JP2010510468A - 物質の粒度選択および／または乾燥装置 - Google Patents

Abstract

少なくとも９０重量％で、サイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のための、粉末状物質の粒度の選択および／または乾燥装置であり、装置（３０）は、主に、上昇流（Ｆａ）が通過するほぼ鉛直なガス導管（１）から構成されており、該ガス導管は、その底部にガスの取入口を備え、下部開口部（２）と上部開口部（３）を具備し、該二つの開口部の間に、同様に物質を導入するための供給口（４）を備え、前記装置内で物質の、特に「微細な」と呼ばれる物質の一部が、前記上昇流（Ｆａ）の揚力によって上部開口部（３）からガスと共に逃れることが可能であるのに対し、それよりも粗い物質の他の部分は、前記ガスによって運ばれず、下部開口部（２）から落下する装置に関するものである。本発明によると、装置（３０）は、また、粒度の異なる分画物の分離、および、物質の懸濁化にとって好都合な乱流を生成する手段（５）を有し、該手段は、前記ガス導管（１）の内壁に備えられ、前記導管（１）の下部開口部（２）および供給口（４）の間に位置付けられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、少なくとも９０重量％で、サイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のための、物質の粒度選択および／または乾燥装置に関するものである。

無機物質の粉砕および／または乾燥工場では、平均粒度が１０ｍｍ未満の物質に適用される「一連の工程」の懸濁乾燥装置を使用することが知られている。これらの装置における乾燥を介した熱交換は膨大で、また、極めて迅速であり、しばしば、「フラッシュ」と呼ばれる。鉛直な高温ガスの導管の設備の形状を呈するそのようなシステムは、出版物そして、特に、Ｂ．Ｒｅｉｎｈａｒｄｔ、Ｐｈ．Ｄｕｈａｍｅｌ、Ｒ．Ｅｖｒａｒｄ、Ａ．Ｃｏｒｄｏｎｎｉｅｒ著の「Ｌｅ ｓｅｃｈａｇｅ ｆｌａｓｈ、Ｓｅｍｉｎａｉｒｅ ｄｅ ｌａ Ｓｏｃｉｅｔｅ ｄｅ ｌ’ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ Ｍｉｎｅｒａｌｅ」Ｄｉｊｏｎ（１９９９年１０月９日）に記載されている。

処理すべき物質の大部分を確実に懸濁化し、高温ガスと接触させ、前記物質の乾燥を可能にするために、速度が約３０から４０ｍ／秒の高温ガスの上昇流を生成させ、このようにして、装填物の大きな損失が引き起こされる。

原則的に、そのようなシステムでは、物質の最も粗い分画物は運ばれないにもかかわらず、これらの装置は粒度選択器とはみなされない。実際、これらの装置に様々な直径の粒子から構成された粗い分画物が装填されたとき、一般的に、分画物の大部分は、その大部分を構成する最も微細な粒子の分離および懸濁化もなく、落下する。

逆に、また、上昇流の強さから、より小さなサイズの粗い分画が引き起こされる。したがって、その粒子のサイズに応じて選択することができる能力を示すこれらの機械の物質を選択する能力は、低い。

また、粗い分画物の存在する量が多すぎると、これらの装置の動作およびその内部に該装置が設置されているそれらの設備の動作を妨害する。例えば、セメント製造用の粉砕設備の場合、装置は、その下流に置かれた空気分離機の動作を妨害する。実際、乾燥装置に大きな粗い分画物が装填されると、装置は不安定になり、物質の懸濁化に不可欠な上昇流が不規則に吹く。

本発明の目的は、粒度スペクトルが大きい物質に適用するためのオンラインで安定して動作する、少なくとも９０重量％で、サイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のための、粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置を提案することにある。

本発明の別の目的は、懸濁化することができる分画物の良好な分離が可能な粒度選択および／または乾燥装置を提案することにある。

本発明のまた別の目的は、サイズが小さい、特に、従来技術で既知の「フラッシュ」型乾燥装置のガス導管の高さよりも低い高さの、鉛直なガス導管によって主に構成される粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置を提案することにある。

本発明のさらに別の目的は、当業者に既知の「フラッシュ」型乾燥装置のガスの上昇流の速度よりも遅い速度のガス上昇流によって動作し、このようにして装填物の損失を減少させる、粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置を提案することにある。

本発明のその他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるが、これらの説明は、例示されるものであり、本発明を何ら限定する趣旨のものではない。

