JP2011017402A - 除振機構 - Google Patents

Abstract

【課題】精密機器において除振性能の劣化を防止する除振機構を提供する。
【解決手段】精密機器の振動を減衰させる弾性体と、弾性体を上部に固定し、弾性体と側面との間に弾性体が揺動可能な隙間を有し、側面に上部誘導部を備える上支持部と、弾性体の下部に固定され、精密機器を荷重方向に押すことにより上部誘導部と係合して弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、弾性体が誘導されることにより精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、を備える精密機器の底部に設けられる除振機構除振機構。
【選択図】 図２

Description

本発明は、精密機器本体に伝わる振動を防止する除振技術に関する。

精密機器による観察や測定に誤りを発生させる要因のひとつとして、精密機器を設置した台（テーブルなど）の面や床から精密機器に伝わる振動が知られている。精密機器へ伝わる振動を防止する方法として、台（テーブルなど）と精密機器の間や、床と精密機器の間に除振台を設置する方法がある。しかし、除振台は高価であるとともに、除振台を設置すると精密機器を含む装置全体のサイズ及び重量が大きくなってしまう。そこで、精密機器の底部に除振用の弾性体を取り付けて、精密機器へ伝わる振動を防止する提案がされている。

例えば、顕微鏡などの精密機器の下に柔らかい弾性体を、テーブル等の顕微鏡搭載面に硬い弾性体を結合して組み合わせた除振機構を、顕微鏡本体の下の凹部に弾性体の側面と凹部の側面に隙間を空けて４箇所に組み込んだ顕微鏡が提案されている。（特許文献１）この提案では、顕微鏡が大きく揺れた際に、弾性体の側面と顕微鏡の底部の凹部の側面を接触させて顕微鏡の揺れを早く抑える。また、硬い弾性体がテーブル面に接触するため、テーブル面に吸着しないこと、硬い弾性体の表面抵抗を大きくして、顕微鏡設置後にテーブル上で顕微鏡の位置がズレない様にしている。

しかしながら、重い顕微鏡をテーブル面に搭載する際に、４つの弾性体を同時にテーブル面に接地させるのは難しく、最初にテーブル面に接触した弾性体の表面抵抗が大きくなる。そのため、弾性体がテーブル面上で引っ掛かり、弾性体が曲がった状態で顕微鏡がテーブル面に設置される。特に顕微鏡が重たい場合にこの現象は発生し易すく、弾性体が曲がった状態になった場合には除振性能が劣化してしまう。また、一つでも弾性体が曲がると、曲がった弾性体の戻り力によって、他の正常に設置された弾性体も曲げの力が加わり、除振性能が劣化する。

実用新案登録第２６０４８５４号公報

上記のような実情に鑑みてなされたものであり、精密機器において除振性能の劣化を防止する除振機構を提供することを目的とする。

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を荷重方向に押すことにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、を備える除振機構である。

また、前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有する。
また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面の底部に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を上方向に持ち上げることにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備える下支持部と、を備える除振機構である。

また、前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有する。
精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に載せ、回転することにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、を備える除振機構である。

また、前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有する。

また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。
また、前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に隆起して丸みをおびた凸部を、上方向に伸ばした形状を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有する。

また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。
精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有する上支持部と、前記弾性体の下部に固定された下部支持部を備え、前記上支持部と前記下支持部が相対的に移動するとともに、上支持部と下支持部の少なくともどちらか一方に前記弾性体の校正マーク、を備える除振機構である。

精密機器において除振機構の除振性能の劣化を防止することができる。

顕微鏡（精密機器）と除振機構の一例を示す側面図と背面図である。 実施例１の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。 Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは弾性体が荷重方向に縮み、上支持部が下支持部に接近し、上部誘導部と下部誘導部が接触することを示している。ＣはＢに示す状態からさらに、荷重方向に力を加え校正された状態を示す図である。 実施例２における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。 Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは弾性体が縮み、上支持部が下支持部に接近し、上部誘導部と下部誘導部が接触することを示している。ＣはＢに示す状態から校正された状態を示す図である。 実施例３における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。 Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは下部誘導部を回転させて上部誘導部と下部誘導部を接触させ校正したことを示している。ＣはＢに示す状態からさらに回転させた状態を示す図である。 上部誘導部のマークに下部誘導部のマークを回転させて合わせて校正することを示す図である。 実施例４における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。Ａは除振機構を持ち上げた状態を示している。Ｂは除振機構が設置された状態を示している。ＣはＢに示す状態からさらに回転させた状態を示す図である。 Ａは正常に除振されている状態である。Ｂは除振機構の除振性能が劣化している状態を示している。 除振機構の取り付け位置の一例を示す図である。

