JP2010501510A - 医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するためのフュームドシリカ - Google Patents

医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するためのフュームドシリカ Download PDF

Info

Publication number
JP2010501510A
JP2010501510A JP2009524980A JP2009524980A JP2010501510A JP 2010501510 A JP2010501510 A JP 2010501510A JP 2009524980 A JP2009524980 A JP 2009524980A JP 2009524980 A JP2009524980 A JP 2009524980A JP 2010501510 A JP2010501510 A JP 2010501510A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fumed silica
sicl
ppm
producing
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2009524980A
Other languages
English (en)
Inventor
グレイ アン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Evonik Degussa GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Publication of JP2010501510A publication Critical patent/JP2010501510A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3009Physical treatment, e.g. grinding; treatment with ultrasonic vibrations
    • C09C1/3036Agglomeration, granulation, pelleting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3081Treatment with organo-silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/11Powder tap density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/10Process efficiency
    • Y02P20/129Energy recovery, e.g. by cogeneration, H2recovery or pressure recovery turbines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

医薬組成物及び化粧品組成物において助剤物質として使用するためのフュームドシリカは、− 90〜400m/gのBET表面積− 各元素について1ppm未満の含量のAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSe並びに5ppm未満のHgを有し、全ての元素は誘導結合プラズマ−原子発光分光法(ICP−AES)又は原子吸光分光法(AAS)によって測定される。

Description

本発明は医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するための高純度のフュームドシリカを提供する。
薬剤は通常、2つの群の異なる機能を備えた物質、即ち、有効成分及び助剤物質(賦形剤)を含む。
有効成分はそれらの特異的な薬理作用によって特徴付けられる。それらは薬剤の有効成分を表す。そのようなものとして、それらは包装及び添付文書の両方において定量的に確認される。
その一方で、助剤物質は薬理作用を示さない。それらは、好適な投与の形態、即ち薬剤を、有効成分のために調製できることが求められる。薬剤は通常、異なる機能を備えた複数の助剤物質を含有する。例えば、助剤物質は充填剤、バインダ、錠剤分解物質、潤滑剤又は離型剤として作用する。
多くの助剤物質は、安定して使い易く且つ有効な薬剤の開発において利用でき、該薬剤は1つの有効成分(又は複数の有効成分)及びこれらの助剤物質を含む。
高分散のフュームドシリカ、例えば、アエロジル(Aerosil)(登録商標)は、医薬組成物及び化粧品組成物においてよく使用される。これは、固体製品形態の流動助剤(free flow agent)、吸着剤及び乾燥剤として使用できるだけでなく液体製品形態及び半固体製品形態の懸濁安定剤及びゲル化剤としても使用できる。これはまた、錠剤の機械的安定性及び崩壊速度を向上させるために使用できる。これは更に有効成分の分布を向上させることができる。
しかしながら、なお助剤として使用するためのフュームドシリカの特性を向上させる必要がある。
本発明の対象は、医薬組成物及び化粧品組成物において助剤物質として使用するためのフュームドシリカであり、
前記フュームドシリカは
− 90〜400m/gのBET表面積
− 各元素について1ppm未満の含量のAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSe並びに5ppm未満のHg(全ての元素は誘導結合プラズマ原子発光分光法(ICP−AES)又は原子吸光分光法(AAS)によって測定された)
を有することを特徴とする。
有利にはAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSeの含量は各元素について0.1ppm未満であり、Hgは1ppm未満であり、全ての元素はICP−AESによって測定された。