装置は、少なくとも９０重量％で、サイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のための、粉末状物質の粒度の選択および／または乾燥装置に関するものであり、装置は、主に、上昇流が通過するほぼ鉛直なガス導管から構成されており、該ガス導管は、その底部にガスの取入口を備え、下部開口部と上部開口部を具備し、該二つの開口部の間に、同様に物質を導入するための供給口を備え、前記装置内で物質の、特に微細な、と呼ばれる物質の一部が、前記上昇流の揚力によって上部開口部からガスと共に逃れることが可能であるのに対し、それよりも粗い物質の他の部分は、前記ガスによって運ばれず、下部開口部から落下する装置である。

本発明によると、装置は、また、粒度の異なる分画物の分離、および、物質の懸濁化にとって好都合な乱流を生成する手段を有し、該手段は、ガス導管の内壁に備えられ、前記ガス導管の下部開口部および供給口の間に位置付けられている。

本発明は、また、閉循路型の、特にセメント工業用の連続粉砕設備であり、
−粉砕する製品の取入口および粉砕された製品の排出口を有する、特にローラまたはボール付き粉砕機、
−本発明による、上昇流が内部を通過する粒度選択および乾燥装置によって構成され、粉砕機の取入口に接続された下部の排出物の排出口および上部の舞い上がる物質の排出口を備え、その間にまた物質の供給口を備える、選択−乾燥器、
−少なくとも選択−乾燥器から舞い上がる物質の前記排出口に接続された少なくとも一つの物質の取入口、選択された物質用の排出口、および、粉砕機の取入口に接続された排出物の排出口を含む、力学的選択器、
−力学的選択器の物質の排出口に接続された、選択された物質に満ちたガスを濾過することが可能なフィルタを含み、
−粉砕機の排出口が、力学的選択器の前記少なくとも一つの物質の取入口および／または選択−乾燥器の供給口に接続され、
−少なくとも一つの物質の供給装置が、粉砕機の取入口および／または選択−乾燥器の供給口から供給する、
連続粉砕設備に関するものである。

本発明は、本発明の一部をなす添付図面を参照しておこなう以下の説明からより良く理解されるであろう。
本発明にかなった第一の実施態様による、粒度選択および／または乾燥装置の概略的な断面図である。 本発明にかなった第二の実施態様による、粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置の概略的な断面図である。 本発明にかなった第三の実施態様による、粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置の概略的な断面図である。 「風箱」とも呼ばれる、プレナムへの様々なガス供給の可能性を示す水平方向の断面図である。 「風箱」とも呼ばれる、プレナムへの様々なガス供給の可能性を示す水平方向の断面図である。 「風箱」とも呼ばれる、プレナムへの様々なガス供給の可能性を示す水平方向の断面図である。 「風箱」とも呼ばれる、プレナムへの様々なガス供給の可能性を示す水平方向の断面図である。 特に図１に示したような装置の羽根を示す、ガス導管の鉛直方向の断面図である。 本発明にかなった粒度選択および／または乾燥装置を搭載した、閉循路型の、特にセメント工業用の連続粉砕設備の概略図である。 本発明にかなった粒度選択および／または乾燥装置の高い粒度選択能力を示すことができる対数目盛で表された対数尺によるグラフである。

本発明にかなった粉末状物質の粒度および／または乾燥装置は、「フラッシュ」型の既知の乾燥システムとは異なり、該フラッシュ型の乾燥装置は、物質の懸濁化のための主要要素として頚部にベンチュリ管を備え、そのガスの速度は３０から４０ｍ／秒に保たれている。ベンチュリ管の構造は、装置の全高が鉛直導管の直径の５から６倍となる。

これらの「フラッシュ」システムによって、粒子のサイズが２０ｍｍ未満の物質を、ガス１ｋｇにつき２．５ｋｇを越えない単位あたりの濃度で処理することが可能になる。これらの数値を超えると、動作の不安定性の問題が生じる。

本発明にかなった粉末状物質の粒度選択および／または乾燥装置は、少なくとも９０重量％のサイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のためのものである。

図１から３の実施態様に示したように、装置は、主に、上昇流Ｆａが通過するほぼ鉛直なガス導管１から構成されており、該ガス導管は、その底部にガスの取入口を備える。

このガス導管の断面は、ほぼ楕円形または長円形である。好ましくは、形のファクター、すなわち、断面のサイズの長さ／幅の比は３を超えない。

このガス導管は、下部開口部２および上部開口部３を具備し、該二つの開口部の間に、同様に物質を導入するための供給口４を備える。下部開口部２は、特に「風箱」とも呼ばれるプレナム７によってガスを供給されることができる。

