部として使用した搬送装置、及び搬送装置を設けた成膜装置を示す。曲面状電極201は搬送支持部と放電用接地電極を兼ねている。可撓性基板204に張力をかけることによって基板が曲面状電極に密着し、基板に発生するしわを抑えることができる。装置の小型化という点では円筒キャン方式よりも著しく優れており、平行平板方式と同程度の大きさでよい。但し問題は、張力をかけた状態で基板を搬送すると曲面状電極上に接触しながら基板を搬送することになるので、可撓性基板裏面と曲面状電極の擦れによって基板裏面へ傷が付くことである。また、電極長が長くなると摩擦力も大きくなるため、基板を搬送するときに基板を巻き取る力も大きなものになり、基板に加わる力も相当大きなものになることも問題である。   In a film forming apparatus provided with a transfer apparatus using a cylindrical can system, an increase in size is inevitable, but a method using an improved parallel plate system is also conceivable in consideration of the downsizing of the apparatus. The portion that contacts the flexible substrate and supports the conveyance may be curved. FIG. 2 shows a transport apparatus using a curved electrode as a transport support portion, and a film forming apparatus provided with the transport apparatus. The curved electrode 201 serves both as a transport support portion and a discharge ground electrode. By applying tension to the flexible substrate 204, the substrate is brought into close contact with the curved electrode, and wrinkles generated on the substrate can be suppressed. In terms of downsizing the apparatus, it is significantly better than the cylindrical can method, and may be as large as the parallel plate method. However, the problem is that if the substrate is transported in a tensioned state, the substrate is transported while contacting the curved electrode, so that the back surface of the flexible substrate and the curved electrode are rubbed and the back surface of the substrate is damaged. It is. In addition, since the frictional force increases as the electrode length increases, the force to wind up the substrate when transporting the substrate also increases, and the force applied to the substrate also becomes significant.

従来の平行平板方式と同程度の規模の、搬送装置を設けた成膜装置で、従来の円筒キャン方式の搬送装置を設けた成膜装置より小型化を実現でき、可撓性基板のしわを防止し、可撓性基板裏面への傷を防止しながら、連続搬送が可能な搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置を提供することにある。   It is a film forming device with a transfer device of the same scale as a conventional parallel plate method, and can be downsized compared to a film forming device with a conventional cylindrical can type transfer device. An object of the present invention is to provide a transport apparatus capable of continuous transport while preventing damage to the back surface of the flexible substrate and a film forming apparatus provided with the transport apparatus.

本発明は、一方の端から他方の端に、可撓性基板を連続して搬送させる手段を備えた搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置において、前記一方の端と前記他方の端との間に、半径Rの円弧に沿って、中心軸が平行になるように配列した複数の円筒形ローラーを設け、前記可撓性基板が、前記複数の円筒形ローラーのそれぞれに接して搬送させる機構を用いたことを特徴とする搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置である。可撓性基板に張力をかけて、前記複数の円筒形ローラーのそれぞれに密着させ、可撓性基板のしわを防止し、基板裏面への傷を防止しながら連続搬送が可能となる。図3に詳細を示す。先ず中心軸303から半径R(302)の円弧を持った曲面301を考える。曲面301は説明のために示すもので、実物は存在しない。次に曲面301上に任意の長さを有する複数の円筒形ローラー304を連続的に、できる限り間隔が小さくなるように並べる。このとき複数の円筒形ローラー304の各中心軸305は曲面301上にあり、曲面301の中心軸303と平行となるようにする。更に可撓性基板306を複数の円筒形ローラーそれぞれに、張力をかけて密着させる。ここで、複数の円筒形ローラー304は、可撓性基板306が各円筒形ローラー304に接触する抱き角が必ず正となるように配置していることに留意する。本発明の可撓性基板を連続して搬送させる手段を備えた搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置を曲面ローラー方式と呼ぶことにする。   The present invention relates to a transport apparatus having a means for continuously transporting a flexible substrate from one end to the other end, and a film forming apparatus provided with the transport apparatus, wherein the one end and the other end Are provided with a plurality of cylindrical rollers arranged so that central axes thereof are parallel to each other along an arc having a radius R, and the flexible substrate is conveyed in contact with each of the plurality of cylindrical rollers. It is a film forming apparatus provided with a transfer device and a transfer device characterized by using a mechanism. Tension is applied to the flexible substrate to bring it into close contact with each of the plurality of cylindrical rollers, preventing wrinkling of the flexible substrate and enabling continuous conveyance while preventing damage to the back surface of the substrate. Details are shown in FIG. First, consider a curved surface 301 having an arc with a radius R (302) from the central axis 303. The curved surface 301 is shown for explanation, and there is no actual object. Next, a plurality of cylindrical rollers 304 having an arbitrary length are continuously arranged on the curved surface 301 so as to be as small as possible. At this time, each central axis 305 of the plurality of cylindrical rollers 304 is on the curved surface 301 and is parallel to the central axis 303 of the curved surface 301. Further, the flexible substrate 306 is brought into close contact with each of the plurality of cylindrical rollers by applying tension. Here, it should be noted that the plurality of cylindrical rollers 304 are arranged so that the holding angle at which the flexible substrate 306 contacts each cylindrical roller 304 is always positive. The transport apparatus provided with means for continuously transporting the flexible substrate of the present invention and the film forming apparatus provided with the transport apparatus will be referred to as a curved roller system.