以下図面に基づいて、本発明の実施形態について詳細を説明する。
図１は、後述する実施例で説明する顕微鏡（精密機器）と除振機構との一例を示す図である。図１には顕微鏡１を設置台３に配置したときの側面図と背面図が示されている。なお、精密機器とは、分析機器、観察機器、測定機器などであり、以降の実施例では顕微鏡について説明をする。除振機構２ａ〜２ｄは、顕微鏡１の重心を中心として、顕微鏡１の底部に均等に配置され、顕微鏡１の底部４に差し込み固定して使用する。また、図１では顕微鏡１の底部４の４箇所に除振機構２ａ〜２ｄを内設しているが、除振機構は顕微鏡１を安定することができれば４箇所に限定するものではない。
また、図１では顕微鏡１の本体に除振機構２ａ〜２ｄが組み込まれて内設しているが、必ずしも内設しなくてもよい。
（実施例１）
図２は、実施例１の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図２に示す除振機構は、弾性体２１ａ、２１ｂ、上支持部５、下支持部６を備えている。弾性体２１ａ、２１ｂは顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体２１ａはバネを用い、弾性体２１ｂにはジェル状、又はゴム等の円柱形状のダンパを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。しかし、弾性体が柔らかいほど除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際の揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例１では図２に示したように、異なる固有値を有する弾性体（バネとダンパ）を組み合わせた構造の弾性体を採用している。なお、弾性体は本例のように必ずしも異なる固有値を有する弾性体を組み合わせなくてもよく、単一の弾性体を用いることもできる。

上支持部５は、顕微鏡１の底部４に設けられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部５は、円錐台形状の穴２４を有し、穴２４の上部２４ａに、弾性体２１ａ、２１ｂの上部を固定し、弾性体２１ａの側面と上支持部５の穴２４の内部側面２５との間に弾性体２１ａ、２１ｂが揺動可能な隙間を有している。上部２４ａと弾性体２１ａ、２１ｂの上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。また、上支持部５の内部側面２５には上部誘導部を備えている。図１の例では上部誘導部は、円錐台の穴２４の上部２４ａ（上底）の外周からＬ（ｍｍ）ずつ広がって円錐台の下底の外周に達する傾斜を有する。
なお、顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの形状の穴が設けられており上支持部５の上面部２４ｂを固定する。上支持部５の上面部２４ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱、直方体形状でなくてもよく、上支持部５が取り付けられる形状を有していればよい。また、必ずしも穴である必要はない。なお、本例では上支持部５は、円錐台形状の穴を有し、円錐台の穴２４の上部２４ａに弾性体２１a、２１ｂを固定しているが、上支持部５を設けずに、弾性体２１a、２１ｂを直接、顕微鏡１の底部に固定してもよい。

なお、本例では傾斜する穴２４の内部側面２５を上部誘導部としているが、必ずしも内部側面２５の傾斜は上部２４外周からすぐに傾斜させなくてもよく、後述する下支持部６の下部誘導部と係合して弾性体２１ａ、２１ｂが誘導され顕微鏡１が配置される設置台の面を滑動部２２が滑動する構造であればよい。例えば、内部側面２５の中間あたりから円錐台の下底の外周に向かって傾斜してもよい。