特に「微粒子」と呼ばれる粒子状無機物質の一部が、上昇流Ｆａの揚力によって上部開口部３からガスと共に逃れることが可能であるのに対し、それよりも粗いその他の部分は、ガスによって運ばれず、下部開口部２から落下する。

本発明によると、装置３０は、また、粒度の異なる分画物を分離、および、物質の懸濁化にとって好都合な乱流を生成する手段５を有し、該手段は、ガス導管１の内壁に備えられ、ガス導管１の下部開口部２と供給口４の間に位置付けられている。

有利には、乱流は、特に、物質の粗い分画物から様々な直径の粒子を分離することを可能にするものであり、したがって、この分画物の「微細な」と呼ばれる粒子の懸濁化、上部開口部３からの排出、および、よりサイズの大きい粒子の下部開口部２からの落下を可能にする。

特に図１に示した第一の実施態様によると、乱流を生成する手段５は、少なくとも一部がガス導管１の内壁に位置付けられた、ガス上昇流Ｆａ用の障害物によって構成することができる。特に図１および図５に詳細に示されているように、障害物は、全体的に水平な羽根１０の形状を呈することができ、該羽根の長さ方向はガス導管１の中心に向けられている。

羽根は、特に図１に示すように、少なくとも二つの連続した高さに配置することができる。有利には、羽根は、二つの連続した高さの間に角度的に五点型に配置することが可能であり、場合によっては、特に上昇ガス流を、異なる高さにある羽根の間をジグザグに進ませる側面被覆区域を備えることが可能である。

羽根の長さ方向を、ガス導管１の中心に向けて位置付けられた方向に定め、そして幅方向を水平面の直交方向に定めた場合、それぞれの羽根の長さは、羽根の軸に沿ったガス導管１の空洞の幅の２から３０％を占めることができる。

少なくとも二つの連続した高さに配置したそれぞれの羽根の幅の合計は、ガス導管の周縁の長さの少なくとも６０％を占めることができる。ガス導管の周縁の長さとは、ガス導管と水平面の交差によって得られる、ガス導管１の断面の周縁の長さを意味する。羽根の幅の合計は、有利には、ガス導管の周縁の長さの１２０から２００％の範囲にある。

有利には、図５に示したように、ガス導管１内の羽根１０の形状および位置は、前記羽根を腐食から保護するために、動作期間中に前記羽根１０の上部に物質を、特に停滞する物質を蓄積させるのに適していることが可能である。特に、羽根は、羽根の上面上に窪みを有すること、または、特に羽根の端部１３に一つまたは複数の上部折り返しを有することがある。端部１３は、より硬い物質で保護されることがあり、ガス導管１は浸食から保護する素材１２で被覆されることがある。

そのように、物質の導入点、および、自然の落下速度がガスの上昇速度よりも早い粗い分画物の存在の事実から、物質の一部は懸濁化されない。物質の落下は、主に、壁に沿った滑動によって実施される。壁に沿って滑動する物質は停止し、羽根の近傍で生成されたガスの乱流によって、存在する様々な粒度の分画物の分離と、それほど粗くない分画物の懸濁化が可能となる。

ガス導管の内壁上の、特に前記羽根１０である障害物と交互、または、それに加え、乱流を生成する手段５は、少なくとも一部が、全体的に上昇流Ｆａの方向に垂直に向けられた、少なくとも一つ壁のガス流Ｆｐによって構成されており、該上昇流は、前記ガス導管１の壁の孔８からガス導管１の内部容積に、特に半径方向または接線方向に侵入する。

孔８の表面積の合計は、導管１の断面積の空いている部分の１５％から１５０％を占めることができる。

装置は、ガス導管の低部を囲む少なくとも一つのプレナム７を有することが可能であり、該プレナムは、ガスの取入口である下部開口部２および／または、場合によっては、ガス導管の壁の孔８からガスを供給することができる。特に、図示していない実施態様によると、ガスの取入口は下部開口部２によってのみ構成される。図１または２の実施例によると、ガス導管のガスの取入口は、下部開口部２および壁の孔８によって構成される。図３の実施例によると、ガスの取入口は、壁の孔８によってのみ構成される。プレナム７は、特に図１または２に示したように、落下する物質の排出口９を有するケースの形状を呈することができる。