円筒形ローラーの配置方法について述べるとともに図4に示す。図4(A)に示すように円筒形ローラーの中心軸を配置する曲面401を一種類とし、円筒形ローラー402を等間隔に曲面上に並べてもよいし、必要に応じて間隔を変えたり、図4(B)に示すように曲率の違う複数の曲面401と403上に並べて配置したり、また円筒形ローラー402の径を変えたりしてもよい。他の考え方では、可撓性基板407を複数の円筒形ローラーそれぞれに接触させたとき、可撓性基板が各円筒形ローラーに接触する部分404の円弧角度、つまり抱き角405が正の値であれば、その抱き角は任意でよい。搬送方向の成膜状態安定化のためには抱き角を一定角度にそろえる方が都合良いが、搬送装置全体を真空室内に収めなければならないなど機械的な制約がある場合は自由に設定することもできる。これは曲面の曲率406を変化させるということに他ならない。   A method for arranging the cylindrical rollers is described and shown in FIG. As shown in FIG. 4 (A), the curved surface 401 on which the central axis of the cylindrical roller is arranged as one kind, and the cylindrical rollers 402 may be arranged on the curved surface at equal intervals, and the interval may be changed as necessary. As shown in FIG. 4B, they may be arranged side by side on a plurality of curved surfaces 401 and 403 having different curvatures, or the diameter of the cylindrical roller 402 may be changed. According to another concept, when the flexible substrate 407 is brought into contact with each of the plurality of cylindrical rollers, the arc angle of the portion 404 where the flexible substrate contacts each cylindrical roller, that is, the holding angle 405 is a positive value. If necessary, the holding angle may be arbitrary. To stabilize the film formation state in the transfer direction, it is convenient to set the holding angle to a fixed angle, but if there are mechanical restrictions such as the entire transfer device must be housed in a vacuum chamber, set it freely. You can also. This is nothing but changing the curvature 406 of the curved surface.

図5(A)に従来の平行平板方式の成膜用放電電極、図5(B)に曲面ローラー方式の搬送装置の搬送支持部を兼ねた成膜用放電電極を示し、可撓性基板に張力をかけ、複数の円筒形ローラーの曲面上に可撓性基板を密着させる様子を示す。従来の平行平板方式の電極504では、可撓性基板512への張力501を大きくしても電極に対抗する基板面507では電極に対して平行方向の分力503が存在するのみで垂直方向への分力502は得ることができない。平行平板方式の電極の両端に分力509、510が存在するのみである。曲面ローラー方式の場合も一直線上に円筒形ローラー511が並んでいれば垂直方向への分力505は得ることができないが、可撓性基板512が各円筒形ローラー511に接触する抱き角508が正の値であれば、基板を電極に押しつける方向の分力506が発生する。但し図5(B)においては、可撓性基板と円筒形ローラーは点接触であると仮定して張力及び分力を示している。曲面ローラー方式の電極は、各円筒形ローラーの抱き角を全て正の値にしてあるので、全ての円筒形ローラーに可撓性基板を押しつけることができる。つまり可撓性基板を搬送装置の搬送支持部を兼ねた成膜用放電電極に密着させることができる。   FIG. 5 (A) shows a conventional parallel plate type film forming discharge electrode, and FIG. 5 (B) shows a film forming discharge electrode that also serves as a conveyance supporting part of a curved roller type conveying device. A state in which tension is applied and the flexible substrate is brought into close contact with the curved surfaces of a plurality of cylindrical rollers is shown. In the conventional parallel plate type electrode 504, even if the tension 501 to the flexible substrate 512 is increased, the substrate surface 507 that opposes the electrode only has a component force 503 parallel to the electrode in the vertical direction. Cannot be obtained. There are only component forces 509 and 510 at both ends of the parallel plate type electrode. Even in the case of the curved roller system, if the cylindrical rollers 511 are aligned in a straight line, the component force 505 in the vertical direction cannot be obtained, but the holding angle 508 at which the flexible substrate 512 contacts each cylindrical roller 511 is If the value is positive, a component force 506 is generated in a direction in which the substrate is pressed against the electrode. However, in FIG. 5B, the tension and the component force are shown on the assumption that the flexible substrate and the cylindrical roller are in point contact. In the curved roller type electrode, the holding angle of each cylindrical roller is set to a positive value, so that the flexible substrate can be pressed against all the cylindrical rollers. That is, the flexible substrate can be brought into close contact with the film-forming discharge electrode that also serves as the transport support portion of the transport apparatus.

