JP2010539717A5

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Publication number: JP2010539717A5
Application number: JP2010525251A
Authority: JP
Filing date: 2008-09-18
Publication date: 2011-11-04
Anticipated expiration: 2028-09-18

Claims

有用光の印加に向けて設けられた第１の領域を有する第１の光学面（Ｓ４，Ｓ６）を含み、かつ有用光の印加に向けて設けられた第２の領域を有する少なくとも１つの第２の光学面（Ｓ５，Ｓ７）を含み、また前記第１の光学面（Ｓ４）と前記第２の光学面（Ｓ５）の間に配置された、貫通孔が設けられた第３の光学面（Ｓ６）を含み、該貫通孔は、前記有用光を通過させるように機能し、該有用光のビームエンベロープ（ＳＨ）が、投影対物系の作動中に該第１の領域と該第２の領域の間に延びる、マイクロリソグラフィのための掩蔽された瞳を有する投影対物系であって、
光伝播方向に入射側と出射側とで開放され、かつ散乱光を遮蔽するように機能する少なくとも１つのチューブ（１２；２２；３２，３４）が、第１の光学面（Ｓ４，Ｓ６）と第２の光学面（Ｓ５，Ｓ７）の間に配置され、該チューブの壁が、有用光の波長範囲内で不透明であり、該チューブは、ビームエンベロープ（ＳＨ）の少なくとも部分長にわたって該有用光の該伝播方向に延び、かつ該ビームエンベロープ（ＳＨ）の外周を取り囲む、
ことを特徴とする投影対物系。
前記第１の光学面（Ｓ４，Ｓ６）と前記第２の光学面（Ｓ５，Ｓ７）の間の前記有用光の前記ビームエンベロープ（ＳＨ）は、第１のビームエンベロープであり、かつ該第１のビームエンベロープの部分長にわたって該有用光の第２のビームエンベロープによって重ね合わされ、前記チューブ（１２；２２；３２，３４）は、該第１のビームエンベロープの重ね合わせのない部分領域の少なくとも部分長にわたって延びていることを特徴とする請求項１に記載の投影対物系。
前記チューブ（１２；２２；３２，３４）は、前記第１のビームエンベロープの前記重ね合わせのない部分領域の全長にわたって延びていることを特徴とする請求項２に記載の投影対物系。
前記チューブ（１２；２２；３２，３４）は、前記ビームエンベロープ（ＳＨ）を最小限の距離ではあるが接触せずに取り囲むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影対物系。
前記距離は、２ｍｍよりも短く、より好ましくは１ｍｍよりも短く、より好ましくは０．２ｍｍよりも短いことを特徴とする請求項４に記載の投影対物系。
中間像（Ｚ；Ｚ_1,Ｚ₂；Ｚ_1,Ｚ_2,Ｚ₃）が、前記第１の光学面（Ｓ４）と前記第２の光学面（Ｓ５）の間に発生され、
前記チューブ（１２；２２；３２，３４）は、少なくとも前記中間像（Ｚ；Ｚ_1,Ｚ₂；Ｚ_1,Ｚ_2,Ｚ₃）の近くに配置される、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の投影対物系。
前記チューブ（１２；２２；３２，３４）の内部の幾何学形状が、前記ビームエンベロープ（ＳＨ）の形状に適応していることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の投影対物系。
前記チューブ（１２；２２；３２，３４）は、切端円錐形状方式で形成されることを特徴とする請求項７に記載の投影対物系。
前記チューブ（２２；３２，３４）は、双切端円錐形状方式で形成され、又は少なくとも２つの切端円錐形状チューブ（１２）が、前記ビームエンベロープを取り囲むことを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の投影対物系。
前記チューブ（１２；２２，３４）は、該貫通孔に又は該貫通孔の領域に配置されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の投影対物系。
反射光学性であることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の投影対物系。
ＥＵＶマイクロリソグラフィのために設計されることを特徴とする請求項１１に記載の投影対物系。