最も有利にはAs、Cd、Cr、Hg、Pb、Sb及びSeの含量はICP−AESの検出下限を下回っており、これはAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSeの場合0.05ppmであり、Hgの場合0.4ppmである。
有利にはCo、Cr、Cu、Mn、Nb、Ni、Ta、Ti及びWの含量は、ICP−AESによって測定されると1ppm未満であり、最も有利には0.5ppm未満である。
有利にはFe及びAlの含量は、ICP−AESによって測定されると5ppm未満であり、最も有利には1ppm未満である。
有利にはClの含量は1000ppm未満であり、最も有利には250ppm未満である。
本発明のフュームドシリカは、反応:SiCl+2H+O→SiO+4HClに従って水素/酸素火炎中で四塩化ケイ素を加水分解することによって製造される。
この材料はその後の工程において高密度化できる。また、この材料をその後の工程において疎水化して疎水性の未高密度化材料を得て、次にこの未高密度化材料を高密度化することもできる。また、この材料をその後の工程において粒状化して顆粒を形成させることもできる。
使用される原料は、もっぱら、無機由来であり且つ非常に純粋である。作業条件を変えると、90〜400m/gの異なる比表面積を有する生成物が得られる。
フュームドシリカ粒子の製造中に、気化した四塩化ケイ素が水(水素ガスと酸素ガスによって生じる)と反応するとシリカの個々の粒子、即ち、一次粒子が形成される(図1a)。しかしながら、これらの粒子は孤立したままではなく、互いに衝突、結合そして焼結し、約150〜200ナノメートルの長さを有する枝分れした鎖状のアグリゲートが得られる(図1b)。このアグリゲートは、実際の最小単位のフュームドシリカ粒子である。このアグリゲートが溶融点より低く冷却されると、更なる衝突によって機械的なからみ合いとアグロメレーションと呼ばれる鎖の水素結合がもたらされる。このアグロメレートのサイズは、数百ミクロンであってよい(図1c)。アグロメレートは弱い力によってのみ結合するため、これらは混合又は分散中に容易にアグリゲートに破壊され得る。
この方法で製造された材料は親水性の性質である。
フュームドシリカアグロメレートは、サイズが一様でないため、良好に詰め込まれない。アグロメレート間の相当な量の空隙空間は通常のフュームドシリカの低いタップ密度の原因であり、また小さいアグロメレートはほこりっぽさの原因である。
このBET表面積は、有利には200±25m/g、特に有利には200±10m/gであってよい。
このBET表面積は、有利には300±25m/g、特に有利には300±15m/gであってよい。
このBET表面積は、有利には150±15m/g、特に有利には150±10m/gであってよい。
このBET表面積は、有利には90±15m/g、特に有利には90±10m/gであってよい。
本発明の別の対象は二酸化ケイ素粉末の製造方法であり、この方法は、
− 少なくとも1種のハロゲン化ケイ素を気化させ、この蒸気をキャリアガスによって混合室へ運び、燃焼ガスと一次空気(これらは場合により酸素富化及び/又は予備加熱されていてよい)を別々に混合室に運び、
− ハロゲン化ケイ素の蒸気、燃焼ガス及び一次空気の混合物がバーナーで点火され、この火炎が反応室中で燃焼し、
− 火炎を取り囲む二次空気が反応室中に導入され、一次空気に対する二次空気の比は0.05〜3、有利には0.15〜2の範囲であり、
− 次に固形物を気体物質から分離し、次いで該固形物を250℃〜750℃で蒸気処理し、
その際、
− ハロゲン化ケイ素は、SiCl、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl及び(n−C)SiClを含む群から選択され、
− ハロゲン化ケイ素は、各元素について1ppm未満の金属含量のAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSe並びに5ppm未満のHgを有し、全ての元素は誘導結合−原子発光分光法(ICP−AES)又は原子吸光分光法(AAS)によって測定され
− 酸素の全量は燃焼ガスとハロゲン化ケイ素の完全な燃焼に対して少なくとも十分であり
− ハロゲン化ケイ素、燃焼ガス、一次空気及び二次空気からなる供給材料の量は1350〜1900℃の断熱火炎温度Tadが得られるように選択され、その際、
ad=供給材料の温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/反応室を出た物質の熱容量であり、該物質は二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素を含み、場合により、キャリアガスが空気又は窒素でなければキャリアガスを含み、
これらの物質の1000℃での比熱容量を基準とする
ことを特徴とする。
本発明の特殊な実施態様において、ハロゲン化ケイ素の混合物が使用され、その際、SiClは混合物に対して60〜95質量%の割合の第1のハロゲン化ケイ素であり、第2のハロゲン化ケイ素は、混合物に対して5〜40質量%の割合の、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl、(n−C)SiClを含む群から選択されるものの1つである。
更に、SiCl、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl、(n−C)SiClが、ICP−AESによって測定されて1ppm未満の金属含量のCo、Cr、Cu、Mn、Nb、Ni、Ta、Ti及びWを有することが有利である。
また、SiCl、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl、(n−C)SiClが、ICP−AESによって測定されて5ppm未満の金属含量のFe及びAlを有することが有利である。
有利な実施態様において、供給材料の温度は90℃±40℃である。
別の有利な実施態様において、混合室から反応室への反応混合物の吐出速度は10〜80m/sである。
別の有利な実施態様において、断熱火炎温度Tadは1570〜1630℃である。
別の有利な実施態様において、断熱火炎温度Tadは1390〜1450℃である。
別の有利な実施態様において、断熱火炎温度Tadは1670〜1730℃である。
