JP4535053B2 - 発光ダイオードの配線の形成方法、発光ダイオード実装基板、ディスプレイ、バックライト、照明装置および電子機器 - Google Patents
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Description
そこで、この発明が解決しようとする課題は、発光素子を基板上に実装する際に発光素子の位置ずれが生じたり、配線を形成する際に配線の位置ずれが生じたりしても、発光面上の電極と配線とを確実に接続することができ、しかも発光素子の位置ずれや配線の位置ずれに起因する発光素子の輝度の変動を防止することができる発光素子の配線の形成方法およびこれを利用した発光素子実装基板を提供することである。
この発明が解決しようとする他の課題は、上記のような優れた発光素子実装基板を用いたディスプレイ、バックライト、照明装置および電子機器を提供することである。
発光面上に電極を有する発光素子の配線の形成方法であって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させるようにした
ことを特徴とするものである。
発光面上に電極を有する発光素子が基板上に実装された発光素子実装基板であって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させた
ことを特徴とするものである。
ここで、典型的には、発光素子はその発光面を上にして基板上に実装される。
第2の発明においては、上記以外のことについては、その性質に反しない限り、第1の発明に関連して説明したことが成立する。
発光面上に電極を有する発光素子が基板上に実装された発光素子実装基板を有するディスプレイであって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させた
ことを特徴とするものである。
発光面上に電極を有する発光素子が基板上に実装された発光素子実装基板を有するバックライトであって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させた
ことを特徴とするものである。
このバックライトは、典型的には、発光素子として発光ダイオードを用いた発光ダイオードバックライトであるが、これに限定されるものではない。この発光ダイオードバックライトは、典型的には、赤色発光の発光ダイオード、緑色発光の発光ダイオードおよび青色発光の発光ダイオードを配線基板などの上にそれぞれ複数個配列したものであり、これらの赤色発光の発光ダイオード、緑色発光の発光ダイオードおよび青色発光の発光ダイオードのうちの少なくとも一つの発光ダイオードにおいて、発光面上の電極を発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、この電極に接続する配線を発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成してこの電極と交差させる。
発光面上に電極を有する発光素子が基板上に実装された発光素子実装基板を有する照明装置であって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させた
ことを特徴とするものである。
この照明装置は、典型的には、発光素子として発光ダイオードを用いた発光ダイオード照明装置であるが、これに限定されるものではない。この発光ダイオード照明装置は、典型的には、赤色発光の発光ダイオード、緑色発光の発光ダイオードおよび青色発光の発光ダイオードを配線基板などの上にそれぞれ複数個配列したものであり、これらの赤色発光の発光ダイオード、緑色発光の発光ダイオードおよび青色発光の発光ダイオードのうちの少なくとも一つの発光ダイオードにおいて、発光面上の電極を発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、この電極に接続する配線を発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成してこの電極と交差させる。
第3〜第5の発明においては、赤色発光の発光ダイオード、緑色発光の発光ダイオードおよび青色発光の発光ダイオードとしては、例えば、窒化物系III−V族化合物半導体を用いたものを用いることができる。赤色発光の発光ダイオードとしては、例えば、AlGaInP系半導体を用いたものを用いることもできる。
発光面上に電極を有する発光素子が基板上に実装された発光素子実装基板を有する電子機器であって、
上記電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成して上記電極と交差させた
ことを特徴とするものである。
第3〜第6の発明においては、上記以外のことについては、その性質に反しない限り、第1の発明に関連して説明したことが成立する。
また、発光素子として、発光ダイオード構造を形成する半導体層がその主面に対して角度θ1 傾斜している端面を有する発光ダイオードであって、その端面の外部に、その端面に対向し、かつ上記の主面に対して上記の角度θ1 より小さい角度θ2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有するものを用いる場合、動作時に半導体層の内部(発光層)で発生した光は、半導体層の主面に対して傾斜している端面から出射した後、この端面の外部に設けられた反射体で発光面側に反射される結果、外部に取り出すことができる光の割合を大きくすることができる。