下支持部６は円柱形状であり、下支持部６の直径は上支持部５の底部開口の直径より短く、上支持部５に挿抜できる形状である。また、下支持部６は、上面２６と弾性体２１ａ、２１ｂの下部を固定し、顕微鏡１を荷重方向に押すことにより上支持部５の上部誘導部と係合して弾性体を定位置に誘導する傾斜部２８（下部誘導部）と、弾性体２１ａ、２１ｂが誘導されることにより顕微鏡１が配置される面を滑動する滑動部２２を備えている。ここで係合するとは、上部誘導部を荷重方向に押す力により、傾斜部２８の傾斜を上部誘導部の端部がずれるように移動して、適正な形状（円柱状）に弾性体２１ａ、２１ｂを校正（アライメント）させるように、上部誘導部と下支持部６が接触することをいう。また、滑動部２２の底面２７は低摩擦にする、例えば、テフロン（登録商標）をコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図２では上記コーティング、別部品などを符号２３により示している。

傾斜部２８は、下支持部６の上面２６の外周から側面２９のいずれかの位置までの傾斜である。また、傾斜部２８の形状は、丸（Ｒ）形状の傾斜にして、誘い込みができる形状であってもよい。上面２６と弾性体２１ａ、２１ｂの下部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。

図３のＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、除振機構２ａ〜２ｄのうちのいずれかの弾性体２１ａ、２１ｂが斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。

図３のＡに示す状態で、作業者が設置台３に設置された顕微鏡１を、顕微鏡１の荷重方向に押すと、図３のＢの状態になる。
図３のＢは、弾性体２１ａ、２１ｂが荷重方向に縮み、上支持部５が下支持部６に接近し、互いの傾斜部である内部側面２５（上部誘導部）と傾斜部２８（下部誘導部）が接触（図３のＢの破線範囲）することを示している。

図３のＢに示す状態からさらに、荷重方向に力を加えると図３のＣの状態になり、設置台３の上面を滑動部２２が滑り、下支持部６が上支持部５と同心となる様に校正される。すなわち、弾性体２１ａ、２１ｂの除振性能が劣化しない位置に校正される（図３のＣの破線範囲）。その後、作業者が顕微鏡１を押すのを止めると、顕微鏡１は、弾性体２１ａ、２１ｂによって浮上し、弾性体２１ａ、２１ｂが適正な形状になり除振が開始される。

上記のような除振機構を精密機器に取り付けることにより、精密機器設置後でも、簡単な構成で、重い精密機器を荷重方向に押すだけで、弾性体２１ａ、２１ｂの校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。

また、滑動部２２を設けることにより、従来のように直接柔らかい弾性体が設置台の表面に接触しないため、弾性体が設置台の表面に吸着し、移設時に設置台の面上に跡をつけること、弾性体がちぎれること、を防止できる。
（実施例２）
図４、５を用い実施例２の説明をする。なお、図１と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。

図４は、実施例２における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの一例を示す構成図あり、実施例２の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図を示す図である。図４に示す除振機構は、弾性体４３、上支持部４１、下支持部４２を備えている。

弾性体４３は顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体４３は円柱状の円形の除振ゴム、バネ、ダンパなどを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。弾性体が柔らかい方が除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際に大きく揺れたとき、揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例２では図４に示したように、最適となる固有値を有する弾性体を採用している。

上支持部４１は、顕微鏡１の底部４にあけられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部４１は、円柱形状の穴を有し、穴の下部に傾斜部４６を備えた形状をしている。弾性体４３の上部を穴４４の上部４４ａに固定して、同心となる様に支持する。また、上支持部４１は、弾性体４３の側面と上支持部４１の側面４５との間に弾性体４３が揺動可能な隙間を有している。上部４４と弾性体４３の上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。また、上支持部５の内部側面４５には上部誘導部を備えている。図４の例では上部誘導部は、内部側面４５の途中から上支持部４１の底面開口の内側に向かって傾斜を有している（傾斜部４６）。顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの穴が設けられており上支持部４１の上面部４４ｂと顕微鏡底部を固定する。上支持部４１の上面部４４ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱または直方体形状でなくてもよく、上支持部４１が取り付けられる形状を有していればよい、また、必ずしも穴である必要はない。

