JP2011014936A - 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に窒化ガリウム系化合物半導体が積層された発光素子において、光取出し面が透光性膜からなり、該透光性膜の表面が該基板面に対して傾斜した平面で構成される凹凸を有し、透光性膜表面の凹凸の形状がドット状または格子状であることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【選択図】図1
Description
また、曲面から構成される凹凸に関しては、加工工程の制御が非常に難しく、実際には狙った形状とすることが困難であるという問題点がある。
本発明において透明あるいは透光性とは、300〜600nmの波長領域における光に対して透光性であることを意味する。
(1)基板上に窒化ガリウム系化合物半導体が積層された発光素子において、光取出し面が透光性膜からなり、該透光性膜の表面が該基板面に対して傾斜した平面で構成される凹凸を有していることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
また、ITOなどの場合、コンタクトメタル層を形成せず、半導体に直接接触させても良く、前述のように、より効率の良い発光の取出しが実現できる。
図1は本実施例で作製した窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の断面を示した模式図であり、図2はその平面を示した模式図である。サファイアからなる基板(1)上に、AlNからなるバッファ層(6)を介して、窒化ガリウム系化合物半導体層(2)を積層した。窒化ガリウム系化合物半導体層(2)は、厚さ8μmのアンドープGaNからなる下地層、厚さ2μmのGeドープn型GaNコンタクト層および厚さ0.02μmのn型In0.1Ga0.9Nクラッド層がこの順序で積層されたn型半導体層(3)、厚さ16nmのSiドープGaN障壁層および厚さ2.5nmのIn0.06Ga0.94N井戸層を5回積層し、最後に障壁層を設けた多重量子井戸構造の発光層(4)、および厚さ0.01μmのMgドープp型Al0.07Ga0.93Nクラッド層と厚さ0.18μmのMgドープp型Al0.02Ga0.98Nコンタクト層がこの順序で積層されたp型半導体層(5)からなっている。p型AlGaNコンタクト層上に、厚さ1nmのNiコンタクトメタル層(11)、厚さ2μmのZnO電流拡散層(12)およびAu/Ti/Al/Ti/Au5層構造(厚さはそれぞれ50/20/10/100/200nm)のボンディングパッド層(13)よりなる正極(10)を形成した。電流拡散層(12)の表面には、図2に示されるようなドット状パターンの斜め面を有する凸部を設けた。n型GaNコンタクト層上にTi/Auの二層構造の負極(20)を形成した。光取り出し面は半導体側とした。
まず、公知のフォトリソグラフィーの技術を用いてドット状のパターンのレジスト膜を形成した。レジストはポジ型と呼ばれる露光部分が現像処理で溶け出すものを使用し、レジストへの露光の時間を通常用いるよりも短くして、マスクパターンの縁の部分に露光不足の領域を作り出した。これを露光することにより、斜めの縁を有するレジストパターンを作製した。
本実施例では、p型AlGaNコンタクト層上にGeをドープしたトンネル層を設けたこと、コンタクトメタル層を設けずに電流拡散層を厚さ1μmのITOとしたこと、および電流拡散層表面の凹凸のパターンをストライプ状としたことを除いて、実施例1と同様に窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を作製した。
本実施例では、コンタクトメタル層を厚さ5ÅのPtとしたこと、電流拡散層を厚さ50ÅのAuとしたこと、電流拡散層上に厚さ2.2μmのSiO2からなる保護膜を形成したこと、その保護膜に格子状の凸部を形成したことを除いて、実施例1と同様に窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を作製した。
この、缶パッケージした状態で実施例1と同様にして、配光性を測定した。チップのどの辺の方向から見ても、発光強度には変わりがなかった。
電流拡散層上に施す加工を、断面が長方形であるような四角柱のドットとしたこと以外は、実施例1と同様に窒化ガリウム系化合物半導体発光素子を作製した。この発光素子を実施例1と同様に評価したところ、順方向電圧は3.3Vと同じであったが、発光出力は8mWであった。
2 GaN系化合物半導体層
3 n型半導体層
4 発光層
5 p型半導体層
6 バッファ層
10 正極
11 コンタクトメタル層
12 電流拡散層
13 ボンディングパッド層
14 保護膜
20 負極
Claims (1)
- 基板上に窒化ガリウム系化合物半導体が積層された発光素子において、光取出し面が透光性膜からなり、該透光性膜の表面が該基板面に対して傾斜した平面で構成される凹凸を有し、透光性膜表面の凹凸の形状がドット状または格子状であることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
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