JP2011003672A - 微細構造体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 低温で軟化し、保存安定性のよいナノインプリント用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 結晶性を有し常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物。
【選択図】 図1
【解決手段】 結晶性を有し常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物。
【選択図】 図1
Description
本発明はナノインプリントに用いられる感光性の樹脂組成物、及び微細構造体の作製方法に関するものである。
近年、半導体素子、マイクロリアクタ、ディスプレイ素子、発光素子、インクジェット記録ヘッド、マイクロセンサなどの微細構造体を高精度で作製する技術として、非特許文献1に記載されている、ナノインプリントと呼ばれる技術が提案されている。これは、所定の微細な凹凸パターンが形成された原盤(一般にモールドと呼ばれる)を、基板に設置した樹脂等にプレス成形してモールドのパターンを樹脂に転写する技術である。
ナノインプリントには一般的に、熱ナノインプリント方式とUVナノインプリント方式がある。熱ナノインプリントは熱可塑性樹脂が設置された基板を加熱して軟化させてからモールドをプレス成形して樹脂にパターンを転写する方式である。一方UVナノインプリントは基板上の感光性樹脂にモールドをプレスした状態で紫外線を照射して、感光性樹脂を硬化させた後にモールドを除去して樹脂にパターンを転写する方式である。
また、感光性樹脂を熱で軟化させてからモールドをプレス成形した後に紫外線を照射することで感光性樹脂を硬化させ、モールドを除去して樹脂にパターンを転写するという、熱ナノインプリントとUVナノインプリントとを組み合わせた方式も提案されている。この方法は、常温ではモールドのパターンを転写することが困難な、常温で固体もしくは高粘度の感光性樹脂に対しても、加熱により軟化させることで低圧・短時間で容易にパターンを転写することができる。そのため、様々な感光性樹脂の種類に対してナノインプリントを適用できるという利点がある。
特許文献1には、軟化点が低温であるエポキシ樹脂を含む、UVナノインプリントに適したカチオン重合型の感光性樹脂組成物が開示されている。
ナノインプリント応用事例集(株式会社情報機構、2007年9月18日)
しかしながら、特許文献1に記載の感光性樹脂組成物は、主成分のエポキシ樹脂の軟化点が低温であるために、基板に塗布した場合、その塗布表面を乾燥状態にすることができず、付着物等が発生しやすくなるという懸念がある。また吸着した付着物は除去しづらいため、パターン転写後の形状に影響を及ぼす可能性がある。
一方、常温で固体のモノマー及び/又はプレポリマーをナノインプリントによりパターニングする場合、通常樹脂のガラス転移温度以上に加熱して樹脂を軟化させて行う。しかし、従来ナノインプリントで用いられている常温で固体のモノマー及び/又はプレポリマーの場合、十分なモールドへの充填性や残膜厚の薄さを達成するためには、加熱温度や印加圧力を高める、印加する時間を長くするなどの対策が必要な場合がある。しかし加熱温度や印加圧力の増大は基板やモールド及びモールド表面に成膜されている離型剤などの破損や劣化を招く場合がある。また、加熱、加圧時間の延長は当然、プロセス全体に必要な時間が増えるという問題がある。そこで、ガラス転移温度が比較的低い常温で固体のモノマー及び/又はプレポリマーを用いた場合、加熱により粘度が低くなりやすいため、上述したモールドへの充填性や残膜厚は改善される。しかし一般に、ガラス転移温度が常温に近くなるに従い、樹脂はブロッキングを起こしやすくなるため、固体状態での保存安定性に劣ることとなる。
本発明は上記に鑑みなされたものであって、保存安定性に優れ、ナノインプリント法により低圧・短時間で容易にパターンを作製することが可能な感光性樹脂組成物を提供することを目的の一つとする。
本発明の一例は、結晶性を有する常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物である。
また本発明の一例は、結晶性を有する常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含む樹脂組成物を基板上に提供する工程と、前記樹脂組成物を加熱することにより、前記樹脂組成物を溶融させる工程と、型をもつ原盤の前記型を、溶融された前記樹脂組成物に押し付ける工程と、前記型が押し付けられた状態で前記樹脂組成物に光を照射し、前記樹脂組成物を硬化させることにより、微細構造体を形成する工程と、を有することを特徴とする微細構造体の形成方法である。
本発明によれば、保存安定性に優れ、ナノインプリント法により低圧・短時間で容易にパターンを作製することが可能な感光性樹脂組成物を提供することができる。
まず、本発明で用いられるナノインプリント用樹脂組成物について説明する。
本発明で用いられるナノインプリント用樹脂組成物は、結晶性を有する常温で固体のカチオン重合性の化合物であるモノマーおよび/又はプレポリマーと、光カチオン重合開始剤と、を含んでいる。