この傾斜部４６は、顕微鏡１を上方向に持ち上げたときに後述する下支持部４２の傾斜部４９（下部誘導部）と係合して弾性体４３が定位置に誘導される構造であればよい。
下支持部４２の上部４８は上支持部４１の内部に入り、下部４１２は上支持部４１の外部に設けられる。また、下支持部４２は、弾性体４３の下部に固定されている。図４の例では、下支持部４２の上部４８は円柱形状をしており、円柱側面の途中から上部４８の底面に達する傾斜部４９（下部誘導部）を有している。また、中部４１１は上部４８の直径Ｌ１（ｍｍ）より小さい直径の円柱形状である。下支持部４２の下部４１２は中部４１１の直径より大きい円柱形状をしている。また、下支持部４２の形状は、下支持部４２の上部の直径Ｌ１（ｍｍ）は上支持部４１の底面開口の直径ｍ２（ｍｍ）より大きく、下支持部４２の下部の直径Ｌ２（ｍｍ）は上支持部４１の底面開口の直径ｍ２（ｍｍ）より大きい形状をしている。つまり、下支持部４２が上支持部４１から落下しない構造を有していればよい。

傾斜部４９の形状は、丸（Ｒ）形状の傾斜にして、誘い込みができる形状であってもよい。上面４７と弾性体４３の下部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。

また、下支持部４２の下面にゴムシートを設けて、設置台３上での下支持部４２の座りを良くしてもよい。
図５のＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、除振機構２ａ〜２ｄのうちのいずれかの弾性体４３が斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。

図５のＡに示す状態で、作業者が設置台３に設置された顕微鏡１を、顕微鏡１の荷重方向と逆方向に持ち上げると図５のＢの状態になる。
図５のＢは、弾性体４３のバネ力と下支持部４２の自重により弾性体４３が伸び、その結果、互いの上支持部４１の傾斜部４６に下支持部４２の傾斜部４９に接近したのち接触することを示している（図５のＢの破線範囲）。

図５のＢに示す状態からさらに、バネ力と下支持部４２の自重により弾性体４３が伸びると図５のＣの状態になり、下支持部４２が上支持部４１と同心となる様に校正される。すなわち、弾性体４３の除振性能が劣化しない位置に校正される。その後、作業者が顕微鏡１を設置台３に上方から静置すると、顕微鏡１の荷重により弾性体４３が縮み、傾斜部４６と傾斜部４９が離れることにより除振が開始される。

また、実施例２では、顕微鏡１を設置する前も、上記と同様に下支持部４２が上支持部４１と同心となるように校正されることになり、作業者が顕微鏡１を設置すると同時に、顕微鏡１は、弾性体４３によってのみ浮上し、校正が解除されて、除振が開始される。

上記のようにすることで、精密機器を設置する前までに、簡単な構成で弾性体４３の校正が維持されるため、除振性能が劣化する可能性を低くできる。また、精密機器設置後でも、精密機器を持ち上げるだけで、弾性体４３の校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例３）
図６、７を用い実施例３の説明をする。なお、図１と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。

図６は、実施例３における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例３の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図６に示す除振機構は、弾性体６５ａ、６５ｂ、上支持部６１、下支持部６２を備えている。

弾性体６５ａ、６５ｂは顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体６５ａはバネを用い、弾性体６５ｂには円柱形状のダンパを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。弾性体が柔らかい方が除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際に大きく揺れたとき、揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例３では図６に示したように、異なる固有値を有する弾性体を組み合わせた構造の弾性体を採用している。なお、弾性体は本例のように必ずしも異なる固有値を有する弾性体を組み合わせなくてもよく、単一の弾性体を用いることもできる。

上支持部６１は、顕微鏡１の底部４に設けられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部６１設けられた円柱形状の穴６３を有し、穴６３の下部に上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃを備えている。なお、上部誘導部は２つ以上あればよい。また、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃの下に、顕微鏡を持ち上げた際に、下支持部６２の抜けを防ぐための抜け防止部６１０を備えている。上支持部６１の穴６３の上部６３ａは、弾性体６５ａ、６５ｂの上部と固定して、同心となる様に支持する。また、上支持部６１は、弾性体６５ａの側面と上支持部６１の穴６３の内部側面６６との間に弾性体６５ａ、６５ｂが揺動可能な隙間を有している。穴６３の上部６３ａと弾性体６５ａ、６５ｂの上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの穴が設けられており上支持部６１の上面部６３ｂを顕微鏡底部に固定する。上支持部６１の上部６３ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱または直方体形状でなくてもよく、上支持部６１が取り付けられる形状を有していればよい、また、必ずしも穴である必要はない。

