JP2010530074A - 単一偏光子焦点エリプソメータ - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
θmax=sin−1(NA)
I(ψ)=I0[1+α2sin(2ψ)+α4sin(4ψ)+β2cos(2ψ)+β4cos(4ψ)]
ここで、I0は、半径γの一定な円周上で測定された光強度の平均値であり、α2、α4、β2及びβ4は、フーリエ係数である。
120 平行光
130 偏光発生装置
140 非偏光用光分割器
150、230 対物レンズ
160、240 試片
170 偏光検出装置
180、250 光検出器
211 帯域フィルター
212 フィルターホイール
213 モーター
220 光分割部
221 偏光用光分割器
251 光学系
260 演算処理装置
270 視準光学系
280 補償器
Claims (13)
- 光源210と、
前記光源210から発生された光を、偏光された光に分割する光分割部220と、
前記光分割部220で分割された一部の光を試片240に集中照射させる対物レンズ230と、
前記試片240で反射され、前記対物レンズ230及び前記光分割部220を通過した光を単位素子で検出する光検出器250と、
前記光検出器250により検出された光の強度を、それぞれの入射角に対し、360°の多重入射面経路に沿って前記光検出器250の単位素子に該当する値に補正して演算処理する演算処理装置260と、
を含むことを特徴とするエリプソメータ。 - 前記光分割部220は、偏光用光分割器221であることを特徴とする、請求項1に記載のエリプソメータ。
- 前記光分割部220は、線形偏光子と、非偏光用光分割器とを含んで構成されることを特徴とする、請求項1に記載のエリプソメータ。
- 前記光検出器250としては、多数の単位素子から構成された2次元映像測定装置が使用されていることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記光源210としては、タングステン−ハロゲンランプ、Xeランプから選択されるいずれか一つの白色光源またはレーザーの単色光源が使用されていることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記対物レンズ230としては、レンズ、ミラー、レンズとミラーの組み合わせから選択されるいずれか一つから構成された光学系が使用されていることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記光源210と前記光分割部220との間に設けられて、前記光源210から放出された光を平行光にするための視準光学系270をさらに含むことを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記光源210が白色光源である場合、前記光源210の後端または前記光検出器250の前端に、前記光源210により放出された光の特定波長範囲の光を通過させる多数個の帯域フィルター211が放射状に配置されて、前記帯域フィルター211を選択的に通過できるように回転可能なフィルターホイール212をさらに含むことを特徴とする、請求項5に記載のエリプソメータ。
- 前記光検出器250の測定性能を向上させるために、リレーレンズを備えた光学系251がさらに備えられたことを特徴とする、請求項7または8に記載のエリプソメータ。
- 試片の表面映像を観測できる2次元映像測定装置がさらに備えられたことを特徴とする、請求項7乃至9のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記試片を保持する試料保持台がさらに備えられており、前記試料保持台は、前後左右、上下及び回転可能にする移送装置をさらに含むことを特徴とする、請求項7乃至9のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記対物レンズ230の前端に、前記光分割部で分割された光を補償するための補償器280または前記光分割部で分割された光の位相差を電気で制御できる電気的偏光変調装置がさらに備えられたことを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のエリプソメータ。
- 前記補償器280は、前記試片の垂直軸に対して前記補償器280を回転させる回転装置を含んでいることを特徴とする、請求項12に記載のエリプソメータ。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021529328A (ja) * | 2018-07-12 | 2021-10-28 | コリア リサーチ インスティトゥート オブ スタンダーズ アンド サイエンス | 垂直入射エリプソメータおよびこれを用いた試験片の光物性の測定方法 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101063753B1 (ko) * | 2009-11-11 | 2011-09-14 | 한양대학교 산학협력단 | 텍스처가 형성된 시편에 증착된 박막의 특성 측정방법 및 이를 이용한 분광반사측정기 |
KR101955466B1 (ko) | 2010-10-26 | 2019-03-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 실링 검사 장치 및 이를 이용한 평판 표시 장치의 실링 검사 방법 |
US8687192B2 (en) * | 2011-03-29 | 2014-04-01 | Intel Corporation | Through silicon imaging and probing |
KR20130019495A (ko) | 2011-08-17 | 2013-02-27 | 한국표준과학연구원 | 광소자-회전형 타원계측기 및 이를 이용한 시료의 물성 측정 방법 |
CN102589452B (zh) * | 2012-01-17 | 2014-09-24 | 华南师范大学 | 测量薄膜厚度和折射率的方法及装置 |
US9341697B2 (en) | 2012-06-25 | 2016-05-17 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Moving platform orientation tracking system |
US9107567B2 (en) * | 2012-12-27 | 2015-08-18 | Christie Digital Systems Usa, Inc. | Spectral imaging with a color wheel |
KR101507378B1 (ko) * | 2013-05-07 | 2015-03-31 | 한국표준과학연구원 | 레이저를 광원으로 이용한 등명기 |
KR102072358B1 (ko) * | 2013-09-17 | 2020-02-03 | 삼성전자 주식회사 | 면감지 타원 계측기 |
US9631954B2 (en) * | 2014-02-04 | 2017-04-25 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Moving platform roll sensor system |
KR101944167B1 (ko) | 2014-02-06 | 2019-01-30 | 노키아 테크놀로지스 오와이 | 광의 수신 및 생성 |
US10892832B2 (en) | 2014-11-11 | 2021-01-12 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Moving platform roll angle determination system using RF communications link |
CN104568765B (zh) * | 2014-12-25 | 2017-02-22 | 武汉颐光科技有限公司 | 一种微型化光谱椭偏仪装置和测量方法 |
US9739571B2 (en) | 2015-01-06 | 2017-08-22 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Moving object command link system and method |
CN105066889B (zh) * | 2015-09-01 | 2017-09-01 | 武汉颐光科技有限公司 | 一种便携式薄膜测厚仪及其膜厚测量方法 |
KR102550690B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-07-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 타원해석기 |