結晶性を有するカチオン重合性のモノマーおよび/又はプレポリマーは、X線回折により多数の結晶のピークを示し、融点は常温より高くシャープであり、融点以上の温度では分子間相互作用が殆ど無くなり極端に粘度が低い性質を有するものである。また、結晶性を有するカチオン重合性のモノマーやプレポリマーとは、エポキシ基やビニルエーテル基やオキセタン基を有するモノマーやプレポリマーなどが挙げられるが、これに限られるものではない。
好ましい結晶性エポキシモノマー又はプレポリマーとしては下記式(1)で表される化合物が挙げられる。
[ただし、Gはグリシジル基を示し、nは0以上の数字を示し、Xは式(A)、下記式(B)、および下記式(C)のいずれかにより表される基を示す。]
(ただし、R1〜R4はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示す)
(ただし、R5〜R8はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示す)
(ただし、R9〜R16はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示し、Yは、酸素原子、硫黄原子、メチレンおよび下記式(a)から選ばれる基又は単結合を示す)
(ただし、R17〜R20はそれぞれ水素原子、メチル基を示す)
式(1)で表される化合物の例を名称で例示すると、4,4’−ジヒドロキシビフェニルのジグリシジルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテルのジグリシジルエーテル、が挙げられる。また、3,3’,5,5’−テトラメチル−ビスフェノールFのジグリシジルエーテルも挙げられる。
また、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドのジグリシジルエーテル、1,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシクミル)ベンゼンのジグリシジルエーテル、ヒドロキノンのジグリシジルエーテルなどが挙げられる。その他にも、テレフタル酸のジグリシジルエステルなどが挙げられる。
また、特開平8−092231、特開2002−138130、特開2002−338656、特開2004−035762、特開2006−307011に記載のエポキシ樹脂も用いることができる。
具体的には東都化成社製YDC−1312、YSLV−50TE、YSLV−80XY、YSLV−80DE、YSLV−90CR、YSLV−120TE、GK−8001、GK−4260(商品名)等が使用可能である。ナガセケムテックス社製デナコールEX−203、デナコールEX−711、デナコールEX−731(商品名)、ジャパンエポキシレジン社製YX4000シリーズ、YL6121シリーズ、YL6640、YL6643、YL6677(商品名)も挙げられる。また、これらのモノマーやプレポリマーは単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
これらの結晶性のモノマーやプレポリマーは、常温では固体として取り扱える。また、その分子量は凡そ300以上3000以下である。
さらに、ナノインプリントにてパターンを形成する際には、融点以上に加熱することで非常に低粘度になるため、保存時の耐ブロッキング性の向上とナノインプリント時のパターン充填性の向上及び残膜厚の低減を両立させることができる。さらに、常温で固体であることから、長期間の保管の場合に反応が進行して使用時の反応性が低下するなどの問題は起こりにくく、保存安定性が高い。本発明に適用可能なカチオン重合性化合物は、結晶性を有し、上述の特性を享受できれば、上記で例示したエポキシモノマー、プレポリマーに限定されない。
光カチオン重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によりカチオンを発生する化合物であれば特に限定されない。好適な例として芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、トリアジン等が挙げられる。具体的にはみどり化学社製BBI−103、BBI−102(商品名)、などが挙げられる。
また、必要に応じて反応性を向上させる目的で増感剤を加えても良い。増感剤としては、アントラセン誘導体、アントラキノン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、ペリレン誘導体、ベンゾフェノン誘導体などが挙げられる。
さらに、本発明の趣旨を損なわない範囲で、必要に応じて密着性向上剤、イオンキャッチャー、無機充填剤等の添加剤を適宜添加することができる。
従来の常温で液体の感光性樹脂組成物の場合、それぞれの溶解性を考慮してこれらの感光性樹脂組成物を構成する化合物を組み合わせないと均一な液体が得られなかったり、長期保存時に析出や分離等が発生したりする場合があった。一方、本発明で用いられる感光性樹脂組成物においてはこれらの問題を考慮する必要は無く、従来では使用が困難であった溶媒への溶解性が低い化合物等も用いることができる。