まず、この発明の第1の実施形態について説明する。この第1の実施形態においては、発光ダイオードを基板上に実装する場合について説明する。
図1はこの第1の実施形態において基板上に実装する発光ダイオードを示す。ここで、図1AおよびBはそれぞれ断面図および底面図である。
n型半導体層11、発光層12およびp型半導体層13に用いる半導体は必要に応じて選択されるが、具体的には、例えば、GaN系半導体、AlGaInP系半導体などである。
図5に示すように、この第2の実施形態は、基板21上に実装する発光ダイオード10の発光面の形状が八角形であることを除いて、第1の実施形態と同様である。
この第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の利点を得ることができる。
次に、この発明の第3の実施形態について説明する。
図6に示すように、この第3の実施形態は、基板21上に実装する発光ダイオード10の発光面の形状が角が丸まった長方形状であることを除いて、第1の実施形態と同様である。
この第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の利点を得ることができる。
次に、この発明の第4の実施形態について説明する。
図7に示すように、この第4の実施形態は、基板21上に実装する発光ダイオード10がその中心軸の周りに回転した状態で実装されており、配線24をn側電極15と斜めに交差するように形成してこのn側電極15と接続することを除いて、第1の実施形態と同様である。
この第4の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の利点を得ることができる。
この第5の実施形態においては、図1に示す発光ダイオード10の代わりに図8に示す発光ダイオード30を基板21上に実装することが第1の実施形態と異なる。
図8に示すように、この発光ダイオード30においては、n型半導体層31、発光層32およびp型半導体層33により発光ダイオード構造が形成されていることは図1に示す発光ダイオード10と同様であるが、この場合、これらのn型半導体層31、発光層32およびp型半導体層33は全体として例えば円形の平面形状を有し、その端面(側面)34はn型半導体層31の下面に対して角度θ1 傾斜している。これらのn型半導体層31、発光層32およびp型半導体層33の直径方向の断面形状は台形(θ1 <90度)、長方形(θ1 =90度)または逆台形(θ1 >90度)であり、p型半導体層33上には、例えば円形のp側電極35が形成されている。端面34およびp側電極35の周囲の部分のp型半導体層33の上面を覆うように透明樹脂36が形成されている。そして、この透明樹脂36およびp側電極35の全体を覆うように反射膜37が形成されている。n型半導体層31の発光面である裏面には、この裏面の直径方向に延在する直線状の細長い長方形状のn側電極38が形成されている。
(1)透明樹脂36の斜面36aはn型半導体層31の下面に対して角度θ2 傾斜しており、したがって反射膜37もn型半導体層31の下面に対して角度θ2 傾斜している。ここで、θ2 <θ1 である。これによって、発光層32から発生し、端面34から出射する光は、この反射膜37により反射されて下方に向かい、外部に取り出されやすくなる。
(2)n型半導体層31、発光層32およびp型半導体層33の全体の平均屈折率をn1 としたとき、透明樹脂36の屈折率n2 は空気の屈折率<n2 <n1 となっている。これによって、発光層32から発生し、端面34に入射した光は、端面34の外部の媒質が空気である場合に比べて、この端面34から外部に出射しやすくなり、最終的に外部に取り出されやすくなる。
(3)発光ダイオード構造の最大径、すなわちn型半導体層31の下面の直径をa、全体の厚さ(高さ)をbとしたとき、アスペクト比b/aは0.001〜2、bは0.3〜10μmの範囲内にある。
(4)反射膜37の材料には発光波長の光に対する反射率が極力高いもの、例えばAgやAgを主成分とする金属などを用いる。これによって、端面34やp型半導体層33の上面から外部に出射した光をこの反射膜37により効率よく反射させることができ、最終的に外部に取り出されやすくなる。また、この反射膜37はp側電極35とオーミックコンタクトしており、p側電極35の一部あるいはp側電極35に接続される配線の一部を兼用している。これによって、p側電極35の抵抗の低減を図ることができ、動作電圧の低減を図ることができる。
(5)反射膜37は、図9に示すように、30度≦θ1 ≦90度のときには端面34をこれに垂直な方向に、90度<θ1 ≦150度のときには端面34をこれに垂直な方向を光取り出し面、すなわちn型半導体層31の下面で折り返した方向に、透明樹脂36の斜面36a上に投影した領域を少なくとも含むように形成されている。これによって、発光層32から発生し、端面34から出射する光のほとんどが、この反射膜37により反射されて下方に向かい、外部に取り出されやすくなる。
(6)反射膜37は、端面34の上の透明樹脂36上だけでなく、p型半導体層33の上面の透明樹脂36上およびp側電極35上に形成されている。これによって、発光層32から発生し、端面34から出射する光だけでなく、p型半導体層33の上面から出射する光も、この反射膜37により反射されて下方に向かい、外部に取り出されやすくなる。