上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、図６の例では穴６３の内部側面６６の途中から弾性体６５ａ方向に隆起する丸みをおびた凸部形状をしている。例えば、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、半球、楕円体の一部である。また、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、後述する下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃと接触することにより弾性体６５ａ、６５ｂが誘導される構造であればよい。

下支持部６２の上部６９は上支持部６１の内部に入り、下部６４（滑動部）は上支持部６１の外部に設けられる。図４の例では、下支持部６２の上部６９は下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃを側面に備えている。また、中部６１４は上部６９の直径より小さい直径の円柱形状である。下支持部６２の下部６４は中部６１４の直径より大きい円柱形状をしている。また、下支持部６２の形状は、下支持部６２の上部６９の直径は上支持部６１の底面開口の直径より大きく、下支持部６２の下部６４の直径は上支持部６１の底面開口の直径より大きい形状をしている。つまり、下支持部６２の抜けを防ぐための抜け防止部６１０により下支持部６２が上支持部６１から落下しない構造であればよい。

下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの形状は、図６の例では上部６９の外周側面から上支持部６１の穴６３の内部側面６６方向に隆起する丸みをおびた凸部形状をしている。例えば、下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは、半球、楕円体の一部であり、誘い込みができる形状である。上部６９と弾性体６５ａ、６５ｂの下部とは、例えば、下支持部６２の上部６９に弾性体６５ａ、６５ｂの外径と隙間ハメアイ寸法になった凹みを設け、弾性体６５ａ、６５ｂの下部の面は下支持部６２の上部６９の面６１１の上に載せてあり、固定はされていない。

下支持部６２を、図６に示す矢印の方向に回転させることにより、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃと係合して弾性体６５ａ、６５ｂを定位置に誘導する。つまり、下支持部６２は弾性体６５ａ、６５ｂが誘導されることにより顕微鏡１が配置される面を滑動する。ここで係合するとは、下支持部６２を矢印の方向に回転させる力により、下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの端部が上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃの端部と接触し、適正な形状（円柱状）に弾性体６５ａ、６５ｂを校正させることをいう。また、底面６１２は低摩擦にする、例えば、テフロンをコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図６では上記コーティング、別部品などを符号６１３により示している。また、図６に示す下支持部６２と図６に示す箇所以外にある下支持部６２を、一つずつ回転させることにより弾性体を定位置に誘導してもよい。

図７ＡのＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、４つのうち一つの除振機構２ａ〜２ｄがずれて、弾性体６５ａ、６５ｂが斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。

図７ＡのＡの状態で、作業者が下支持部６２を図７ＡのＢに示す上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの位置関係になるまで回転させて、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃを接触させる。つまり、図７ＡのＢの状態に、設置台３の上面を下支持部６２が滑り、下支持部６２が上支持部６１と同心となる校正がされる。その後、図７ＡのＣに示すように、作業者が下支持部６２を上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触しない位置まで回転させると、顕微鏡１は弾性体６５ａ、６５ｂによってのみ浮上し、除振が開始される。なお、下支持部６２の回転時に、弾性体６５ａ、６５ｂは、下支持部６２の面６１１の接触面上を滑ることにより、弾性体６５ａ、６５ｂがねじれることを防いでいる。

ここで、実施例３では上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは３箇所としたが、３箇所にかぎらず下支持部６２を回転させた際に、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触する部分と、接触しない部分を持つ形状であればよい。