プレナム７は、少なくとも一つの半径方向のガスの取入口６、６−１および／または少なくとも一つの接線方向のガスの取入口６−２、６−３を介して、ガスを供給されることができる。特に、図４ａおよび４ｃに示したように、プレナム７のチャンバは、一つまたは二つの半径方向の取入口６；６、６−１から供給される。図４ｂおよび４ｄに示したように、プレナム７のチャンバは、一つまたは二つの接線方向の取入口６−２；６−２、６‐３から供給される。

以下に、異なる複数の実施例を記載する。

図１に示した実施例は、主に、上部開口部３、同様に、主にガスの取入口を構成する下部開口部２を有するガス導管１を含むものである。乱流を生成する手段５は、一方では、複数の連続する高さに沿って並べられ、また、二つの連続する高さに沿って角度的に五点型に配置された羽根１０によって、他方では、壁のガス流Ｆｐを通過させる壁の孔８によって構成される。

単一のプレナムがガス導管の低部を囲み、一方では孔８に、他方では下部開口部２にガスを供給することができる。

この装置は、長さが直径の４から５倍を越えないガス導管とともに使用される。ガス上昇流の速度は、１５ｍ／秒でありうる。この実施例では、これらの物質の粒子の最大サイズは１００ｍｍであり、単位当りの濃度はガス１ｋｇにつき５から６ｋｇである。

設備は、安定して動作することができ、サイズが約０．８ｍｍ未満の粒子だけが舞い上がり、サイズが約２ｍｍを超える粒子は落下するように選択を行う。その結果生じる装填物の損失は、同じ物質の流量で、従来技術で既知の「フラッシュ」型乾燥装置に対して約６０％である。

図２の実施例は、下部開口部２が円錐台の端部に形成され、該下部開口部の直径は、ガス導管１の最大断面の直径よりも小さいという点で、図１の実施例と異なる。

図３の実施例は、全てのガスが、下部開口部２からではなく、壁の孔８を介して導入される装置を記載している。それゆえ、壁のガス流Ｆｐの総量により、上昇流Ｆａの生成が可能である。壁の孔８は、大部分が、上昇流Ｆａのための障害物を構成する羽根１０の下に位置付けられる。

図７の一つのロットの物質の分離結果を示すグラフによると、本発明の目的である装置に供給された原料の粒度は、粒子の５０％が３．２ｍｍ未満（またはそれを超えるもの）であり、１０％が１５ｍｍのメッシュより大きく、最大サイズは３５ｍｍである。単位あたりの供給流量は、ガス１ｋｇにつき５から６ｋｇである。

排出口３の方へ舞い上がる物質の粒度は、粒子のほぼ全量のサイズは７ｍｍ未満であり、５０％が０．４８ｍｍ未満である（または、それを超えるもの）。下部開口部２から落下する物質では、ほぼ全量の粒子のサイズは０．１５ｍｍを超えるものであり、５０％が５ｍｍ未満である（または、それを超えるものである）。

それぞれのサイズの粒子の二つのガス流の間の分配率を示す分離曲線は、物質の２０％だけが落下する０．７ｍｍのサイズの粒子と物質の９０％が落下する３ｍｍのサイズの粒子との間に大きな勾配を有する。この大きな勾配は、高い選択力を示す。

本発明は、また、ガスの取入口が温度ガス源によって供給される本発明による装置を含む乾燥設備に関するものである。

本発明は、閉循路型の、特にセメント工業用の連続粉砕設備４０であり、
−粉砕する製品の取入口および粉砕された製品の排出口を有する、特にローラまたはボール付き粉砕機１５、
−本発明にかなった上昇流が内部を通過する粒度選択および乾燥装置３０によって構成され、粉砕機１５の取入口に接続された下部の濾過物排出口９および上部の舞い上がる物質の排出口を備え、その間にまた物質の供給口４を備える、選択−乾燥器２２、
−少なくとも、選択−乾燥器２２から舞い上がる物質の前記排出口に接続された少なくとも一つの物質の取入口、選択された物質用の排出口および粉砕機１５の取入口に接続された濾過物排出口２３を備える力学的選択器１６、
−力学的選択器１６の物質の排出口に接続された、選択された物質に満ちたガスを濾過することが可能なフィルタ２１を含み、
−前記粉砕機１５の排出口が、力学的選択器１６の前記少なくとも一つの物質の取入口（１９−１）および／または選択−乾燥器２２の供給口４（１９−２）に接続され、
−少なくとも一つの物質の供給装置１７、１８が、粉砕機１５の取入口および／または選択−乾燥器２２の供給口から供給する、
連続粉砕設備に関するものである。