(7)θ1 、θ2 は、30度≦θ1 ≦150度かつ、30度≦θ1 ≦90度のときθ2 ≧(θ1 −sin-1(n3 /n2 ))/2かつθ2 ≦θ1 /2、90度<θ1 ≦150度のときθ2 ≧((θ1 −90)−sin-1(n3 /n2 ))/2かつθ2 ≦(θ1 −90)/2を満たすように選ばれている。ここで、n3 は透明樹脂36の下面に接する外部の媒質の屈折率である。θ1 >90度の場合には、発光面で全反射した光が反射膜37に入射する。図10に示すように、上記のθ2 ≧(θ1 −sin-1(n3 /n2 ))/2あるいはθ2 ≧((θ1 −90)−sin-1(n3 /n2 ))/2は、端面34からこれに垂直な方向に出射した光が透明樹脂36と外部の媒質との界面で全反射されない条件である。また、θ2 ≦θ1 /2あるいはθ2 ≦(θ1 −90)/2は、透明樹脂36側から端面34に光が入射しない条件である。
(8)n側電極38は、少なくともその長手方向の両端部を除いた部分が、p型半導体層33の上面をこれに垂直な方向にn型半導体層31の下面に投影した領域内に形成されている。これによって、次のような利点を得ることができる。すなわち、このGaN系発光ダイオードにおいては、発光層32から発生し、端面34により反射されて下方に向かい、外部に取り出される光の大部分は、端面34をn型半導体層31の下面に投影した領域内に集中している。n側電極38がこの領域に形成されると、外部に取り出される光がこのn側電極38により遮られて光量の損失が生じるため、n側電極38は可能な限りこの領域を避けて、言い換えれば、p型半導体層33の上面をこれに垂直な方向にn型半導体層31の下面に投影した領域内に形成するのが好ましい。
この発光ダイオード30が例えばGaN系発光ダイオードである場合、その各部の寸法、材料などの具体例を挙げると次のとおりである。n型半導体層31はn型GaN層でその厚さは例えば2600nm、発光層32の厚さは例えば200nm、p型半導体層33はp型GaN層でその厚さは例えば200nmである。発光層32は、例えば、InGaN井戸層とGaN障壁層とからなるMQW構造を有し、InGaN井戸層のIn組成は、このGaN系発光ダイオードが青色発光である場合は例えば0.17、緑色発光である場合は例えば0.25である。発光ダイオード構造の最大径、すなわちn型半導体層31の下面の直径をaとすると、aは例えば20μmである。上記のようにn型半導体層31としてのn型GaN層の厚さが2600nm、発光層32およびp型半導体層33としてのp型GaN層の厚さがそれぞれ200nmである場合、この発光ダイオード構造の全体の厚さは2600+200+200=3000nm=3μmである。この場合、発光ダイオード構造のアスペクト比は、この発光ダイオード構造の全体の厚さ(高さ)をbとすると、b/a=3/20=0.15である。θ1 は例えば50度である。p側電極35は例えばAg/Pt/Au構造の金属多層膜からなり、Ag膜の厚さは例えば50nm、Pt膜の厚さは例えば50nm、Au膜の厚さは例えば2000nmである。p側電極35はAgの単層膜からなるものであってもよい。n側電極38は例えばTi/Pt/Au構造の金属積層膜からなり、Ti膜およびPt膜の厚さは例えばそれぞれ50nm、Au膜の厚さは例えば2000nmである。
図11Aに示すように、まず、例えば主面がC+面で厚さが430μmのサファイア基板39を用意し、サーマルクリーニングを行うことなどによりその表面を清浄化した後、このサファイア基板39上に、例えばMOCVD法により、まず例えば500℃程度の低温で例えば厚さが1000nmのGaNバッファ層40を成長させ、その後1000℃程度まで昇温して結晶化してから、その上にn型不純物として例えばSiがドープされたn型GaN層からなるn型半導体層31、InGaN井戸層とGaN障壁層とからなるMQW構造を有する発光層32およびp型不純物として例えばMgがドープされたp型GaN層からなるp型半導体層33を順次成長させる。ここで、n型GaN層は例えば1000℃程度の温度で成長させ、発光層32は例えば750℃程度の温度で成長させ、p型GaN層は例えば900℃程度の温度で成長させる。また、n型GaN層は例えば水素ガス雰囲気中で成長させ、発光層32は例えば窒素ガス雰囲気中で成長させ、p型GaN層は例えば水素ガス雰囲気中で成長させる。
上記のGaN系半導体層の成長原料は、例えば、Gaの原料としてはトリメチルガリウム((CH3 )3 Ga、TMG)、Alの原料としてはトリメチルアルミニウム((CH3 )3 Al、TMA)、Inの原料としてはトリメチルインジウム((CH3 )3 In、TMI)を、Nの原料としてはアンモニア(NH3 )を用いる。ドーパントについては、n型ドーパントとしては例えばシラン(SiH4 )を、p型ドーパントとしては例えばビス(メチルシクロペンタジエニル)マグネシウム((CH3 C5 H4 )2 Mg)あるいはビス(シクロペンタジエニル)マグネシウム((C5 H5 )2 Mg)を用いる。
次に、基板表面にリソグラフィーにより所定の円形のレジストパターンを形成し、さらに基板全面に例えばスパッタリング法によりAg膜、Pt膜およびAu膜を順次形成した後、このレジストパターンをその上に形成されたAg膜、Pt膜およびAu膜とともに除去する(リフトオフ)。これによって、図11Bに示すように、p型GaN層からなるp型半導体層33上にAg/Pt/Au構造の円形のp側電極35を形成する。