これらの感光性樹脂組成物を構成している化合物は全て、その融点が50℃以上170℃以下であることが望ましい。これより高いとナノインプリントによって加工する際に相当な高温を必要とし、ナノインプリント装置やモールド、離型剤などへの負荷が大きい。
続いて、本発明における前記ナノインプリント用樹脂組成物を用いた微細構造体の作製方法について図を用いて説明する。
(1)基板102上に前記の感光性樹脂組成物101を提供し設置する(図1−a)。
前記感光性樹脂組成物101は粉末状であってもよいし、ペレット状に成形されていてもよい。粉末状の場合、転写するモールドのパターンの粗密や深さに合わせて、基板102上に設置する量や位置を自由に制御でき、パターン転写時の充填効率の向上やパターン形状の改善が可能である。一方ペレット状の場合には取り扱いが容易であり、使用量が常に一定の場合には基板上に設置する量を毎回測定・制御する必要が無いため好適である。
前記感光性樹脂組成物101は粉末状であってもよいし、ペレット状に成形されていてもよい。粉末状の場合、転写するモールドのパターンの粗密や深さに合わせて、基板102上に設置する量や位置を自由に制御でき、パターン転写時の充填効率の向上やパターン形状の改善が可能である。一方ペレット状の場合には取り扱いが容易であり、使用量が常に一定の場合には基板上に設置する量を毎回測定・制御する必要が無いため好適である。
また、粉末及び基板は、この状態では当然ながら乾燥しているため、常温で液体の感光性樹脂組成物や軟化点が低温の感光性樹脂組成物を基板に塗布した場合に比べて異物の吸着は低減される。
(2)次いで、加熱により感光性樹脂組成物101を溶融させる(図1−b)。
感光性樹脂組成物101は結晶性であるため、感光性樹脂組成物101が溶融する温度以上に加熱すると、急激に粘度が低い液体になり、基板上に濡れ広がる。また、溶媒や反応性希釈剤などの揮発性の化合物を含んでいないため、取り扱いが容易であり、使用負荷が低減される。
感光性樹脂組成物101は結晶性であるため、感光性樹脂組成物101が溶融する温度以上に加熱すると、急激に粘度が低い液体になり、基板上に濡れ広がる。また、溶媒や反応性希釈剤などの揮発性の化合物を含んでいないため、取り扱いが容易であり、使用負荷が低減される。
(3)次いで、目的構造物の型が凸形状で形成された活性エネルギー線を透過する原盤であるモールド103の型部を感光性樹脂組成物101に押し付ける(図1−c)。凸形状の幅は、微細な部位で1〜20μm程度、広い部位は50〜200μm程度である。無論これに限定されない。
モールド103の凸形状が形成された側の面を押し付けていく過程で樹脂組成物101をパターン全体に押し広げてモールドの凸部と凸部の間に充填させていく。凸部同士の間は、凸の先端または中間を基準にとれば、凹部となる。また、モールド103を押し付ける際の圧力は樹脂組成物101の物性に従って好適な値をとることができる。例えば0.1〜10MPaである。さらに、樹脂組成物101とモールド103の間に気泡等が残留しないように、これらのナノインプリント工程を真空中又は減圧中で行っても良い。
活性エネルギー線を透過するモールド103としては、樹脂組成物101が硬化するのに必要な活性エネルギー線を一部でも透過すれば良く、ガラス、石英、樹脂等が挙げられる。モールドの耐久性等を鑑み、モールドから転写したレプリカをモールド103として用いても良い。
また、予め必要十分に加熱したモールドを感光性樹脂組成物101に押し付け、感光性樹脂組成物101を溶融させながらプレスを行い、(2)、(3)の工程を簡略化することも可能である。
(4)次いで、前記感光性樹脂組成物101に活性エネルギー線104を照射することで、硬化させ、硬化物を得る(図1−d)。
活性エネルギー線104としては樹脂組成物101を硬化させるものであれば、特に限定されない。例えば紫外線、可視光線、赤外線、X線、γ線等が挙げられる。この中では紫外線が好ましく用いられる。また、樹脂組成物101は加熱されているため、硬化反応は常温での露光に比べて促進される。さらに硬化反応を促進することを目的として、活性エネルギー線の照射後もしばらく加熱状態を保持しても良い。
活性エネルギー線104としては樹脂組成物101を硬化させるものであれば、特に限定されない。例えば紫外線、可視光線、赤外線、X線、γ線等が挙げられる。この中では紫外線が好ましく用いられる。また、樹脂組成物101は加熱されているため、硬化反応は常温での露光に比べて促進される。さらに硬化反応を促進することを目的として、活性エネルギー線の照射後もしばらく加熱状態を保持しても良い。
(5)前記モールド103を感光性樹脂組成物101から取り除く(図1−e)。
モールド103を取り除く方法は剥離、溶解、融解等が挙げられるが、複数回用いることができることから、剥離が望ましい。また剥離時に樹脂組成物101の一部がモールド103に付着することを防止するために、モールド103に離型剤を塗布する等の離型処理を施しても良い。離型剤の例としては、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリクロロシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリクロロシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリクロロシランが挙げられる。また、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリメトキシシランが挙げられる。また、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。他に、ダイキン工業社製オプツールシリーズ(商品名)、住友スリーエム社製ノベックEGC−1720(商品名)、ティーアンドケー社製NANOSシリーズ(商品名)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)等を挙げることができる。離型処理の方法としては、ディッピング、スピンコート、スリットコート、スプレーコート、蒸着等、用いる離型剤に応じて好適な方法で行うことができる。