別の有利な実施態様において、断熱火炎温度Tadは1800〜1880℃である。
本発明の更なる実施態様において、フュームドシリカは80〜250g/lのタップ密度を有する高密度化されたフュームドシリカである。
本発明の有利な実施態様において、フュームドシリカは200±25m/gのBET表面積を有し且つ120±20g/lのタップ密度を有する。
高密度化されたフュームドシリカは、アグロメレートが穏やかに一緒に詰め込まれるのと同時に空気がアグロメレート間から除去される、高密度化技術によって製造される。未高密度化フュームドシリカ粒子よりも極めて微細な粉塵(粒子のサイズ<10〜20μm)を生成する、大きくて、より安定なアグロメレートが得られる。図2は、袋から直接取り出された、200m/gのBET表面積を有する未高密度化フュームドシリカのアグロメレートの乾燥粉末粒度分布(●)並びに同じBET表面積と120g/lのタップ密度を有する高密度化材料のアグロメレートの乾燥粉末粒度分布(△)を示す。値はレーザー回析法(コールター、乾燥粉末モジュール)を使用して測定された。高密度化材料は、部分的に更に大きなアグロメレート(>100μm)及び有意に更に小さなアグロメレート(「粉塵」<20μm)を含有する。図2においてx−軸はマイクロメートル(μm)での粒度を表し、y−軸は体積%を表す。
高密度化方法は純粋に物理的であり、未高密度化フュームドシリカと高密度化フュームドシリカとの間の唯一の違いは、それらのタップ密度である(図1を参照)。
Figure 2010501510
高密度化フュームドシリカは、未高密度化型よりも以下の取り扱いの利点がある:
− 秤量及び計量時に生じる粉塵が少なく、
− 作業領域での通気速度(及びゆえに製品損失)を低下させることができ、
− 使用後のクリーンアップの労力が減り、
− 少ない倉庫スペースですみ、
− 廃棄する包装が少ない。
製剤において最も効率的な結果を達成するために、混合中に高密度化フュームドシリカのより大きなアグロメレートを分解してよく、これは典型的な製薬混合工程を用いて達成される。
図3は、200m/gのBET表面積を有する未高密度化フュームドシリカの粒度分布(●)並びに同じBET表面積の高密度化フュームドシリカの粒度分布(△)を示し、共にピロリン酸ナトリウム緩衝液中で超音波を用いて1分間分散され、レーザー回析(コールター)によって測定される。アグロメレートが分散工程中に分解されたので、グラフはアグリゲートのサイズ分布を示す。図3においてx−軸はマイクロメートル(μm)での粒度を表し、y−軸は体積%を表す。
高密度化材料及び未高密度化材料のアグリゲートサイズはほぼ同じである。
本発明の更なる対象は高密度化フュームドシリカの製造方法であって、
ドラムの下面がフュームドシリカの粒体に接触した状態で、ドラムの外周面を覆うフィルターを有するドラムを回転させる工程と、ドラムの内部に減圧を加えてドラムの外周面に接触した当該フュームドシリカの層を引きつける工程と、その際、当該フュームドシリカの層がドラムの回転に伴って当該粒体から引き上げられる、当該ドラムの上部の外周面の大部分と平行な軌道経路において可撓性ベルトを動かす工程と、当該ベルトと当該ドラムとの間で当該フュームドシリカを高密度化させる工程と、減圧を解除してドラムから高密度化フュームドシリカを分離させる工程と、を含む高密度化フュームドシリカの製造方法である。
本発明の更なる実施態様において、フュームドシリカは表面処理された疎水性フュームドシリカである。
疎水性フュームドシリカは有利にはシラン処理できる。ハロシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンはシラン処理に利用できる。
特に、以下の物質をハロシランとして利用できる:
− XSi(C2n+1)(式中、X=Cl、Brそしてn=1−20である)型のハロ−オルガノシラン、
− X(R’)Si(C2n+1)(式中、X=Cl、BrそしてR’=アルキル、n=1−20である)型のハロ−オルガノシラン、
− X(R’)Si(C2n+1)(式中、X=Cl、Br、R’=アルキル、n=1−20である)型のハロ−オルガノシラン、
− XSi(CH−R’(式中、X=Cl、Br、m=0、1−20、R’=アルキルである)型のハロ−オルガノシラン、
− (R)XSi(CH−R’(式中、X=Cl、Br、R=アルキル、m=0、1−20、R’=アルキルである)型のハロ−オルガノシラン、
− (R)XSi(CH−R’(式中、X=Cl、Br、R=アルキル、m=0、1−20、R’=アルキルである)型のハロ−オルガノシラン。
特に、以下の物質をアルコキシシランとして利用できる:
− (RO)Si(C2n+1)(式中、R=アルキル、n=1−20である)型のオルガノシラン、
− R’(RO)Si(C2n+1)(式中、R=アルキル、R’=アルキル、n=1−20、x+y=3、x=1、2、y=1、2である)型のオルガノシラン、
− (RO)Si(CH−R’(式中、R=アルキル、m=0、1−20、R’=アルキルである)型のオルガノシラン、
− (R’’)(RO)Si(CH−R’(式中、R’’=アルキル、x+y=2、x=1、2、y=1、2、R’=アルキルである)型のオルガノシラン。
トリメトキシオクチルシラン[(CHO)−Si−C17](例えば、DYNASYLAN(登録商標)OCTMO、デグサAG社製)は、有利にはシラン処理剤として使用できる。
特に、以下の物質をシラザンとして利用できる:
Figure 2010501510
式中、R=アルキル、R’=アルキル、ビニル並びに、例えば、ヘキサメチルジシラザン(例えば、DYNASYLAN(登録商標)HMDS)である。
特に、以下の物質を以下の型のポリシロキサン又はシリコーン油として利用できる:
Figure 2010501510
R=アルキル、H;R’=アルキル、H;R’’=アルキル、H;R’’’=アルキル、H;Y=CH、H、C2n+1(式中、n=1−20;Y=Si(CH、Si(CHH、Si(CHOH、Si(CH(OCH)、Si(CH(C2n+1)(式中、n=1−20;m=0、1、2、3、・・・∞;n=0、1、2、3、・・・∞;u=0、1、2、3、・・・∞である)である。