次に、レジストパターン41をマスクとして、例えば塩素系ガスをエッチングガスに用いた反応性イオンエッチング(RIE)法により、テーパーエッチングが行われる条件でn型GaN層からなるn型半導体層31の厚さの途中の深さまでエッチングを行った後、レジストパターン41を除去する。こうして、図12Aに示すように、傾斜角度θ1 の端面34が形成される。
以上により、図8に示すように、目的とする発光ダイオード30が完成する。
以上のように、この第5の実施形態によれば、発光ダイオード30の構造の最適化により、光の取り出し効率を最大化することができ、発光効率の大幅な向上を図ることができる。また、この発光ダイオード30は微細化に適した構造を有しており、例えば数十μm以下のサイズの超小型のものを容易に得ることができる。
図13に示すように、この第6の実施形態においては、第1〜第5の実施形態のいずれかの発光ダイオード10または発光ダイオード30と同様な構造の赤色発光の発光ダイオード50R、緑色発光の発光ダイオード50Gおよび青色発光のマイクロ発光ダイオード50Bを組み合わせて一画素とし、これを基板21上に必要な数だけマトリクス状に配置し、さらに発光ダイオード50R、50G、50Bのn側電極に第1〜第5の実施形態と同様にして配線24を形成し、発光ダイオードディスプレイを製造する。
この第6の実施形態によれば、発光ダイオード50R、50G、50Bのn側電極とこれに接続する配線24とを確実に接続することができ、高信頼性のフルカラー発光ダイオードディスプレイを容易に実現することができる。
例えば、上述の第1〜第6の実施形態において挙げた数値、材料、構造、形状、基板、原料、プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じて、これらと異なる数値、材料、構造、形状、基板、原料、プロセスなどを用いてもよい。
Claims (6)
- 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させるようにした発光ダイオードの配線の形成方法。
- 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードが基板上に実装され、
上記発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させた発光ダイオード実装基板。 - 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードが基板上に実装された発光ダイオード実装基板を有し、
上記発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させたディスプレイ。 - 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードが基板上に実装された発光ダイオード実装基板を有し、
上記発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させたバックライト。 - 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードが基板上に実装された発光ダイオード実装基板を有し、
上記発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させた照明装置。 - 発光ダイオード構造を形成する半導体層が、順次積層されたn型半導体層、発光層およびp型半導体層からなり、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層は全体として円形の平面形状を有し、これらのn型半導体層、発光層およびp型半導体層の端面は上記n型半導体層の下面に対して角度θ 1 傾斜しており、上記p型半導体層上にp側電極が形成され、上記端面の外部に、上記半導体層の屈折率より小さく、空気の屈折率より大きい屈折率を有する透明樹脂を介して、上記端面に対向し、かつ上記n型半導体層の下面に対して上記角度θ 1 より小さい角度θ 2 傾斜している部分を少なくとも一部に含む反射体を有し、上記透明樹脂の屈折率をn 2 、上記透明樹脂の外部の媒質の屈折率をn 3 としたとき、30度≦θ 1 ≦150度かつ、30度≦θ 1 ≦90度のときθ 2 ≧(θ 1 −sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦θ 1 /2、90度<θ 1 ≦150度のときθ 2 ≧((θ 1 −90)−sin -1 (n 3 /n 2 ))/2かつθ 2 ≦(θ 1 −90)/2である発光ダイオードが基板上に実装された発光ダイオード実装基板を有し、
上記発光ダイオードの上記n型半導体層の下面からなる発光面上にn側電極を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、上記n側電極に接続する配線を上記発光面よりも幅が狭いほぼ直線状の形状に形成し、かつ、上記発光面を完全に縦断するように形成して上記n側電極と交差させた電子機器。
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