図6に曲面ローラー方式の搬送装置を設けた成膜装置を示す。曲面ローラー方式において、円筒形ローラー間距離を可能な限り近付け、可撓性基板が空間に浮いている状態の部分を短くすることにより、可撓性基板は、円筒キャン方式における連続した曲面上に密着させたときと同じ密着効果を得ることが可能となり、可撓性基板のしわ及びしわに起因する成膜時の成膜むらを防止することができる。また可撓性基板搬送時も各円筒形ローラー602が回転することにより、基板と成膜用放電電極の擦れによる基板裏面への傷を抑えることができる。   FIG. 6 shows a film forming apparatus provided with a curved roller type conveying apparatus. In the curved roller system, the distance between the cylindrical rollers is as close as possible, and the flexible substrate is placed on the continuous curved surface in the cylindrical can system by shortening the portion where the flexible substrate is floating in the space. It is possible to obtain the same adhesion effect as that obtained when the substrates are adhered, and it is possible to prevent film formation unevenness during film formation due to wrinkles and wrinkles of the flexible substrate. Further, by rotating each cylindrical roller 602 during conveyance of the flexible substrate, scratches on the back surface of the substrate due to rubbing between the substrate and the film-forming discharge electrode can be suppressed.

曲面ローラー方式の搬送装置を設けた成膜装置と、円筒キャン方式の搬送装置を設けた成膜装置を比較して、曲面ローラー方式は装置の小型化が実現可能であることを図7に示す。図7(A)は曲面ローラー方式の搬送装置を設け、搬送支持部を兼ねた電極を使用した成膜装置、図7(B)は円筒キャン方式の搬送装置を設け、搬送支持部を兼ねた円筒キャン電極710を使用した成膜装置である。
図7(A)の搬送装置は曲率半径R1000mmの曲面ローラー方式で、図7(B)の搬送装置は半径R500mmの円筒キャン方式である。各装置の総電極面積は同程度である。円筒キャン方式では、曲面ローラー方式における曲率半径と比較して半分の径に収めたが、円筒キャン全体を装置に設置しなければならず、装置の大型化は避けることができない。実際には側面図での大きさの違いだけでなく、真空装置においては真空室の体積の差も重要である。真空室の壁は、真空室が大型化するほど厚く、丈夫なものを使用しなければならない。そのため装置の重量がかなり大きなものになり、建築物の床強度等も問題になってくる。円筒キャンの径R500mmを使用した真空装置では、重量が2tになることもある。また真空室の大型化に伴って、排気系に使用する真空ポンプ等も大型化し、高価になる。同程度の電極面積が得られる成膜装置、特に真空装置において、装置の小型化は利点が多い。
A film forming apparatus provided with a curved roller type conveying apparatus and a film forming apparatus provided with a cylindrical can type conveying apparatus are shown in FIG. . 7A is a film forming apparatus using an electrode that also serves as a curved roller type conveying device and also serves as a conveyance supporting unit. FIG. 7B is a cylindrical can type conveying device that also serves as a conveying support unit. A film forming apparatus using a cylindrical can electrode 710.
7A is a curved roller system with a curvature radius of R1000 mm, and the conveyance apparatus of FIG. 7B is a cylindrical can system with a radius of R500 mm. The total electrode area of each device is comparable. In the cylindrical can system, the diameter is half of the radius of curvature in the curved roller system, but the entire cylindrical can must be installed in the apparatus, and the enlargement of the apparatus cannot be avoided. Actually, not only the difference in size in the side view but also the difference in volume of the vacuum chamber is important in the vacuum apparatus. The wall of the vacuum chamber must be thick and strong as the vacuum chamber becomes larger. For this reason, the weight of the apparatus becomes considerably large, and the floor strength of the building becomes a problem. In a vacuum apparatus using a cylindrical can diameter R500 mm, the weight may be 2 t. As the vacuum chamber becomes larger, the vacuum pump used for the exhaust system becomes larger and expensive. In a film forming apparatus that can obtain the same electrode area, particularly a vacuum apparatus, downsizing the apparatus has many advantages.