本発明の更なる実施態様は、表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法であって、本発明によるフュームドシリカを、場合により最初に水及び/又は希酸と一緒に、次いで1種又は複数種のハロシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンと一緒に強力に混合しながら噴霧し、そして場合により混合を更に15〜30分間継続し、その後、100〜400℃の温度で1〜6時間にわたり焼戻しすることを特徴とする、表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法である。
本発明による表面処理された疎水性フュームドシリカの別の製造方法は、酸素を排除しながら、本発明によるフュームドシリカを、1種又は複数種のハロシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンと可能な限り均質に混合し、この混合物を、連続的な流動プロセスにおいて、垂直管形加熱炉の形態の処理室中で、不活性ガスと一緒に、200〜800℃、有利には400〜600℃の温度に加熱し、この固体状及びガス状の反応生成物を互いに分離し、次いでこの固体生成物を場合により脱酸及び乾燥することを特徴とする。
フュームドシリカを高密度化するための装置は米国特許第4877595号に示される。
図4は高温度においてジクロロジメチルシランを火炎処理して得られたフュームドシリカの反応を図示する。その結果、2つのメチル基は非常に安定なシロキサン結合によって表面に強固に結合する(第2表を参照のこと)。
Figure 2010501510
本発明の更なる実施態様においてフュームドシリカは顆粒形態である。
有利にはフュームドシリカをベースとした顆粒状材料は10〜120μmの平均粒度と40〜400m/gのBET表面積を有する(窒素を用いてDIN 66 131に従って測定される)。
有利にはシリカ粒状材料は0.5〜2.5ml/gの細孔容積を示し、この孔径分布において全細孔容積の5%未満は5nm未満の孔直径を有し、残りはメソ孔及びマクロ孔であり、3.6〜8.5のpH値、220〜700g/lのタップ密度(EP−A−725037号に記載された通りに測定する)である。
有利には顆粒状材料はメソ孔及びマクロ孔を示し、そのメソ孔の容積は総容積の10〜80%の割合を占める。顆粒状材料の粒度分布は、有利には80体積%が8μmより大きく且つ96μmより小さい。本発明の有利な実施態様において5μmより小さい細孔の割合は、細孔の全容積を基準として多くて5%である。
フュームドシリカをベースとした顆粒状材料もまたシラン処理してよい。従って顆粒状材料の炭素含有率は有利には0.3〜15.0質量%である。上述と同じハロゲン化されたシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンはシラン処理に使用してよい。
有利な実施態様において、顆粒状材料は約2.48ml/gの細孔容積を有する。その球状の性質のため、これはまた充填時にシリカゲルよりも遥かに扱い易い。図5は球状顆粒の走査型電子顕微鏡画像を示す。平均粒度は30μmである。
顆粒は、化学的ではなく物理的な顆粒化方法によってのみフュームドシリカから製造できる。従って、これはフュームドシリカと同じく高程度の純度を有する。この方法は、水及び本発明によるフュームドシリカからなる分散液を形成する工程、上記分散液を噴霧乾燥させる工程、及び場合により150℃〜1,100℃の温度で1〜8時間にわたり得られた顆粒を加熱する工程から成っている。
本発明によるフュームドシリカは、医薬組成物及び化粧品組成物において流動促進剤として使用できる。
多くの異なる種類の力が固体粒子間の密着性の機構、即ち、ファンデルワールスカ、静電力、液体ブリッジ及びからみ合いを決定する。典型的には固体粒子が小さいほど、これらの効果が顕著になるほど、粉末が凝集する結果となる(即ち、不良な粉末流動特性)。フュームドシリカは、これらの異なる機構を打ち消す作用をすることによって粉末の流動を改善する。ファンデルワールス力及び静電引力は、粒子間の距離が増えるにつれて減少する。小さいフュームドシリカアグリゲートはより大きな粉末粒子の表面に付着して距離を増やし、粒子間の引力を小さくする。火炎加水分解により得られたフュームドシリカの親水性の性質は、水分を引きつけて優先的に結合させ、粉体流動を妨げる固体粒子間の液体ブリッジの除去に役立つ。更に、アグリゲートはまた空隙を満たして粒子表面上の凹凸をならし、大きな粒子間のからみ合いを低減させる。
本発明によるフュームドシリカは、液体用の増粘剤として作用し得る。
液体中に分散させた時に、フュームドシリカの表面上のシラノール基が液体を介して直接的に又は間接的に互いに結合する。結果は一時的な、三次元の網様構造であり、これは「増粘」として肉眼で見える。媒体が非極性になるほど(ここでは用語「極性」が使用され、媒体分子の水素結合を形成する能力を意味する)、効果が顕著になる。例えば、200m/gのBET表面積を有するフュームドシリカによって達成できる液体パラフィン中の粘度は、水中の粘度よりも遥かに高い。剪断力を加える(撹拌、振盪)と、水素結合の格子が壊されて粘度が低下する。
本発明によるフュームドシリカは、錠剤及び充填されたカプセルを製造するために使用できる。これら両方の固体の剤形は、固定容積中に−空のカプセル又は打錠型のいずれかに充填された前駆物質粉末から製造される。単位重量(従って投与量)の均等性の規制要求事項を満たしながら高速機械の出力を最大にするために、前駆物質粉末が優れた流動特性を有することが不可欠である。
ほんの少量のフュームドシリカによって、粉末及び顆粒の流動及び充填特性が改善し、従って計量精度が改善する。未高密度化親水性フュームドシリカ及び高密度化親水性フュームドシリカはまた、水分を吸収すると即座に粉末及び顆粒を乾いた状態に保ち且つ保存中の易流動性を維持することに役立つ。