モールド103を取り除く方法は剥離、溶解、融解等が挙げられるが、複数回用いることができることから、剥離が望ましい。また剥離時に樹脂組成物101の一部がモールド103に付着することを防止するために、モールド103に離型剤を塗布する等の離型処理を施しても良い。離型剤の例としては、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリクロロシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリクロロシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリクロロシランが挙げられる。また、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリメトキシシランが挙げられる。また、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。他に、ダイキン工業社製オプツールシリーズ(商品名)、住友スリーエム社製ノベックEGC−1720(商品名)、ティーアンドケー社製NANOSシリーズ(商品名)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)等を挙げることができる。離型処理の方法としては、ディッピング、スピンコート、スリットコート、スプレーコート、蒸着等、用いる離型剤に応じて好適な方法で行うことができる。
これにより微細構造体を得ることができる。本発明の微細構造体の作製方法は、半導体素子、マイクロ流体チップ、ディスプレイ素子、インクジェット記録ヘッド、マイクロセンサ等の作製に好適な方法である。
また、原盤としてのモールドを取り除かずに、エポキシ皮膜が形成された原盤自体を部品として、上記の分野に利用することも可能である。
(実施例1)
表1に示す各化合物の固体をメノウ乳鉢で粉砕し、混合した粉末を感光性樹脂組成物とした。
表1に示す各化合物の固体をメノウ乳鉢で粉砕し、混合した粉末を感光性樹脂組成物とした。
次いで、モールドの離型処理として以下を行った。NTT−ATナノファブリケーション社製ナノインプリント用石英モールドNIM−PH3000(商品名)をハーベス社製離型剤デュラサーフHD−1101TH(商品名)にディッピングした。そして24時間室温で静置した後、住友スリーエム社製ノベックHFE−7100(商品名)でリンスを行い、余剰の離型剤を除去した。
次いで、4インチのシリコン基板上に前記樹脂組成物の粉末を20mg設置した。そしてリソテックジャパン社製ナノインプリント装置LTNIP−2000(商品名)にてシリコン基板を130℃に加熱し、前記樹脂組成物を溶融させた。次いで、前記石英モールドを用いて、3.5MPaの圧力で前記樹脂組成物にプレスした。プレスした状態で15秒間保持した後、前期樹脂組成物に対して露光量1000mJ/cm2で紫外線の照射を行った。次いで、前記石英モールドを離型し、基板を常温まで冷却して微細構造体パターンを得た。
作製されたパターンの外観及び断面を走査型電子顕微鏡にて観察し、パターンの形状及び残膜厚さを調べた。その結果パターンに窪み等は見られず、残膜厚は平均17nmであった。
また、前記感光性樹脂組成物の粉末を1ヶ月間常温で保管した後に目視にて観察したところ、粉末の外観に変化は見られなかった。
(比較例1)
表2に示す各化合物の固体をメノウ乳鉢で粉砕し、混合した粉末を調整したものを感光性樹脂組成物とした以外は、実施例1と同様にナノインプリントを行った。
表2に示す各化合物の固体をメノウ乳鉢で粉砕し、混合した粉末を調整したものを感光性樹脂組成物とした以外は、実施例1と同様にナノインプリントを行った。
作製されたパターンの外観及び断面を走査型電子顕微鏡にて観察し、パターン形状及び残膜厚さを調べた。その結果パターンに窪みは見られず、残膜厚は平均233nmであった。
また、前記感光性樹脂組成物の粉末を1ヶ月間常温で保管した後に目視にて観察したところ、ブロッキングを起こし、粉末は固着していた。
(実施例2)
サーマル型のインクジェット記録ヘッドの作製
まず、インク液滴を吐出するためのインク吐出口、及びインク吐出口にインクを供給するためのインク流路のパターンが形成された石英モールド203を用意した(図2−a)。モールドの離型処理として、石英モールド203をハーベス社製離型剤デュラサーフHD−1101TH(商品名)にディッピングした。そして24時間室温で静置した後、住友スリーエム社製ノベックHFE−7100(商品名)でリンスを行い、余剰の離型剤を除去した。モールド203は、図3(a)に示される斜視図のようにヘッドの形状に合わせて立体的に形成されているものである。
