JP2010540688A - ガラスフレーク顔料及び基材 - Google Patents

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Abstract

ガラスフレークから形成された顔料であって、広範な用途、例えば、塗料、インクジェット印刷、繊維染色、コーティング、印刷インク、プラスチック、化粧品、セラミック及びガラスの光沢剤に使用できる。顔料のためのガラスフレーク基材も提供される。

Description

本発明は、ガラスフレークから形成された顔料に関し、それは広範な用途、例えば、塗料、インクジェット印刷、繊維染色、コーティング、印刷インク、プラスチック、化粧品、セラミック及びガラスの光沢剤に使用できる。また本発明は、そのような顔料の基材にも関する。
コーティングのための透明な担持材料、例えば、高い屈折率をもつシリカ又はガラスなどについて様々な提案がなされ、いわゆる干渉又はエフェクト顔料が提供されている。
コーティングの組成、並びに材料の性質、形状、及びサイズは、コスト効率及び得られる顔料の有効性にとって重要である。
本発明によれば、少なくとも部分的に高屈折率をもつ材料で被覆されたガラスフレークを含む顔料が提供され、当該ガラスフレークは以下を含む：
シリカ：５０〜８０
アルミナ：１〜２０
チタニア：２０まで。
好ましい顔料は、以下：
シリカ：６５〜７５
アルミナ：２〜５
チタニア：５まで
を含むガラスフレークを含むものである。
上記の量は、ガラスフレークの重量に基づく重量％である。
好ましくは、ガラスフレークの厚さは５μｍ未満、より好ましくは１μｍ未満、最も好ましくは２０〜５００ｎｍである。
好ましくは、コーティングの屈折率は少なくとも１．５μｍ、より好ましくは少なくとも１．６μｍ、最も好ましくは少なくとも１．８μｍである。
本発明のガラスフレークは、相対的に高屈折率の層と相対的に低屈折率の層とを含むコーティングを有していてもよい。相対的に低屈折率の材料は、例えば、１．７未満の屈折率を有する。一般に、この層の屈折率は相対的に高屈折率の層よりも低くすべきである。
低屈折率の層で使用しうる材料の例は、シリカ及びアルミナである。
顔料で使用されるガラスフレークの平均粒子サイズは、好ましくは１〜１０００μｍ、より好ましくは５００μｍまで、最も好ましくは２００μｍまでである。
本発明で使用するガラスフレークのアスペクト比は、好ましくは少なくとも２０、より好ましくは少なくとも５０である。高屈折率材料の層の厚さは、少なくとも０．１ｎｍ、好ましくは少なくとも５ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲内である。
本発明の顔料は、様々な応用分野、例えば、印刷インク、自動車コーティング、化粧品処方、及びプラスチック、ガラス、セラミック製品の着色及び農業フィルムで使用できる。
本発明の顔料を製造するためのガラスフレークのコーティングには様々な方法が使用できる。これらは、湿式化学コーティング、物理的蒸着、化学的蒸着及び無電解メッキを含む。
また本発明は、本発明の顔料で使用するためのガラスフレークも提供する。
（発明の詳細な説明）
本発明の顔料は、Ｇｌａｓｓｆｌａｋｅ Ｌｔｄによって製造された約２１０ｎｍの平均厚さと２．２ｍ２／ｇのＢＥＴを持つＬＡＧ６ガラスフレークを含む。これらのガラスフレークは、製粉されて２０〜１００ミクロンのサイズを持つフレークとして提供される。
ＬＡＧ６ガラスの組成は次の通りである（ガラスフレークの重量に基づく重量％で示す）：ＳｉＯ２：６９．３０；ＴｉＯ２：１．４８；ＡＩ２Ｏ３：３．６０；Ｆｅ２Ｏ３：０．１５；ＣａＯ：２．１０；ＭｇＯ：１．２２；Ｋ２Ｏ：２．００；Ｎａ２Ｏ：９．４４；ＺｒＯ２：０．２４；Ｂ２Ｏ３：１０．４２；その他：０．０５。酸化第二鉄及びジルコニアが不可避混入物質として存在する。「その他」は小数点未満の不純物元素である。
ＴｉＣｌ４溶液から析出したチタニアでガラスフレークを被覆すると、滑らかなコーティングが得られ、それは優れた着色及び光沢を有し、非常に良好な機械的安定性を与える。

Claims (12)

  1. 高屈折率を持つ材料で少なくとも部分的に被覆されたガラスフレークを含む顔料であって、前記ガラスフレークが以下：
    シリカ：５０〜８０
    アルミナ：１〜２０
    チタニア：２０まで
    を含む顔料。
  2. 前記ガラスフレークが、以下：
    シリカ：６５〜７５
    アルミナ：１〜５
    チタニア：５まで
    但し、前記の量はガラスフレーク重量に基づく重量％である、
    を含む、請求項１に記載の顔料。
  3. 前記ガラスフレークが、以下の概略組成：
    ＳｉＯ２：６９
    ＴｉＯ２：１．５
    ＡＩ２Ｏ３：３．５
    ＣａＯ：２．２５
    ＭｇＯ：１．２５
    Ｋ２Ｏ：２
    Ｎａ２Ｏ：９．５
    Ｂ２Ｏ３：１０．５
    その他：０．５
    但し、前記の量はガラスフレーク重量に基づく重量％である、
    を含む、請求項１又は２に記載の顔料。
  4. 前記ガラスフレークの厚さが５μｍ未満である、請求項１から３のいずれか一項に記載の顔料。
  5. 前記ガラスフレークの厚さが１μｍ未満である、請求項４に記載の顔料。
  6. 前記ガラスフレークの厚さが２０〜５００ｎｍである、請求項４又は５に記載の顔料。
  7. 前記ガラスフレークの平均粒子サイズが１〜１０００μｍ未満である、請求項１から６のいずれか一項に記載の顔料。
  8. 前記平均粒子サイズが５００μｍまでである、請求項７に記載の顔料。
  9. 前記平均粒子サイズが２００μｍまでである、請求項７又は８に記載の顔料。
  10. 明細書に実質的に記載された、請求項１に記載の顔料。
  11. 明細書に実質的に例示された顔料。
  12. 請求項１から１１に記載のガラスフレークを含む顔料のための基材。
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