一般的に、粉末混合物の流動が不十分であるほど、流動促進剤としてフュームドシリカを使用して達成できる改善の度合いが高まる。しかしながら、粉末混合物はそれぞれ固有のものであるため、経験的な試験が常に必要とされる。0.5質量%(製剤全体を基準とする)のフュームドシリカの濃度で始めて、この量を上下させて調節し、最適な濃度を見出すことが好ましい。少なすぎる流動促進剤及び多すぎる流動促進剤は、最適以下の粉末流動をもたらし得る。流動促進剤が少なすぎる場合、又は流動促進剤は十分であるが混合エネルギーが少なすぎる場合、大きな粒子はフュームドシリカで不均質に被覆され得る。従って、賦形剤粒子間の引力の低下が不十分となり、最適以下の粉末流動がもたらされる。流動促進剤が多すぎる場合、又は混合エネルギーが過剰である場合、大きな粒子はフュームドシリカでほぼ完全に被覆される。この場合、フュームドシリカ粒子間の引力が有意に増加し、同時に粉末流動の低下が起こる。過剰混合もまた賦形剤粒子の分解による不十分な粉末流動をもたらし得る。
図6は、3種の一般的な賦形剤の純粋な物質としての安息角を比較し、また本発明による異なるフュームドシリカとの二成分混合物としての安息角を比較している。全てのフュームドシリカ類は純粋な賦形剤に対して粉末流動を向上させた。賦形剤に応じて、異なるタイプの性能の違いも認められた。微晶質セルロース(MCC;第1カラム)、予備ゼラチン化スターチ(第2カラム)、及びラクトース一水和物(第3カラム)と、0.5%の未高密度化フュームドシリカ(●;BET表面積200m/g)、0.5%の高密度化フュームドシリカ(×;BET表面積200m/g、タップ密度120g/l)、0.5%のジメチル基で表面改質された未高密度化フュームドシリカ(△;BET表面積110m/g)及びフュームドシリカなし(□)との二成分混合物の流動。混合条件:60rpmでフリーフォールミキサー中10分間。
混合方法はまた粉末の流動特性にかなりの影響を与え得る。混合が不十分である場合、フュームドシリカのアグロメレートは、より大きな粒子の表面を均一に被覆できる、より小さな粒子に十分に分解されない。一般的に、異なるフュームド酸化粒子のアグロメレートへの十分な分解に必要とされるエネルギーは以下の通りである:疎水性、未高密度化<親水性、未高密度化、<親水性、高密度化。
疎水性フュームドシリカのアグロメレートは最も容易に混合中に分解する。これは表面のヒドロキシル基の多くがメチル化されたためであり、もはや水素結合(アグロメレートを一緒に保持する力)が利用できない。
工程の注記事項:
− 経験的に配合物に対して一般に0.2〜1.0質量%である、最適なフュームドシリカ濃度を測定する。
− スクリーニング前に全量の使用されるフュームドシリカを少量の他の賦形剤粉末の1種と混合する。これは、フュームドシリカ粒子の再凝集を防ぐ。有利には本発明によるフュームドシリカ粒子を、潤滑剤、例えば、ステアリン酸マグネシウムと予備混合するべきではない。
− 有利な混合機はフリーフォール(重力式)ミキサー又は機械混合機であり、ほんの小さな剪断力(例えば、プラウシェアミキサー)を加える。本発明によるフュームドシリカ粒子を含有するプレミックスを、まずミキサーに加えて、次に他の粉末状成分を加えなければならない。
− 成分の1種が特に重要である場合−例えば、これが粘着性であり及び/又は不十分な流動性を有する場合−これをまず全量のフュームドシリカと混合し、次に他の成分を加えることが有用になり得る。
− フュームドシリカ顆粒を内部及び/又は外部の相に加えてよい。
本発明によるフュームドシリカは、カプセルを製造するために使用できる。
有利には空のカプセルを、高速プロセス全体にわたって同じ容積の前駆物質粉末の混合物で満たし、カプセルの重量偏差を最小にする。従って、不均一な流動を避けること並びに保存容器とカプセルとの間の経路上での粉体ブリッジ及び空隙の形成を避けることが重要である。この理由のため、本発明によるフュームドシリカは、ハードカプセルの充填に使用される粉末の流動を向上させるために使用される。
工程の注記事項:
− フュームドシリカを前駆物質粉末混合物に添加してその流動性を向上させる。
− 従来のフュームドシリカと比べて、高密度化フュームドシリカは粉末混合物のかさ密度及び/又はタップ密度をわずかに増加させ、これによりカプセル容積が一定のままである時にカプセル質量が増加され得る。
本発明によるフュームドシリカは、錠剤を製造するために使用できる。
錠剤もまた質量の均一性及び有効成分の含量に関する厳しい条件を満たさなければならない。この場合、これは容積測定的に粉末で満たされた打錠型である。直接的に圧縮可能な粉末は、流動促進剤として本発明によるフュームドシリカを含有してよく、高速の打錠機に必要な最適な粉末流動を得て、打錠量を増やし且つ加圧の停止時間を減らす。
流動促進剤としての役割に加えて、本発明によるフュームドシリカはまた、多くの錠剤調合物において付加的な利益を提供する。圧縮中の不相容性及び焼結プロセスを回避することができる。多くの調合物において、親水性の未高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g、タップ密度約50g/l及び親水性の高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g、タップ密度約120g/lは、−例えば、消化液から−錠剤の内部へ水を引くために「ウィック」として作用させることによって錠剤の分解速度を向上させることができる。
本発明によるフュームドシリカはまた、配合物中の他の成分及びそれらの圧縮特性(塑性変形、断片化等)に応じて、錠剤の硬さを増加させることができる。
工程の注記事項:
− フュームドシリカを前駆物質粉末混合物に添加してその流動性及び錠剤重量の均等性を向上させる。
− 親水性高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g、タップ密度約120g/lは、粉末混合物のかさ密度及び/又はタップ密度をわずかに増やし、これは打錠型の容積が一定のままである時に錠剤質量の増加をもたらし得る。
− ステアリン酸マグネシウムを使用する場合、ステアリン酸マグネシウムを軽く混合する前に、まずフュームドシリカを他の成分と混合すべきである。
− 親水性の型と比較して、疎水性の未高密度化フュームドシリカは、分解時間をわずかに長くし且つ錠剤の硬さと脆砕性を低下させる。しかしながら、これらの効果は配合物中の他の成分によって変わる。
