JP2010538848A - 電気化学加工用の方法およびデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
2 加工空間
3 構成要素
4 アノード
5 カソード
6 電解質
7 回路
8 伝達手段
9 第1の矢印
10 搬送手段
11 ポンプ
12 測定装置
13 第1の信号ライン
14 制御装置
15 第2の信号ライン
16 計量装置
17 第1の貯蔵手段
18 第2の貯蔵手段
19 計量された物質
20 第2の矢印
21 混合デバイス
22 制御ライン
23 フィルタ装置
24 第3の貯蔵手段
25 リフト装置
26 フック
27 回転軸
Claims (13)
- 少なくとも1つの加工対象物(3)の電気化学加工用のデバイス(1)であって、伝達手段(8)と、電解質(6)用の第1の貯蔵手段(17)とを備え、前記電解質(6)の少なくとも1つの特性を測定するための少なくとも1つの測定装置(12)が、前記伝達手段(8)に配置されるデバイス(1)。
- 前記測定装置(12)が、少なくとも、pH値、伝導性、または温度を検出するように設計される請求項1に記載のデバイス(1)。
- 少なくとも1つの計量物質(19)を前記電解質(6)中に導入するための計量装置(16)が提供される請求項1または2に記載のデバイス(1)。
- 前記電解質(6)用の少なくとも1つの混合デバイス(21)が、前記伝達手段(8)または前記貯蔵手段(17)の領域内に配置される請求項1〜3のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 第2の貯蔵手段(18)が提供され、前記第2の貯蔵手段(18)が、前記第1の貯蔵手段(17)の内部に少なくとも部分的に配置される請求項1〜4のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 前記第2の貯蔵手段(18)が、少なくとも1種の計量物質(19)を受け入れるように設計される請求項1〜5のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 少なくとも1つの計量装置(16)と、少なくとも1つの測定装置(12)とが、制御装置(14)に接続される請求項1〜6のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 少なくとも、前記伝達手段(8)と、第1の貯蔵手段(17)と、搬送手段(10)と、少なくとも1つの加工空間(2)とが、電解質回路(7)を形成する請求項1〜7のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 少なくとも、前記計量装置(16)、前記混合デバイス(21)、または前記測定デバイス(12)が、前記加工空間(2)の下流に配置される請求項1〜8のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 少なくとも、前記第1の貯蔵手段(17)または第2の貯蔵手段(18)が、前記加工空間(2)の下に配置される請求項1〜9のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 電解質(6)の少なくとも1つの特性が、少なくとも1つの測定装置(12)によって監視される請求項1〜10のいずれか一項に記載のデバイス(1)を動作させるための電気化学加工方法。
- 少なくとも1つの計量物質(19)が、計量装置(16)によって電解質(6)に添加される請求項11に記載の方法。
- 前記計量物質(19)の計量が、前記測定された前記電解質(6)の特性に応じたタイプまたは量に従って設定される請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
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KR102434797B1 (ko) | 2020-08-18 | 2022-08-19 | 조선대학교산학협력단 | 전해 복합 가공 및 연마용 공구 장치 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH490927A (de) * | 1968-09-14 | 1970-05-31 | Siemens Ag | Einrichtung zur Regelung der Temperatur des Elektrolyten für Maschinen zur elektrochemischen Metallbearbeitung |
JPS6274529A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電解加工法 |
JPH03131424A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-06-05 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工機の加工液制御装置 |
JPH04141320A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工機用加工液供給装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL132272C (ja) * | 1961-06-19 | |||
US3365381A (en) * | 1965-02-23 | 1968-01-23 | Westinghouse Electric Corp | Electrochemical machining including in-process guaging of the workpiece |
GB1169042A (en) * | 1966-09-16 | 1969-10-29 | Ass Eng Ltd | Electrochemical Machining |
FR2079949A5 (ja) * | 1970-02-18 | 1971-11-12 | Peugeot & Renault | |
CA994355A (en) * | 1971-09-01 | 1976-08-03 | James E. Crawford | Process for the preparation of multifunctional peroxydiesters |
DD96585A1 (ja) * | 1971-10-15 | 1973-03-20 | ||
GB2009242B (en) * | 1977-11-28 | 1982-05-06 | Inoue Japax Res | Electroerosion machining |
EP0098711B1 (en) * | 1982-06-23 | 1988-08-31 | Inoue-Japax Research Incorporated | Electrical machining system and method of processing a machining liquid therein |
DE3403703C2 (de) * | 1984-02-03 | 1986-05-07 | Audi AG, 8070 Ingolstadt | Verfahren zum Behandeln von natriumnitrathaltigen Elektrolyten beim elektrochemischen Bearbeiten metallischer Werkstücke |
KR910008243B1 (ko) * | 1987-06-23 | 1991-10-12 | 시즈오카 세이키 가부시키가이샤 | 전해가공장치 |
US5186796A (en) * | 1989-06-05 | 1993-02-16 | Stelco Inc. | Method and apparatus for electrolytic etching of metals |
US5783061A (en) * | 1996-03-27 | 1998-07-21 | U.S. Philips Corporation | Method of removing iron compounds and chromium compounds from an aqueous electrolytic solution as well as the use of this method in electrochemical machining |
US5925230A (en) * | 1997-10-06 | 1999-07-20 | Southeastern Trading, Llp | Deionization apparatus having non-sacrificial electrodes of different types |
US6402923B1 (en) * | 2000-03-27 | 2002-06-11 | Novellus Systems Inc | Method and apparatus for uniform electroplating of integrated circuits using a variable field shaping element |
US6402908B1 (en) * | 2000-02-02 | 2002-06-11 | Therma Corporation, Inc. | Pipe electropolishing apparatus using an electrolyte heater and cooler |
TWI275452B (en) * | 2001-11-13 | 2007-03-11 | Acm Res Inc | Electropolishing assembly and methods for electropolishing conductive layers |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH490927A (de) * | 1968-09-14 | 1970-05-31 | Siemens Ag | Einrichtung zur Regelung der Temperatur des Elektrolyten für Maschinen zur elektrochemischen Metallbearbeitung |
JPS6274529A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電解加工法 |
JPH03131424A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-06-05 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工機の加工液制御装置 |
JPH04141320A (ja) * | 1990-10-02 | 1992-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工機用加工液供給装置 |
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