曲面ローラー方式における複数の円筒形ローラーが、可撓性基板を加熱するためのヒーターを兼ねる場合の、基板への熱伝導の様子を図8に示す。ヒーター本体を内蔵したヒーターブロック803から可撓性基板807への熱伝導において、領域801は円筒形ローラー804との接触による熱伝導、領域802はヒーターブロック803及び円筒形ローラー804からの輻射による熱伝導である。
基板搬送時は基板が領域801と802を交互に通過することになるが、基板温度の変動を抑えられるよう、ヒーターブロックとローラーの隙間805及びヒーターブロックと基板の隙間806を調整すると良い。また、基板の温度は、高真空時とガス導入時では、ヒーターの設定温度が同じでも異なることがあり、領域801の接触部分での基板温度と領域802の輻射部分での基板温度の差は搬送速度によっても異なることがあるので、基板温度測定時や設計時等には留意しておく。
FIG. 8 shows a state of heat conduction to the substrate when a plurality of cylindrical rollers in the curved roller system also serve as a heater for heating the flexible substrate. In heat conduction from the heater block 803 including the heater main body to the flexible substrate 807, the region 801 is heat conduction by contact with the cylindrical roller 804, and the region 802 is heat by radiation from the heater block 803 and the cylindrical roller 804. It is conduction.
When the substrate is transported, the substrate alternately passes through the regions 801 and 802, but the heater block / roller gap 805 and the heater block / substrate gap 806 may be adjusted so that fluctuations in the substrate temperature can be suppressed. In addition, the substrate temperature may differ between the high temperature and the gas introduction even if the heater set temperature is the same. Since it may vary depending on the transfer speed, care should be taken when measuring the substrate temperature or designing.

本発明である曲面ローラー方式の搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置によって、従来の平行平板方式と同程度の規模の、搬送装置を設けた成膜装置で、従来の円筒キャン方式の搬送装置を設けた成膜装置より小型化を実現でき、可撓性基板のしわを防止し、可撓性基板裏面への傷を防止しながら、連続搬送が可能な搬送装置及び搬送装置を設けた成膜装置を提供することができた。   A conventional cylindrical can type transfer system using a curved roller type transfer apparatus and a film forming apparatus provided with a transfer apparatus according to the present invention. The film forming apparatus provided with the apparatus can be reduced in size, and the conveyance apparatus and the conveyance apparatus capable of continuous conveyance are provided while preventing wrinkles of the flexible substrate and preventing scratches on the back surface of the flexible substrate. A film forming apparatus could be provided.

平行平板方式成膜装置における可撓性基板Flexible substrate in parallel plate type film forming apparatus 曲面電極方式成膜装置における可撓性基板Flexible substrate in curved electrode type film forming apparatus 曲面ローラー方式の円筒形ローラー概念Curved roller type cylindrical roller concept 曲面ローラー方式の円筒形ローラー配置Curved roller type cylindrical roller arrangement 可撓性基板に働く張力の力学的説明Mechanical description of tension acting on flexible substrates. 曲面ローラー方式成膜装置Curved roller film deposition system 円筒キャン方式成膜装置と曲面ローラー方式成膜装置の大きさ比較Comparison of size between cylindrical can system and curved roller system 曲面ローラー方式の熱伝導Curved roller heat transfer 曲面ローラー方式成膜装置における基板温度測定Substrate temperature measurement in curved roller film deposition system 曲面ローラー方式成膜装置における基板幅方向膜厚測定Substrate width direction film thickness measurement in curved roller type film deposition system

本発明での実施例を以下に説明する。先ず、曲面ローラー方式による搬送装置の搬送支持部を製作した。搬送支持部は、ヒーターからの熱を均等に伝えるための曲面ブロックと可動部である複数の円筒形ローラーより構成した。材質には熱伝導率の良いアルミニウム合金を使用した。曲面ブロックの大きさは428mm×300mm、最大厚さ30mm、曲面の曲率半径Rは1000mmとした。次に曲面に沿って直径9mmの円筒形ローラーを42本、ベアリングを介して取り付けた。円筒形ローラー間の角度は0°35’とした。図8に示す円筒形ローラー804とヒーターブロック803の間隔805は1mmとした。また可撓性基板807とヒーターブロックの間隔806は7mmとした。   Examples of the present invention will be described below. First, the conveyance support part of the conveyance apparatus by a curved surface roller system was manufactured. The conveyance support part was comprised from the some cylindrical roller which is a curved surface block and a movable part for conveying the heat from a heater equally. The material used was an aluminum alloy with good thermal conductivity. The size of the curved surface block was 428 mm × 300 mm, the maximum thickness was 30 mm, and the curvature radius R of the curved surface was 1000 mm. Next, 42 cylindrical rollers having a diameter of 9 mm were attached along the curved surface via bearings. The angle between the cylindrical rollers was 0 ° 35 '. The interval 805 between the cylindrical roller 804 and the heater block 803 shown in FIG. 8 was 1 mm. The distance 806 between the flexible substrate 807 and the heater block was 7 mm.

