JP2007214554A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凹レンズを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが、ｂ−３｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋｜ｆ｜、
   を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
2. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凹レンズを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ−｜ｆ｜、
   であることを特徴とするレーザー光照射装置。
3. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた凹レンズと凸レンズとを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが、ｂ−３｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋｜ｆ｜、
   を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
4. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた凹レンズと凸レンズとを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ−｜ｆ｜、
   であることを特徴とするレーザー光照射装置。
5. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凸レンズを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凸レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが、ｂ−｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋３｜ｆ｜、
   を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
6. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凸レンズを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凸レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ＋｜ｆ｜、
   であることを特徴とするレーザー光照射装置。
7. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた第１の凸レンズと第２の凸レンズとを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記第１の凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記第１の凸レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが、ｂ−｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋３｜ｆ｜、
   を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
8. レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
   前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた第１の凸レンズと第２の凸レンズとを有し、
   前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記第１の凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記第１の凸レンズとの距離をＸとすると、
   前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ＋｜ｆ｜、
   であることを特徴とするレーザー光照射装置。
9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
   前記補正レンズは、凸レンズであることを特徴とするレーザー光照射装置。