図６は、粒度選択および乾燥装置３０を搭載した粉砕設備を示している。この設備において供給装置１７、１８は、少なくとも一つは湿っている物質を処理する。

物質を処理する設備は、粉砕機１５、力学的選択器１６、粉砕された最終製品を回収するフィルタ２１、および、パケットチェーンまたは他のコンベアのような物質の運搬手段、ならびに、ガスの換気手段を含む。この設備は、記載していない源から来る高温ガス２０を受ける。

物質の供給装置１７は、粉砕機１５に供給し、粉砕機から排出された製品１９は選択器１６に供給される。微細な分画物はフィルター２１で回収される最終製品であり、粗い分画物は粉砕機に送り返される。高温ガス２０は、粉砕機１５、選択−乾燥器２２および力学的選択器１６に供給される。

記載した設備では、粒度選択および乾燥装置３０は、力学的選択器１６に供給されるガスの経路に位置付けられ、該力学的選択器にそのガス導管１によって接続されている。装置は、取入口６から高温ガスを受け、材料の供給装置１８によって供給され、それにより、この物質が直接粉砕機１５に供給された場合よりも効率的な物質の乾燥が実現される。

最も微細な分画物は、ガスの経路にある力学的選択器１６へ続くのに対し、粗い分画物は、選択器の濾過物排出口２３と同時に排出口９から粉砕機１５へ戻る。また、濾過は、選択−乾燥器２２の装置３０のガス導管１の内部に配置された、力学的選択器１６の濾過物導管２３’によって実施することもでき、前記濾過物導管２３’は、前記選択−乾燥器２２の排出口９の下方または近傍で開口している。

選択−乾燥器２２は、粒子のサイズが約１ｍｍ未満の物質を選択することができ、力学的選択器１６は粒子のサイズが１００ミクロン未満、さらには、約１０ミクロン未満の物質を選択することを可能にする。

装置２２によって操作される粒度選択は、力学的選択器１６が、従来の「フラッシュ」型システムの懸濁乾燥段階に由来する粗い分画物によって過剰に装填されることと、供給装置１８によって補給された新規な物質がかなりの量を含む場合に、粉砕機１５が、微細な分画物によって過剰に装填されることとを同時に回避する。粉砕機１５の乾燥能力が弱い場合、粉砕機から排出された物質１９を二つのライン１９−１および１９−２に分けることが可能であり、第二のラインは再び急速乾燥段階を受ける。

もちろん、以下の請求項によって規定された本発明の範囲を越えることなく、当業者に理解されるように、他の実施態様を考案することができる。

１ ガス導管
２ 下部開口部
３ 上部開口部
４ 供給口
５ 手段
６ 取入口
７ プレナム
８ 孔
９ 排出口
１０ 羽根
１２ 素材
１３ 羽根の端部
１５ 粉砕機
１６ 力学的選択器
１７ 供給装置
１８ 供給装置
１９ 物質
２０ 高温ガス
２１ フィルタ
２２ 選択−乾燥器
２３ 濾過物排出口
３０ 装置
４０ 連続粉砕設備

Ｂ．Ｒｅｉｎｈａｒｄｔ、Ｐｈ．Ｄｕｈａｍｅｌ、Ｒ．Ｅｖｒａｒｄ、Ａ．Ｃｏｒｄｏｎｎｉｅｒ著「Ｌｅ ｓｅｃｈａｇｅ ｆｌａｓｈ、Ｓｅｍｉｎａｉｒｅ ｄｅ ｌａ Ｓｏｃｉｅｔｅ ｄｅ ｌ’ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ Ｍｉｎｅｒａｌｅ」Ｄｉｊｏｎ（１９９９年１０月９日）

Claims (11)