本発明によるフュームドシリカは、被覆された錠剤を製造するために使用できる。
フュームドシリカは錠剤被覆プロセスの時間消費を大幅に減らし且つ該プロセスをより経済的にできる。従来の多層プロセスにおいて、これが積層粉末及び/又は顔料懸濁液に添加される。従って、積層粉末は良好な流動特性を獲得し且つ該粉末をコアの上に良好に分布させることができる。錠剤のコアがより速く乾燥するため、個々の塗膜をより短い時間間隔で施すことができる。機械的強度−特に縁での−が増大すると、双晶形成が防止される。またフュームドシリカの吸着能力によってコアが被覆中の湿気から確実に保護される。
フュームドシリカはまた、顔料懸濁液を安定化して被覆された錠剤の均一なきめに寄与する。
−最も現代的な被覆プロセスにおいて−堆積粉末を全く利用せず且つ高い濃度の被覆懸濁液しか使用しない場合、顔料懸濁液を安定化させて塗料のきめを向上させるために更にフュームドシリカを使用してよい。
工程の注記事項:
− 堆積粉末:有利には、10〜15質量%の濃度において、親水性未高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g、タップ密度約50g/l及び親水性高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g、タップ密度約120g/l
− 顔料懸濁液:有利には、0.5〜2.0質量%の濃度において、親水性未高密度化フュームドシリカ、BET表面積200±25m/g。
本発明によるフュームドシリカは液体及びペーストのためのキャリアとして使用できる。
液体及びペースト成分は、錠剤化される他の粉末状成分とのブレンドが難しいことが多い。顆粒形態のフュームドシリカは、これらを易流動性の扱い易い粉末に変換するために使用できる。
顆粒状材料は粉塵がほとんどなく、装填時でさえも自由に流動し、そして他の顆粒と同じくらい計量し易く且つ扱い易い。図7は種々の量のユーカリ油で担持されたシリカキャリアの安息角を示す。x−軸はシリカに対する油の比率(w/w)を表し、y−軸は度での安息角を表す。×=フュームドシリカ粉末、BET表面積300m/g、火炎加水分解により得られる、◆=シリカゲル、□=フュームドシリカ粉末の顆粒、BET表面積300m/g、細孔容積約2.48ml/g。
工程の注記事項:
− 1部のフュームドシリカ顆粒を混合容器に加える。実験室規模では、添加漏斗が取り付けられた三つ口フラスコが適している。大規模では、タンブラーミキサー又はプラウシェアミキサーを使用してよい。
− 1〜1.5部の液体を混合しながら徐々に添加する。噴霧も可能である。
− 液体が吸収されると、粉末は速やかに処理されるか又は後で使用するために保存されてよい。
− ペースト状成分は溶媒を必要とし得る。溶媒を減圧又は乾燥により除去してよい。多くの有効成分は熱に対して敏感であるが、顆粒は300℃まで安定である。
本発明によるフュームドシリカはゲル、軟膏、及び軟膏剤に使用できる。
非極性液体、例えば、植物性油、液体パラフィン又はミリスチン酸イソプロピルは、例えば、200±25m/gのBET表面積を有する未高密度化親水性フュームドシリカによって塗布可能なゲルに転換することができる。油の屈折率がフュームドシリカの屈折率に近い場合(1.46)、ゲルは透明である。これらのゲルは、温度にほとんど依存しない高粘度によって、及び顕著なチキソトロープ挙動によって区別される。従ってこれらは保存及び熱安定性に求められる厳密な条件を満たさなければならない調剤品に適している。フュームドシリカが使用されるほど、ゲルが増粘される。また疎水性フュームドシリカを使用して薬学的油を増粘することもできる。しかしながら、これは親水性フュームドシリカよりも効率が悪く、得られる粘度は低くなる。疎水性フュームドシリカを使用して油中水型エマルションの油相を増粘してよく、これにより該油相が安定化して有機乳化剤の必要性が低下する。両方の型も懸濁液、ゲル及びペースト中の不溶性成分の分布を改善する。
図8は、5cmブレード、7分間の剪断速度15m/秒のディソルバーを使用する場合の、200m/gのBET表面積を有する未高密度化親水性フュームドシリカの濃度(質量%;x−軸)とパルミチン酸エチルヘキシルの粘度(mPas;y−軸)との相関を示す。粘度の測定は24時間後に5rpmブルックフィールドを使用する。
工程の注記事項:
− 高剪断ミキサーは油中にフュームドシリカを分散させるために必要である。15m/秒以上の先端速度(円周速度)をもつローター−ステーター又はディソルバーシステムが推奨される。
− まず大規模の装置で達成可能な最大剪断速度を必ず計算し、実験室用機の操作時にこの速度を超えない。
− 添加の順序は重要ではない。
− 先端速度は分散時間よりも重要である。
− 3質量%のフュームドシリカの濃度で始め、これを所望の粘度に応じて上下させて調節する。
− 本発明によるフュームドシリカは微生物の栄養源ではないため、場合により保存剤を、調合物中の他の成分に応じて減らすか又は除去する。
本発明によるフュームドシリカは坐剤に使用できる。
フュームドシリカ、特に200±25m/gのBET表面積を有する未高密度化親水性フュームドシリカは、坐剤の製造に重要である。坐剤基剤(懸濁液坐剤)に不溶性又は溶解不良の有効成分は該シリカにより確実に均一に分布される。更に、該シリカは坐剤基剤の融点を変えずに該坐剤基剤の軟化点を上昇させ、そのことは暖かい気候での安定性を改善するための重要な特性である。完成坐剤の粘稠度及び機械的安定性もまた改善される。有効成分によって坐剤基剤(特に溶液坐剤)の融点が不必要に低下する場合、これはこの物質を、本発明によるフュームドシリカと一緒に最初に「磨砕する」ことによって防止できる。
工程の注記事項:
− 0.5〜2.0質量%の濃度が坐剤に推奨される
− 粉末状の、液体状の又はペースト状の有効成分をまずフュームドシリカと一緒に粉砕又は磨砕しなければならず、適切な場合、それらを溶融基剤に導入する前に篩いにかける。
− 半固体生成物には中速剪断型ミキサーを使用するべきである。
− 最初にフュームドシリカを添加して最大混合時間を確保する。
本発明によるフュームドシリカは懸濁液及びエーロゾルに使用できる。
