JP2011022138A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面に凹部100が形成され、凹部100の底面101に半導体層が露出した半導体基板10と、凹部100内に配置され、且つ側面及び下面に絶縁膜が配置された梁型の可動電極21を有し、可動電極21より離間した位置において半導体基板10に固定された振動子20と、可動電極21に対向して凹部100内に配置され、可動電極21と電気的に分離されて半導体基板10に固定された梁型の固定電極30とを備える。
【選択図】図1
Description
以下に、図9〜図16を参照して、本発明の実施の形態に係る半導体装置1の製造方法を説明する。図9〜図16は、図3と同じ位置の断面図である。なお、以下に述べる半導体装置1の製造方法は一例であり、この変形例を含めて、これ以外の種々の製造方法により実現可能であることは勿論である。
上記のように、実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
2…信号処理回路搭載部
10…半導体基板
11…下部半導体層
12…層間絶縁層
13…上部半導体層
14…上部絶縁膜
20…振動子
21…可動電極
22…バネ部
30…固定電極
40…絶縁分離領域
50、50d…下面絶縁膜
52…側面絶縁膜
54、54a…上面絶縁膜
61、62…電極配線
100、100u…凹部(空洞部)
101…底面
200…側面溝
250…絶縁層
300…カバー膜
400…絶縁分離溝
500…フォトレジスト膜
610、620…開口部
t0、t1、t2…厚さ
ΔD…振れ幅
Claims (20)
- 上面に凹部が形成され、前記凹部の底面に半導体層が露出した半導体基板と、
前記凹部内に前記半導体層の表面と対向するように配置され、且つ側面及び下面に絶縁膜が配置された梁型の可動電極を有し、前記可動電極より離間した位置において前記半導体基板に固定された振動子と、
前記可動電極に対向して前記凹部内に前記半導体層の表面と対向するように配置され、前記可動電極と電気的に分離されて前記半導体基板に固定された梁型の固定電極と
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記振動子と前記半導体基板との接続部分が可撓性を有するバネ形状を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記可動電極と前記固定電極とが交差指状に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記固定電極と前記半導体基板間に絶縁分離領域が配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記可動電極と前記半導体基板間に絶縁分離領域が配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板が下部半導体層、層間絶縁層及び上部半導体層の積層体であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記固定電極の側面および下面に絶縁膜を備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記固定電極及び前記可動電極の上面に絶縁膜を備えることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記可動電極または前記固定電極は、下方に変位していることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板上に配置され、前記半導体装置を封止するカバー膜を備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記半導体装置を駆動する信号処理回路を前記半導体基板上に同一チップで配置したことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 少なくとも2つ以上の容量変化を検出する電極間を備え、前記半導体装置に外力が加わった場合において、一方の電極間で静電容量が増加し、他方の電極間で静電容量が減少し、差動容量を信号として出力することを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 可動電極を有する振動子と、前記可動電極に対向して半導体基板に固定された固定電極とを有する半導体装置の製造方法であって、
下部半導体層、層間絶縁層及び上部半導体層が積層された前記半導体基板を形成する工程と、
前記上部半導体層の一部をエッチングして側面溝を形成し、前記振動子及び前記固定電極の側面を露出させる工程と、
前記振動子及び前記固定電極の側面に側面絶縁膜を形成する工程と、
前記側面溝の底部に露出した前記層間絶縁層を除去して、前記下部半導体層の表面を露出させ、且つ前記振動子及び前記固定電極の下面の前記層間絶縁層を下面絶縁膜として残す工程と、
前記側面絶縁膜及び前記下面絶縁膜をマスクにした等方性エッチングによって前記下部半導体層の上面の一部をエッチングし、前記半導体基板に形成された凹部内に前記振動子及び前記固定電極を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板上に形成した上面絶縁膜をマスクにして前記上部半導体層の一部をエッチングし、前記側面溝を形成することを特徴とする請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記層間絶縁層よりも厚く前記上面絶縁膜を形成することを特徴とする請求項14に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記層間絶縁層よりも前記可動電極上の前記上面絶縁膜を厚く形成することを特徴とする請求項14に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記層間絶縁層よりも前記固定電極上の前記上面絶縁膜を厚く形成することを特徴とする請求項14に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記固定電極と前記半導体基板間に絶縁分離溝を形成する工程と、
前記絶縁分離溝を絶縁膜で埋め込んで絶縁分離領域を形成する工程と
を更に有することを特徴とする請求項13〜17のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記側面溝と前記絶縁分離溝を同時に形成することを特徴とする請求項18に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記側面絶縁膜と前記絶縁分離領域を同時に形成することを特徴とする請求項18又は19に記載の半導体装置の製造方法。
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