1. 少なくとも９０重量％で、サイズが６０ｍｍ未満の粒子の無機物質の懸濁処理のための、粉末状物質の粒度の選択および／または乾燥装置であり、
   装置（３０）は、主に、上昇流（Ｆａ）が通過するほぼ鉛直なガス導管（１）から構成されており、該ガス導管は、その底部にガスの取入口を備え、下部開口部（２）と上部開口部（３）を具備し、該二つの開口部の間に、同様に物質を導入するための供給口（４）を備え、
   前記装置内で物質の、特に「微細な」と呼ばれる物質の一部が、前記上昇流（Ｆａ）の揚力によって上部開口部（３）からガスと共に逃れることが可能であるのに対し、それよりも粗い物質の他の部分は、前記ガスによって運ばれず、下部開口部（２）から落下するものであり、
   装置（３０）は、また、粒度の異なる分画物の分離、および、ガスによって直ちにそれらの導入点に運ばれなかった物質の懸濁化にとって好都合な乱流を生成する手段（５）を有し、
   前記手段（５）は、ガス導管の下部開口部（２）と供給口（４）の間に位置付けられ、その少なくとも一部は、全体的に水平な羽根（１０）の形状をした、ガス上昇流（Ｆａ）用の障害物によって構成され、
   該羽根は、前記ガス導管（１）の内壁に固定され、長さ方向がガス導管（１）の中心に向けられており、また、少なくとも二つの連続した高さに配置され、前記少なくとも二つの連続した高さの間に角度的に五点型に並べられ、場合によっては側面に被覆区域を備えることを特徴とする、装置。
2. ガス導管（１）内の羽根（１０）の形状と位置が、前記羽根を浸食から保護するために、動作中、前記羽根（１０）上に物質を蓄積させるのに適していることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
3. ガス導管の中心に向けられた羽根の長さが、前記ガス導管の空洞の幅の２から３０％の範囲を占め、羽根の幅の合計が、最小で前記ガス導管の周縁の長さの６０％であることを特徴とする、請求項１または２に記載の装置。
4. 羽根（１０）の幅の合計が、前記ガス導管（１）の周縁の長さの１２０から２００％に含まれることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
5. 前記乱流を生成する手段が、また、全体的に上昇流（Ｆａ）の方向にほぼ垂直に向けられた、少なくとも一つの壁のガス流（Ｆｐ）によって構成され、該上昇流は、前記ガス導管（１）の壁の孔（８）からガス導管（１）の内部空間に侵入することを特徴とする、請求項１から４のいずれか一つに記載の装置。
6. ガスの取入口は、ガス導管（１）の低部を囲む少なくとも一つのプレナム（７）によって構成されており、該プレナムは、下部開口部（２）および／または、場合によっては、ガス導管の壁の孔（８）からガスを供給することができることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一つの記載の装置。
7. プレナム（７）が、少なくとも一つの放射方向のガスの取入口（６、６‐１）および／または少なくとも一つの接線方向のガスの取入口（６‐２、６‐３）を介して、ガスを供給されることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
8. プレナム（７）が、落下する物質のための少なくとも一つの排出口（９）を有するケースの形状を呈することを特徴とする、請求項７に記載の装置。
9. ガスの取入口が、温度ガス源によって供給される、請求項１から８のいずれか一つの記載の装置を含む乾燥器の設備。
10. 閉循路型の、特にセメント工業用の連続粉砕設備（４０）であり、
    −粉砕する製品の取入口および粉砕された製品の排出口を有する、特にローラまたはボール付き粉砕機（１５）、
    −請求項１から９のいずれか一つに記載の上昇流（Ｆａ）が内部を通過する粒度選択および乾燥装置（３０）によって構成され、前記粉砕機（１５）の取入口に接続された下部の濾過物排出口（９）および上部の舞い上がる物質の排出口を備え、その間にまた物質の供給口（４）を備える、選択−乾燥器（２２）、
    −少なくとも選択−乾燥器（２２）から舞い上がる物質の前記排出口に接続された少なくとも一つの物質の取入口、選択された物質用の排出口、および、粉砕機（１５）の取入口に接続された濾過物排出口（２３，２３’）を含む、力学的選択器（１６）、
    −力学的選択器（１６）の物質の排出口に接続された、選択された物質に満ちたガスを濾過することが可能なフィルタ（２１）を含み、
    −粉砕機（１５）の排出口が、力学的選択器（１６）の前記少なくとも一つの物質の取入口（１９‐１）および／または選択−乾燥器（２２）の供給口（４）（１９‐２）に接続され、
    −少なくとも一つの物質の供給装置（１７、１８）が、粉砕機（１５）の取入口および／または選択−乾燥器（２２）を供給口から供給する、
    連続粉砕設備。
11. 力学的選択器（１６）の濾過物導管（２３’）は、前記選択−乾燥器（２２）の濾過物排出口（９）の下または近傍に開口した選択−乾燥器（２２）のガス導管（１）の内側にあることを特徴とする、請求項１０に記載の設備。

Images