また、図７ＡのＢと図７ＡのＣの状態を作業者に目視で分かるようにするために、例えば、上支持部６１と下支持部６２にマークをつけてもよい。例えば、図７Ｂに示すように顕微鏡１の底部から上支持部６１の下部が見えるようにし、上支持部６１と下支持部６２にマーク７１、７２、７３をつけ、下支持部６２を回転させることによって、上支持部６１と下支持部６２のマーク７１とマーク７２を一致させ、図７ＡのＢの状態を作業者に目視で分かるようにし、上支持部６１と下支持部６２のマーク７１とマーク７３を一致させ、図７ＡのＣの状態を作業者に目視で分かるようにしてもよい。なお、顕微鏡１の底部に上支持部６１を全て埋設するときは、顕微鏡側にマーク７２、７３をつけてもよい。
上記のように構成することにより、精密機器を設置した後でも、簡単な構成で、除振機構の下支持部６２を回転させるだけで、弾性体６５ａ、６５ｂの校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例４）
図８を用い実施例４の説明をする。なお、図６、７と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。

図８のＡ〜Ｃは、実施例４における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例４の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図８のＡ〜Ｃに示す除振機構は、弾性体６５ａ、６５ｂ、上支持部８１、下支持部８２を備えている。実施例４と実施例３の構造の違いは、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃである。

上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃの形状は、図８の例では上部６９の外周側面から上支持部６１の側面６６方向に隆起する丸みをおびた形状をし、図６、７に示した下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃよりも上方に伸びた形状をしている。例えば、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃは、半球、楕円体の一部であり、誘い込みができる形状である。上部６９と弾性体６５ａ、６５ｂの下部とは、例えば、下支持部６２の上部６９に弾性体６５ａ、６５ｂの外径と隙間ハメアイ寸法になった凹みを設け、弾性体６５ａ、６５ｂの下部の面は下支持部６２の上部６９の面６１１の上に載せてあり、固定はされていない。

ここで、実施例４では上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは３箇所としたが、３箇所にかぎらず下支持部６２を回転させた際に、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触する部分と、接触しない部分を持つ形状であればよい。

図８のＡの状態は、作業者が顕微鏡１を持ち上げ、設置台３に設置する前の状態を示している。図８のＡの状態は、４つの除振機構２ａ〜２ｄは、顕微鏡１の荷重が弾性体６５ａ、６５ｂに掛かっていない状態であり、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃに下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触している。すなわち、下支持部８２が上支持部８１と同心になるように校正されている状態になる。

図８のＡの状態から、作業者が顕微鏡１を設置台３に設置すると、顕微鏡１の荷重が弾性体６５ａ、６５ｂに掛かることで、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃが下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃに接触しながら荷重方向に移動する。それとともに、弾性体６５ａ、６５ｂが荷重方向に縮み、抜け防止部６１０と下部６４の距離が接近し、図８のＢの状態になる。すなわち、下支持部８２が上支持部８１と同心となるように、弾性体６５ａ、６５ｂが校正された状態を維持する。

図８のＢの状態から、作業者が下支持部８２を図８のＣの状態に、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃに下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触しない位置まで回転させると、顕微鏡１は、弾性体６５ａ、６５ｂによって浮上し、除振が開始される。

また、図８のＡ、Ｂと図８のＣの状態を作業者に目視で分かるようにするために、例えば、上支持部８１と下支持部８２に目印をつけてもよい。
また、顕微鏡１を使用中に上記校正が崩れた場合は、実施例３で説明したように校正をすることで、除振性能を戻すことができる。

上記のように簡単な構成で、精密機器設置後まで、弾性体６５ａ、６５ｂの校正が維持されるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例５）
図９のＡ、Ｂは、実施例５における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例５の除振機構の横断面図と縦断面図の一例を示す図である。図９のＡ、Ｂは実施例１の図２に示した除振機構の下支持部６の下に、さらに円柱形状の校正マーク部９０が設けられている。校正マーク部９０の上面９３と下支持部６の底面は同心となるように固定する。例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。

また、校正マーク部９０の上面にはドーナツ状の校正マーク９１を備え、この校正マーク９１を目安に作業者は弾性体２１ａ、２１ｂが正常な状態であるか否かを判定する。
また、校正マーク部９０の底面９４は低摩擦にする（滑動部２２と同様）。例えば、テフロンをコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図９では上記コーティング、別部品などを符号９５により示している。