サーマル型のインクジェット記録ヘッドの作製
まず、インク液滴を吐出するためのインク吐出口、及びインク吐出口にインクを供給するためのインク流路のパターンが形成された石英モールド203を用意した(図2−a)。モールドの離型処理として、石英モールド203をハーベス社製離型剤デュラサーフHD−1101TH(商品名)にディッピングした。そして24時間室温で静置した後、住友スリーエム社製ノベックHFE−7100(商品名)でリンスを行い、余剰の離型剤を除去した。モールド203は、図3(a)に示される斜視図のようにヘッドの形状に合わせて立体的に形成されているものである。
次いで、表1に示す各化合物を粉砕、混合した25mgの粉末201を4インチのシリコン基板202上に設置した(図2−b)。次いで、リソテックジャパン社製ナノインプリント装置LTNIP−2000(商品名)にてシリコン基板202を130℃に加熱し、感光性樹脂組成物201を溶融させた(図2−c)。次いで、石英モールド203を用いて、3.5MPaの圧力で樹脂組成物201にプレスした(図2−d)。プレスした状態で15秒間保持した後、樹脂組成物201に対して露光量1000mJ/cm2で紫外線の照射を行った(図2−e)。次いで、石英モールド203を離型し、基板を常温まで冷却してインク吐出口及びインク流路が形成された樹脂組成物201を得た(図2−f)。
次いで、反応性イオンエッチング法(RIE)にて酸素で樹脂組成物201に対してエッチングを行い、残膜を除去した。さらに、インク吐出用のエネルギーを発生するエネルギー発生素子として電気熱変換素子206及びインクを供給するためのインク供給口(図示せず)が形成されたシリコン基板205に樹脂組成物201を貼り合わせた(図2−g)。
次いで、樹脂組成物201を支持していたシリコン基板205を除去し、サーマル型のインクジェット記録ヘッドを完成させた(図2−h)。図3(b)にも示されるようにモールドの型部は流路208、吐出口207となり、流路形成部材209が形成される。吐出口207は所定方向に配列され、それに対応するエネルギー発生素子206が設けられている。
101 201 感光性樹脂組成物
102 202 基板
103 203 モールド
102 202 基板
103 203 モールド
Claims (9)
- 結晶性を有する常温で固体のカチオン重合性の化合物と、光カチオン重合開始剤と、を含むナノインプリント用樹脂組成物。
- 前記光カチオン重合開始剤の増感剤を含むことを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用樹脂組成物。
- 前記カチオン重合性の化合物と、前記光カチオン重合開始剤と、前記増感剤と、の融点が、それぞれ50℃以上170℃以下であることを特徴とする請求項2に記載のナノインプリント用樹脂組成物。
- 前記カチオン重合性の化合物が式(1)で表されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のナノインプリント用樹脂組成物。
[ただし、Gはグリシジル基を示し、nは0以上の数字を示し、Xは式(A)、下記式(B)、および下記式(C)のいずれかにより表される基を示す。]
(ただし、R1〜R4はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示す。)
(ただし、R5〜R8はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を示す。)
(ただし、R17〜R20はそれぞれ水素原子、メチル基を示す。) - 前記ナノインプリント用樹脂組成物が粉末状であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のナノインプリント用樹脂組成物。
- 前記カチオン重合性の化合物の分子量が、300以上3000以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の樹脂組成物を基板上に提供する工程と、
前記樹脂組成物を加熱することにより、前記樹脂組成物を溶融させる工程と、
型をもつ原盤の前記型を、溶融された前記樹脂組成物に押し付ける工程と、
前記型が押し付けられた状態で前記樹脂組成物に光を照射し、前記樹脂組成物を硬化させることにより、微細構造体を形成する工程と、
を有することを特徴とする微細構造体の形成方法。 - 請求項1から6のいずれか1項に記載の樹脂組成物を基板上に提供する工程と、
前記樹脂組成物が溶融する温度以上に加熱された、型をもつ原盤、の前記型を、前記樹脂組成物に押し付けることにより、前記樹脂組成物を溶融させる工程と、
前記型が押し付けられた状態で前記樹脂組成物に光を照射し、前記樹脂組成物を硬化させることにより、微細構造体を形成する工程と、
を有することを特徴とする微細構造体の形成方法。 - 前記樹脂組成物を硬化させて硬化物を得た後に、前記原盤を前記硬化物から除去する工程を有することを特徴とする請求項7または8に記載の微細構造体の形成方法。
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