CN109883553B (zh) * | 2019-03-14 | 2020-01-21 | 上海精测半导体技术有限公司 | 一种偏振测量装置及偏振测量方法 |
KR102289480B1 (ko) * | 2020-03-11 | 2021-08-13 | 서울대학교산학협력단 | 마이크로 엘립소미터 |
JP2022178427A (ja) * | 2021-05-20 | 2022-12-02 | 株式会社ディスコ | 保護膜の厚み測定方法 |
TWI799875B (zh) * | 2021-05-28 | 2023-04-21 | 國立中央大學 | 折射率量測系統、方法與其所使用的全反射子系統 |
CN113777048B (zh) * | 2021-08-11 | 2023-07-25 | 华中科技大学 | 一种共轴超快光谱椭偏仪及测量方法 |
US20240027186A1 (en) * | 2022-07-22 | 2024-01-25 | Onto Innovation Inc. | Apparatus to characterize substrates and films |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03205536A (ja) * | 1989-05-04 | 1991-09-09 | Therma Wave Inc | 高分解能エリプソメータ装置と方法 |
JPH05296841A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-12 | Satoshi Kawada | 偏光測定装置及びこれを用いた偏光顕微鏡 |
JP2002005823A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 薄膜測定装置 |
WO2006078718A1 (en) * | 2005-01-20 | 2006-07-27 | Zygo Corporation | Interferometer for determining characteristics of an object surface |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3985447A (en) | 1975-08-29 | 1976-10-12 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Measurement of thin films by polarized light |
US5042951A (en) | 1989-09-19 | 1991-08-27 | Therma-Wave, Inc. | High resolution ellipsometric apparatus |
US5166752A (en) | 1990-01-11 | 1992-11-24 | Rudolph Research Corporation | Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method |
US5608526A (en) | 1995-01-19 | 1997-03-04 | Tencor Instruments | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
US5877859A (en) * | 1996-07-24 | 1999-03-02 | Therma-Wave, Inc. | Broadband spectroscopic rotating compensator ellipsometer |
US6031614A (en) * | 1998-12-02 | 2000-02-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Measurement system and method for measuring critical dimensions using ellipsometry |
US6833920B2 (en) * | 2000-07-11 | 2004-12-21 | Maven Technologies Llc | Apparatus and method for imaging |
US7317531B2 (en) * | 2002-12-05 | 2008-01-08 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry |
US6753961B1 (en) * | 2000-09-18 | 2004-06-22 | Therma-Wave, Inc. | Spectroscopic ellipsometer without rotating components |
US6898537B1 (en) | 2001-04-27 | 2005-05-24 | Nanometrics Incorporated | Measurement of diffracting structures using one-half of the non-zero diffracted orders |
US6678046B2 (en) * | 2001-08-28 | 2004-01-13 | Therma-Wave, Inc. | Detector configurations for optical metrology |
CN1320352C (zh) * | 2004-11-18 | 2007-06-06 | 上海交通大学 | 用精密反射仪同时测量聚合物薄膜折射率和厚度的方法 |
KR100742982B1 (ko) * | 2006-06-22 | 2007-07-26 | 케이맥(주) | 초점 타원계측기 |
-
2007
- 2007-11-13 KR KR1020070115398A patent/KR100917912B1/ko active IP Right Grant
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- 2008-11-12 TW TW097143698A patent/TW200925566A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03205536A (ja) * | 1989-05-04 | 1991-09-09 | Therma Wave Inc | 高分解能エリプソメータ装置と方法 |
JPH05296841A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-12 | Satoshi Kawada | 偏光測定装置及びこれを用いた偏光顕微鏡 |
JP2002005823A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 薄膜測定装置 |
WO2006078718A1 (en) * | 2005-01-20 | 2006-07-27 | Zygo Corporation | Interferometer for determining characteristics of an object surface |
JP2008528972A (ja) * | 2005-01-20 | 2008-07-31 | ザイゴ コーポレーション | オブジェクト表面の特徴を求める干渉計 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021529328A (ja) * | 2018-07-12 | 2021-10-28 | コリア リサーチ インスティトゥート オブ スタンダーズ アンド サイエンス | 垂直入射エリプソメータおよびこれを用いた試験片の光物性の測定方法 |
US11493433B2 (en) | 2018-07-12 | 2022-11-08 | Korea Research Institute Of Standards And Science | Normal incidence ellipsometer and method for measuring optical properties of sample by using same |
JP7316355B2 (ja) | 2018-07-12 | 2023-07-27 | コリア リサーチ インスティトゥート オブ スタンダーズ アンド サイエンス | 垂直入射エリプソメータおよびこれを用いた試験片の光物性の測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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TW200925566A (en) | 2009-06-16 |
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