図９のＡの状態は、顕微鏡１の荷重が弾性体２１ａ、２１ｂに掛かった正常に除振されている状態である。図９のＢの状態は、図９の顕微鏡１を設置台３に設置した際に、４つのうち一つの除振機構が、顕微鏡１の下支持部６がずれて、弾性体２１ａ、２１ｂが斜めになり、除振機構の除振性能が劣化している状態を示している。

図９のＢの状態で、作業者は、下支持部６の表面に印刷または彫られた校正マーク９１の円内に、上支持部５の外形が入るように下支持部６を移動させ、下支持部６が上支持部５と同心となる位置に校正する。すなわち、弾性体２１ａ、２１ｂの除振性能が劣化しない位置に校正される。図１０に示す図は図９のＡ、Ｂで説明した除振機構の取り付け位置の一例を示す上面図である。例えば、顕微鏡１の底部４の角に校正マーク９１が上方向から確認できるように配置する。

上記のように、精密機器設置後に簡単な構成で、校正マークを指標にして弾性体２１ａ、２１ｂの校正ができる。
また、実施例１〜５によれば、高価な設置台がいらないため、精密機器を含む装置のコストを安価に抑えることができる。

また、除振機構の底部と接触する設置台３の部分に、低摩擦の材料でできたシートを置いて滑りを良くしてもよい。また、図９の上支持部、下支持部にはテーパ（誘導部）が設けられているが、なくてもよい。
また、本発明は、上記実施の形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変更が可能である。

１ 顕微鏡、
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ 除振機構、
３ 設置台、 ４ 底部、
５ 上支持部、
６ 下支持部、
２１ａ、２１ｂ 弾性体、
２２ 滑動部、
２４ 穴、 ２４ａ 上部 ２４ｂ 上面部、
２５ 内部側面、 ２６ 上面、
２７ 底面、 ２８ 傾斜部 ２９ 側面、
４１ 上支持部、
４２ 下支持部、
４３ 弾性体、
４４ 穴、 ４４ａ 上部、 ４４ｂ 上面部、
４５ 内部側面、 ４６ 傾斜部、
４７ 上面、 ４８ 上部、 ４９ 傾斜部、
４１１ 中部、 ４１２ 下部、
６１ 上支持部、
６２ 下支持部、
６３ 穴、 ６３ａ 上部、 ６３ｂ 上面部、
６４ 下部、
６５ａ、６５ｂ 弾性体、
６６ 側面、
６７ａ、６７ｂ、６７ｃ 上部誘導部、
６８ａ、６８ｂ、６８ｃ 下部誘導部、
６９ 上部、
６１０ 抜け防止部、
６１１ 面、 ６１２ 底面、 ６１４ 中部、
７１、７２、７３ マーク、
８１ 上支持部、
８２ 下支持部、
８３ａ、８３ｂ、８３ｃ 上部誘導部、
９０ 校正マーク部、 ９１ 校正マーク、
９３ 上面、 ９４ 底面、

Claims (11)

1. 精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
   前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
   前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、
   前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を荷重方向に押すことにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、
   を備えることを特徴とする除振機構。
2. 前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、
   前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有することを特徴とする請求項１に記載の除振機構。
3. 前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項１または２に記載の除振機構。
4. 精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
   前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
   前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面の底部に上部誘導部を備える上支持部と、
   前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を上方向に持ち上げることにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備える下支持部と、
   を備えることを特徴とする除振機構。
5. 前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、
   前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有することを特徴とする請求項４に記載の除振機構。
6. 精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
   前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
   前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、
   前記弾性体の下部に載せ、回転することにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、
   を備えることを特徴とする除振機構。
7. 前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有し、
   前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有することを特徴とする請求項６に記載の除振機構。
8. 前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項６または７に記載の除振機構。
9. 前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に隆起して丸みをおびた凸部を、上方向に伸ばした形状を有し、
   前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に隆起して丸みをおびた凸部を有することを特徴とする請求項６に記載の除振機構。
10. 前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項９の除振機構。
11. 精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
    前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
    前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有する上支持部と、
    前記弾性体の下部に固定された下部支持部を備え、前記上支持部と前記下支持部が相対的に移動するとともに、上支持部と下支持部の少なくともどちらか一方に前記弾性体の校正マークを備える
    ことを特徴とする除振機構。

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