図6に示すような搬送装置を設けた成膜装置を準備する。この装置は可撓性基板搬送装置、真空室、成膜ガス導入系、排気系、高周波電源導入系を備えており、成膜はプラズマCVDにより行う。先ず、曲面ローラー方式による搬送装置の搬送支持部610をヒーター609に取り付け、曲面ローラー方式の搬送装置を構成した。曲面ローラー方式による搬送装置の搬送支持部は接地電極として使用した。高周波電源導入系は、前記曲面ローラー方式による接地電極と、高周波電源側電極608より構成した。次に可撓性基板601を巻き出しロール607から巻き出し、ガイドロール606、曲面ローラー方式による接地電極610を通って巻き取りロール608に巻き取られるよう設置した。この時、巻き取りロール608を基準にして巻き出しロール607に逆方向で一定の回転トルクをかけているので、可撓性基板601には張力がかかっており、曲面ローラー方式による接地電極の曲面に密着する。   A film forming apparatus provided with a transfer apparatus as shown in FIG. 6 is prepared. This apparatus includes a flexible substrate transfer device, a vacuum chamber, a film forming gas introduction system, an exhaust system, and a high frequency power supply introduction system, and film formation is performed by plasma CVD. First, the conveyance support part 610 of the conveyance apparatus by a curved surface roller system was attached to the heater 609, and the conveyance apparatus of the curved surface roller system was comprised. The conveyance support part of the curved roller type conveyance device was used as a ground electrode. The high frequency power supply introduction system was constituted by the ground electrode by the curved roller method and the high frequency power supply side electrode 608. Next, the flexible substrate 601 was unwound from the unwinding roll 607 and installed so as to be wound on the winding roll 608 through the guide roll 606 and the ground electrode 610 using a curved roller system. At this time, since a constant rotational torque is applied to the unwinding roll 607 in the reverse direction with respect to the winding roll 608, the flexible substrate 601 is under tension, and the curved surface of the ground electrode by the curved roller system is used. Close contact with.

可撓性基板601の表面温度変化を測定するため、可撓性基板表面のある位置に熱電対611を固定し、可撓性基板601を巻き取りロール608により巻き取り、搬送した。この時、可撓性基板に固定した熱電対部分が曲面ローラー方式による接地電極610に接触する部分前後の温度変化を、1秒毎に記録した。測定値を図9(A)に示す。測定値は可撓性基板が曲面ローラー方式による接地電極に接触している時の基板温度平均値との差で示した。結果として基板温度は、基板が曲面ローラー方式による電極に接触している時はほぼ一定となり、問題になる温度むらの程度ではなかった。厳密に見ると、図8に示す可撓性基板と円筒形ローラーの接触熱伝導部分801と円筒形ローラー及びローラーブロックからの輻射熱伝導部分802の温度差が存在するが、この温度差は1℃未満となった。図9(B)には比較のため、搬送装置を設けた平行平板方式成膜装置における、ヒーターを内蔵した平板接地電極部分を可撓性基板が通過したときのデータを示す。可撓性基板とヒーターを内蔵した平板接地電極は2mmの間隔を開け、接触していない状態であったので、可撓性基板通過時の基板への熱伝導は常時輻射による熱伝導である。このデータと比較しても曲面ローラー方式の電極による温度むらは問題なく抑えられていると言える。   In order to measure the change in surface temperature of the flexible substrate 601, the thermocouple 611 was fixed at a position on the surface of the flexible substrate, and the flexible substrate 601 was taken up by the take-up roll 608 and conveyed. At this time, the temperature change before and after the portion where the thermocouple portion fixed to the flexible substrate contacts the ground electrode 610 by the curved roller method was recorded every second. The measured values are shown in FIG. The measured value was shown by the difference from the substrate temperature average value when the flexible substrate was in contact with the ground electrode by the curved roller method. As a result, the substrate temperature was almost constant when the substrate was in contact with the electrode by the curved roller system, and it was not a problem of temperature unevenness. Strictly speaking, there is a temperature difference between the contact heat conducting portion 801 of the flexible substrate and the cylindrical roller shown in FIG. 8 and the radiant heat conducting portion 802 from the cylindrical roller and the roller block, and this temperature difference is 1 ° C. It became less than. For comparison, FIG. 9B shows data when the flexible substrate passes through a flat plate ground electrode portion having a built-in heater in a parallel plate type film forming apparatus provided with a transfer device. Since the flat plate ground electrode incorporating the flexible substrate and the heater is spaced apart by 2 mm and is not in contact, heat conduction to the substrate when passing through the flexible substrate is always heat conduction by radiation. Even if compared with this data, it can be said that the temperature unevenness due to the curved roller type electrode is suppressed without any problem.

可撓性基板のしわ、及びしわが原因となって発生する成膜むらについて観察した。先ず、可撓性基板にPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムを使用し、図6に示す搬送装置を設けた成膜装置の搬送系に設置し、可撓性基板に張力をかけた。曲面ローラー方式による接地電極下部から可撓性基板601を観察したが、基板にしわは見られなかった。次に成膜室604内にシランガス及び水素ガスを導入し、高周波電源側電極608と曲面ローラー方式による接地電極610間に放電させ、可撓性基板上に非単結晶シリコンの成膜を行った。非単結晶シリコンはアモルファスシリコン、微結晶シリコン、薄膜多結晶シリコンを示す。この膜を、分光光度計を使用して、基板の幅方向に走査し、膜厚を測定した。図10に結果を示す。図10(A)は平行平板方式成膜装置による成膜の基板幅方向の膜厚分布、図10(B)は曲面ローラー方式成膜装置による成膜の膜厚分布である。平行平板方式成膜装置では成膜時に基板のしわがあるため、膜厚分布も±10%程有り目視でも色むらが観察された。曲面ローラー方式成膜装置における成膜では、成膜時に基板のしわが無く、膜厚分布が±5%程に抑えられ、色むらは目視ではほとんど確認できなかった。結果、膜厚のむらは抑えられたと言える。   The wrinkles of the flexible substrate and the film formation unevenness caused by the wrinkles were observed. First, a PEN (polyethylene naphthalate) film was used for the flexible substrate, and the flexible substrate was placed in the transport system of the film forming apparatus provided with the transport device shown in FIG. The flexible substrate 601 was observed from the lower part of the ground electrode by the curved roller system, but no wrinkles were found on the substrate. Next, silane gas and hydrogen gas were introduced into the film formation chamber 604 and discharged between the high-frequency power supply side electrode 608 and the ground electrode 610 using a curved roller system, and a non-single-crystal silicon film was formed on the flexible substrate. . Non-single crystal silicon refers to amorphous silicon, microcrystalline silicon, and thin film polycrystalline silicon. This film was scanned in the width direction of the substrate using a spectrophotometer, and the film thickness was measured. The results are shown in FIG. FIG. 10A shows the film thickness distribution in the substrate width direction of film formation by the parallel plate type film forming apparatus, and FIG. 10B shows the film thickness distribution of film formation by the curved roller type film forming apparatus. In the parallel plate type film forming apparatus, since there is a wrinkle of the substrate during film formation, the film thickness distribution is about ± 10%, and color unevenness was observed visually. In the film formation by the curved roller type film forming apparatus, there was no wrinkle of the substrate at the time of film formation, the film thickness distribution was suppressed to about ± 5%, and the color unevenness could hardly be visually confirmed. As a result, it can be said that the film thickness unevenness was suppressed.

101 可撓性基板
102 成膜用真空室
103 基板を通すための隙間
104 巻き取りロール
105 巻き出しロール
106、107 ガイドローラー
108 電極
109 対向電極
110 巻き出し用真空室
111 可撓性基板上のしわ
112 成膜用真空室右側の隙間
113 巻き取り用真空室
201 曲面電極
202 対向電極
203 ガイドローラー
204 可撓性基板
205 可撓性基板上のしわ
301 半径Rの円弧を持つ曲面
302 曲面の曲率半径
303 曲面の中心軸
304 円筒形ローラー
305 円筒形ローラーの中心軸
306 可撓性基板
401 曲面
402 円筒形ローラー
403 他の種類の曲面
404 可撓性基板が各円筒形ローラーに接触する部分
405 抱き角
406 曲面の曲率
407 可撓性基板
501 可撓性基板への張力
502 垂直方向への分力
503 電極に対して平行方向の分力
504 従来の平行平板方式の電極
505 垂直方向への分力
506 基板を電極に押しつける方向の分力
507 電極に対抗する基板面
508 接触する抱き角
509、510 分力
511 円筒形ローラー
512 可撓性基板
601 可撓性基板
602 円筒形ローラー
603 巻き出し用真空室
604 成膜用真空室
605 巻き取り用真空室
606 ガイドローラー
607 巻き出しローラー
608 巻き取りローラー
609 基板加熱用ヒーター
610 曲面ローラー方式による搬送装置の搬送支持部兼接地電極
611 熱電対
701 可撓性基板
702 曲面ローラー方式の接地電極
703 対向電極
704 巻き出し用真空室
705 巻き取り用真空室
706 成膜室
707 巻き出しローラー
708 巻き取りローラー
709 ガイドローラー
710 円筒キャン方式電極
801、802 熱伝導領域
803 ヒーター本体を内蔵したヒーターブロック
804 円筒形ローラー
805 ヒーターブロックとローラーの隙間
806 ヒーターブロックと基板の隙間
807 可撓性基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Flexible substrate 102 Film-forming vacuum chamber 103 Gap 104 for letting a substrate pass Winding roll 105 Unwinding roll 106, 107 Guide roller 108 Electrode 109 Counter electrode 110 Unwinding vacuum chamber 111 Wrinkle on flexible substrate 112 Gap on the right side of vacuum chamber for film formation 113 Vacuum chamber for winding 201 Curved electrode 202 Counter electrode 203 Guide roller 204 Flexible substrate 205 Wrinkle 301 on flexible substrate Curved surface 302 having an arc of radius R Curved radius of curvature 303 Curved Central Axis 304 Cylindrical Roller 305 Cylindrical Roller Central Axis 306 Flexible Substrate 401 Curved Surface 402 Cylindrical Roller 403 Other Kind of Curved Surface 404 Part 405 Where the Flexible Substrate Contact Each Cylindrical Roller Holding Angle 406 Curvature curvature 407 Flexible substrate 501 Tension 502 to flexible substrate Vertical direction The component force 503 in the direction parallel to the electrode 504 The conventional parallel plate type electrode 505 The component force 506 in the vertical direction The component force 507 in the direction of pressing the substrate against the electrode 507 The substrate surface 508 that opposes the electrode Angle 509, 510 Component force 511 Cylindrical roller 512 Flexible substrate 601 Flexible substrate 602 Cylindrical roller 603 Unwinding vacuum chamber 604 Deposition vacuum chamber 605 Unwinding vacuum chamber 606 Guide roller 607 Unwinding roller 608 Winding roller 609 Substrate heating heater 610 Conveying support section and ground electrode 611 of a conveying device using a curved roller method Thermocouple 701 Flexible substrate 702 Curved roller method ground electrode 703 Counter electrode 704 Unwinding vacuum chamber 705 For winding Vacuum chamber 706 Deposition chamber 707 Unwinding roller 708 Winding roller 709 Guide rollers 710 cylindrical can type electrodes 801 and 802 heat transfer area 803 heater block 804 cylindrical roller 805 heater block and the roller clearance 806 heater block and substrate gap 807 flexible substrate with a built-in heater body

Claims (14)

対向した2つの電極の一方が複数(2を除く)の円筒形ローラーを有しており、
前記複数の円筒形ローラーは、弧に沿って配列されており、
前記2つの電極の他方は、前記弧に沿った曲面を有しており、
前記複数の円筒形ローラーにより可撓性基板が搬送され
前記可撓性基板が前記円筒形ローラーに接触する抱き角は、それぞれ正であることを特徴とする成膜装置。
One of the two opposing electrodes has a plurality (excluding 2) of cylindrical rollers,
The plurality of cylindrical rollers are arranged along an arc;
The other of the two electrodes has a curved surface along the arc;
A flexible substrate is conveyed by the plurality of cylindrical rollers ,
The film forming apparatus characterized in that the holding angle at which the flexible substrate contacts the cylindrical roller is positive .
対向した2つの電極の一方が複数(2を除く)の円筒形ローラーを有しており、
前記複数の円筒形ローラーは、弧に沿って配列されており、
前記2つの電極の他方は、前記弧に沿った曲面を有しており、
前記複数の円筒形ローラーにより可撓性基板が搬送される成膜用真空室を複数有し
前記可撓性基板が前記円筒形ローラーに接触する抱き角は、それぞれ正であることを特徴とする成膜装置。
One of the two opposing electrodes has a plurality (excluding 2) of cylindrical rollers,
The plurality of cylindrical rollers are arranged along an arc;
The other of the two electrodes has a curved surface along the arc;
A plurality of vacuum chambers for film formation in which a flexible substrate is conveyed by the plurality of cylindrical rollers ;
The film forming apparatus characterized in that the holding angle at which the flexible substrate contacts the cylindrical roller is positive .
請求項2において、
前記成膜用真空室内にガスを導入する手段と、前記ガスを排気する手段と、を有することを特徴とする成膜装置。
In claim 2,
A film forming apparatus comprising: means for introducing a gas into the film forming vacuum chamber; and means for exhausting the gas.
請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記可撓性基板の搬送部を有し、
前記可撓性基板の搬送部は、前記搬送支持部と第1及び第2のローラーとを有し、
巻き出し用真空室と、巻き取り用真空室と、を有し、
前記第1のローラーは、前記巻き出し用真空室内に配置されており、
前記第2のローラーは、前記巻き取り用真空室内に配置されており、
前記搬送支持部は、前記第1のローラーと前記第2のローラーとの間に配置されており、
前記可撓性基板の搬送は、前記第1のローラーから巻き出され前記第2のローラーで巻き取られることによって行われることを特徴とする成膜装置。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
A transporting part for the flexible substrate;
The conveyance part of the flexible substrate has the conveyance support part and first and second rollers,
An unwinding vacuum chamber and a winding vacuum chamber;
The first roller is disposed in the unwinding vacuum chamber,
The second roller is disposed in the take-up vacuum chamber,
The transport support portion is disposed between the first roller and the second roller,
The film forming apparatus is characterized in that the flexible substrate is conveyed by being unwound from the first roller and wound up by the second roller.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、接地されており、
前記2つの電極の他方は、電源と接続されていることを特徴とする成膜装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
One of the two electrodes is grounded;
The other of the two electrodes is connected to a power source.
請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、ヒーターと兼用されていることを特徴とする成膜装置。
In any one of Claims 1 thru | or 5,
One of the two electrodes is also used as a heater.
請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の成膜装置は、プラズマCVD装置であることを特徴とする成膜装置。   7. The film forming apparatus according to claim 1, wherein the film forming apparatus is a plasma CVD apparatus. 可撓性基板を搬送しながら、前記可撓性基板上に成膜を行う太陽電池の作製方法であって、
前記成膜は、前記可撓性基板を、2つの電極の一方に設けられた複数(2を除く)の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接触させて搬送しながら行い、
前記複数の円筒形ローラーは、弧に沿って配列され、
前記可撓性基板が前記円筒形ローラーに接触する抱き角は、それぞれ正であり、
前記2つの電極の他方は、前記弧に沿った曲面を有していることを特徴とする太陽電池の作製方法。
A method for producing a solar cell, wherein a film is formed on the flexible substrate while conveying the flexible substrate,
The film formation is performed while bringing the flexible substrate into contact with the curved surfaces of a plurality (excluding 2) of cylindrical rollers provided on one of the two electrodes,
The plurality of cylindrical rollers are arranged along an arc;
The holding angle at which the flexible substrate contacts the cylindrical roller is positive,
The other of said two electrodes has the curved surface along the said arc, The manufacturing method of the solar cell characterized by the above-mentioned.
可撓性基板を複数の成膜用真空室内で搬送しながら、前記可撓性基板上に成膜を行う太陽電池の作製方法であって、
前記成膜は、前記可撓性基板を、2つの電極の一方に設けられた複数(2を除く)の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接触させて搬送しながら行い、
前記複数の円筒形ローラーは、弧に沿って配列され、
前記可撓性基板が前記円筒形ローラーに接触する抱き角は、それぞれ正であり、
前記2つの電極の他方は、前記弧に沿った曲面を有していることを特徴とする太陽電池の作製方法。
A method for producing a solar cell, wherein a flexible substrate is transported in a plurality of film-forming vacuum chambers while forming a film on the flexible substrate,
The film formation is performed while bringing the flexible substrate into contact with the curved surfaces of a plurality (excluding 2) of cylindrical rollers provided on one of the two electrodes,
The plurality of cylindrical rollers are arranged along an arc;
The holding angle at which the flexible substrate contacts the cylindrical roller is positive,
The other of said two electrodes has the curved surface along the said arc, The manufacturing method of the solar cell characterized by the above-mentioned.
請求項又は請求項において、
前記2つの電極の一方と、前記2つの電極の他方と、の間で前記可撓性基板上に成膜が行われることを特徴とする太陽電池の作製方法。
In claim 8 or claim 9 ,
A method for manufacturing a solar cell, wherein film formation is performed on the flexible substrate between one of the two electrodes and the other of the two electrodes.
請求項乃至請求項10のいずれか一項において、
前記可撓性基板の搬送は、前記複数の円筒形ローラーと、第1及び第2のローラーと、によって行われ、
前記第1のローラーは前記可撓性基板を巻き出し、前記第2のローラーは前記可撓性基板を巻き取り、
前記可撓性基板の搬送中は、前記第1のローラーに、前記第2のローラーと逆回転のトルクをかけていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
In any one of Claims 8 to 10 ,
The conveyance of the flexible substrate is performed by the plurality of cylindrical rollers and the first and second rollers,
The first roller unwinds the flexible substrate, the second roller winds the flexible substrate,
During the conveyance of the flexible substrate, a torque reverse to that of the second roller is applied to the first roller.
請求項乃至請求項11のいずれか一項において、
前記成膜は、プラズマCVDによって行われることを特徴とする太陽電池の作製方法。
In any one of Claims 8 thru | or 11 ,
The method of manufacturing a solar cell, wherein the film formation is performed by plasma CVD.
請求項乃至請求項12のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、接地されており、
前記2つの電極の他方は、電源と接続されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
In any one of Claims 8 to 12 ,
One of the two electrodes is grounded;
The other of the two electrodes is connected to a power source.
請求項乃至請求項13のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、ヒーターと兼用されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
In any one of Claims 8 to 13 ,
One of the two electrodes is also used as a heater.
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