未高密度化親水性フュームドシリカ、有利には、本発明による200±25m/gのBET表面積を有するフュームドシリカは、液体中での固形物の分散を安定化させる有効な賦形剤であり、液体懸濁液中の硬い沈殿物の形成とエアロゾルバルクの形成を防ぐ(吸入ではない局所的な使用)。これは錠剤の被覆に利用された顔料懸濁液にとって特に重要である。フュームドシリカは再乳化型粉末において湿潤剤として使用してよい。
工程の注記事項:
− 0.5〜3質量%の濃度において200±25m/gのBET表面積を有する未高密度化親水性フュームドシリカを使用する。
本発明によるフュームドシリカは任意の製薬学的有効成分と組み合わせて使用してよい。例えば、以下のものが挙げられる:α-プロテイナーゼ阻害剤、アバカビル、アブシキシマブ、アカルボース、アセチルサリチル酸、アシクロビル、アデノシン、アルブテロール、アルデスロイキン、アレンドロナート、アルフゾシン、アロセトロン(alosetrone)、アルプラゾラム、アルテプラーゼ、アンブロキソール、アミホスチン、アミオダロン、アミスルプリド(amisulprid)、アムロジピン、アモキシシリン、アンフェタミン、アンホテリシン、アンピシリン、アンプレナビル、アナグレリド、アナストロゾール、アンクロド、抗血友病因子、アプロチニン、アテノロール、アトルバスタチン、アトロピン、アゼラスチン、アジスロマイシン、アズレン、バルニジピン、ベクロメタゾン、ベナゼプリル、ベンセラジド、ベラプロスト、ベタメタゾン、ベタキソロール、ベザフィブラート、ビカルタミド、ビサボロール、ビソプロロール、ボツリヌス毒素、ブリモニジン、ブロマゼパム、ブロモクリプチン、ブデソニド、ブピバカイン、ブプロピオン、ブスピロン、ブトルファノール、カベルゴリン、カルシポトリエン、カルシトニン、カルシトリオール、カンフル、カンデサルタン、カンデサルタンシレキセチル、カプトプリル、カルバマゼピン、カルビドパ、カルボプラチン、カルベジロール、セファクロール、セファドロキシル、セファキシチン(cefaxitin)、セファゾリン、セフジニル、セフェピム、セフィキシム、セフメタゾール、セホペラゾン、セホチアム、セホキソプラン(cefoxopran)、セフポドキシム、セフプロジル、セフタジジム、セフチブテン、セフトリアキソン、セフロキシム、セレコキシブ、セリプロロール、セファレキシン、セリバスタチン、セチリジン、クロラムフェニコール、シラスタチン、シラザプリル、シメチジン、シプロフィブラート、シプロフロキサシン、シサプリド、シスプラチン、シタロプラム、クラリスロマイシン、クラブラン酸、クリンダマイシン、クロミプラミン、クロナゼパム、クロニジン、クロピドグレル、クロトリマゾール、クロザピン、クロモリン、シクロホスファミド、シクロスポリン、シプロテロン、ダルテパリン、デフェロキサミン、デソゲストレル、デキストロアンフェタミン、ジアゼパム、ジクロフェナク、ジダノシン、ジギトキシン、ジゴキシン、ジヒドロエルゴタミン、ジルチアゼム、ジフテリアタンパク質、ジフテリアトキソイド、ジバルプロエクス、ドブタミン、ドセタキセル、ドラセトロン、ドネペジル、ドルナーゼ−α、ドルゾラミド、ドキサゾシン、ドキシフルリジン、ドキソルビシン、ジドロゲステロン、エカベト、エファビレンツ、エナラプリル、エノキサパリン、エペリゾン、エピナスチン、エピルビシン、エプチフィバチド、エリスロポイエチン−α、エリスロポイエチン−β、エタネルセプト、エチニルエストラジオール、エトドラク、エトポシド、第VIII因子、ファムシクロビル、ファモチジン、ファロペネム(faropeneme)、フェロジピン、フェノフィブラート、フェノルドパム、フェンタニル、フェキソフェナジン、フィルグラスチム、フィナステリド、フロモキセフ、フルコナゾール、フルダラビン、フルニソリド、フルニトラゼパム、フルオキセチン、フルタミド、フルチカゾン、フルバスタチン、フルボキサミン、フォリトロピン−α、フォリトロピン−β、ホルモテロール、ホシノプリル、フロセミド、ガバペンチン、ガドジアミド、ガンシクロビル、ガチフロキサシン、ゲムシタビン、ゲストデン、グラチラマー、グリベンクラミド、グリメピリド、グリピジド、グリブリド、ゴセレリン、グラニセトロン、グリセオフルビン、B型肝炎抗原、ヒアルロン酸、ヒコシン(hycosin)、ヒドロクロロチアジド、ヒドロコドン、ヒドロコルチゾン、ヒドロモルホン、ヒドロキシクロロキン、ヒラン(hylan)G−F20、イブプロフェン、イホスファミド、イミダプリル、イミグルセラーゼ、イミペネム、免疫グロブリン、インジナビル、インドメタシン、インフリキシマブ、インスリン、ヒトインスリン、インスリンリスプロ、インスリンアスパルト、インターフェロンβ、インターフェロンα、ヨウ素125、イオジキサノール、イオヘキソール、イオメプロール、イオプロミド、イオベルソール、イオキソプロレン(ioxoprolen)、イプラトロピウム、イプリフラボン、イルベサルタン、イリノテカン、イソソルビド、イソトレチノイン、イスラジピン、イトラコナゾール、クロラゼプ酸カリウム、塩化カリウム、ケトロラク、ケトチフェン、百日咳ワクチン、凝固第IX因子、ラミブジン、ラモトリジン、ランソプラゾール、ラタノプロスト、レフルノミド、レノグラスチム、レトロゾール、リュープロリド、レボドパ、レボフロキサシン、レボノルゲストレル、レボチロキシン、リドカイン、リネゾリド、リシノプリル、ロパミドール(lopamidol)、ロラカルベフ、ロラタジン、ロラゼパム、ロサルタン、ロバスタチン、リジンアセチルサリチル酸、マニジピン、メコバラミン、メドロキシプロゲステロン、メゲストロール、メロキシカム、メナテトレノン、髄膜炎菌ワクチン、メノトロピン(menotropine)、メロペネム、メサラミン、メタキサロン、メトホルミン、メチルフェニデート、メチルプレドニゾロン、メトプロロール、ミダゾラム、ミルリノン、ミノサイクリン、ミルタザピン、ミソプロストール、ミトキサントロン、モクロベミド、モダフィニル、モメタゾン、モンテルカスト、モルニフルメート(morniflumat)、モルヒネ、モキシフロキサシン、ミコフェノール酸、ナブメトン、ナドロパリン、ナプロキセン、ナラトリプタン、ネファゾドン、ネルフィナビル、ネビラピン、ナイアシン、ニカルジピン、ニセルゴリン、ニフェジピン、ニルタミド、ニルバジピン、ニモジピン、ニトログリセリン、ニザチジン、ノルエチンドロン、ノルフロキサシン、オクトレオチド、オランザピン、オメプラゾール、オンダンセトロン、オルリスタット(orlistate)、オセルタミビル、エストラジオール、エストロゲン、オキサリプラチン、オキサプロジン、オキソリン酸、オキシブチニン、パクリタキセル、パリビズマブ、パミドロン酸、パンクレリパーゼ、パニペネム、パントプラゾール、パラセタモール、パロキセチン、ペントキシフィリン、ペルゴリド、フェニトイン、ピオグリタゾン、ピペラシリン、ピロキシカム、プラミペキソール、プラバスタチン、プラゾシン、プロブコール、プロゲステロン、プロパフェノン、プロポフォール、プロポキシフェン、プロスタグランジン、クエチアピン、キナプリル、ラベプラゾール、ラロキシフェン、ラミプリル、ラニチジン、レパグリニド、レセルピン、リバビリン、リルゾール、リスペリドン、リトナビル、リツキシマブ、リバスチグミン、リザトリプタン、ロフェコキシブ、ロピニロール、ロシグリタゾン、サルメテロール、サキナビル、サルグラモスチム、セラペプターゼ、セルトラリン、セベラマー、シブトラミン、シルデナフィル、シンバスタチン、ソマトロピン(somatropine)、ソタロール、スピロノラクトン、スタブジン、スルバクタム、スルファエチドール、スルファメトキサゾール、スルファサラジン、スルピリド、スマトリプタン、タクロリムス、タモキシフェン、タムスロシン、タゾバクタム、テイコプラニン、テモカプリル、テモゾロミド、テネクテプラーゼ、テノキシカム、テプレノン、テラゾシン、テルビナフィン、テルブタリン、破傷風トキソイド、テトラベナジン、テトラゼパム、チモール、チアガビン、チボロン、チカルシリン、チクロピジン、チモロール、チロフィバン、チザニジン、トブラマイシン、トコフェリルニコチナート、トルテロジン、トピラメート、トポテカン、トラセミド、トラマドール、トランドラプリル、トラスツズマブ、トリアムシノロン、トリアゾラム、トリメブチン、トリメトプリム、トログリタゾン、トロピセトロン、ツロブテロール、ウノプロストン、ウロフォリトロピン、バラシクロビル、バルプロ酸、バルサルタン、バンコマイシン、ベンラファキシン、ベラパミル、ベルテポルフィン、ビガバトリン、ビノレルビン、ビンポセチン、ボグリボース、ワルファリン、ザフィルルカスト、ザレプロン、ザナミビル、ジドブジン、ゾルミトリプタン、ゾルピデム、ゾピクロン及びそれらの誘導体。しかしながら、製薬学的有効成分はまた他の物質、例えば、ビタミン、プロビタミン、必須脂肪酸、植物及び動物由来の抽出物並びに植物及び動物由来の油を含むものと理解される。
本発明によるフュームドシリカは化粧品組成物のための助剤として作用し得る。これは、任意の粘稠度の化粧品組成物、例えば、粉末、液体、泡、スプレー、ジェル、クリーム、軟膏剤、ペースト、スティック又は錠剤において使用できる。従って、化粧品組成物は単相系又は多相系、例えば、エマルション、懸濁液又はエアロゾルであってよい。
化粧品組成物は、例えば、石けん;合成「ソープレス」ソープ;液体洗浄又はシャワー用調製物;入浴剤;メークアップリムーバー;剥離剤、スキンクリーム;スキンローション;フェイスマスク;フットケア製品;日焼け止め製品;皮膚なめし製品;脱着色製品;防虫剤;ウェットシェービング製品、例えば、スティック、クリーム、ゲル又はフォーム;ひげ剃り前用製品;アフターシェーブケア製品;脱毛剤製品;練り歯磨き;ヘアシャンプー;ヘアケア製品、例えば、ヘアマスク、リンス又はコンディショナー; パーマ製品;平滑化製品、ヘアスタイリング製品、例えば、セットローション、ヘアスプレー、ヘアラッカ、ヘアジェル又はヘアワックス;ヘアカラー、例えば、ブリーチ製品、染毛製品、色味剤又は発色剤;消臭剤又は制汗剤、例えば、スティック、ロールオン、ローション、粉末又はスプレー;フェイスメイクアップ、例えば、淡彩デイクリーム、クリーム〜粉末ファンデーション、フェイスパウダー、クリームファンデーション又はほお紅;アイメイク、例えば、アイシャドウ、マスカラ、コールペン、アイライナー又はアイブロウ;リップケア製品;装飾用リップケア製品、例えば、口紅、リップグロス又はリップペンシル;ネイルケア製品、例えば、マニキュア液、マニキュア除光液、甘皮リムーバー、ネイル硬化剤又はネイルケアクリームであってよい。
本発明はまた、上記で定義されたフュームドシリカと、吸着剤、収斂剤、抗菌物質、酸化防止剤、発汗抑制剤、消泡剤、フケ防止有効成分、抗静電気剤、バインダ、生物学的な添加剤、漂白剤、キレート剤、消臭剤、皮膚軟化剤、乳化剤、乳化安定剤、脱毛剤、色、水分含有剤、皮膜形成剤、香料、着香、毛髪着色剤、防腐剤、不凍液、整髪油、溶剤、口腔ケア物質、酸化剤、野菜成分、緩衝剤、還元剤、研磨剤、洗浄剤、推進剤、混濁剤、紫外線フィルター及び紫外線吸収剤、変性剤、粘度調節剤及びビタミンから選択された少なくとも1種の成分とを含有する、化粧品組成物を提供する。
フュームドシリカが使用される化粧品組成物によって、これは種々の機能を有し得る。例えば、該フュームドシリカは製品の皮膚感覚(ボールベアリング効果)、皮膚への付着及び適用のし易さを改善する役割を果たす。更に、装飾的化粧品、例えば、メイクアップの長期間の安定性は、皮膚の脂肪及び油の吸着によって改善される。装飾的化粧品においても、これは光の最適且つ均一な分布によってしわの外観を少なくする。肌及び髪の洗浄製品の場合、当該フュームドシリカは研磨剤として作用し得る。これはまた、化粧品成分の特性又は更に不快な臭いを隠す又は吸収するのに好適であり、そうでなければ使用できない。更なる機能は、高揮発性物質、例えば、精油、アロマ及び香水の固定、又は徐放出及び制御放出である。多くの化粧品組成物においてこれらはまた増量剤として働く。疎水性フュームドシリカは特に防水性化粧品の製造に好適である。
しかしながら、本発明によるフュームドシリカは有利には化粧品有効成分及び/又は助剤物質のキャリアとして作用する。従って本発明はまた、本発明によるフュームドシリカ顆粒の吸着物及び少なくとも1種のこれらの物質に関する。
本明細書中で使用される「吸着物」という表現は、フュームドシリカの表面上の物質の吸着だけでなく、細孔における粒子間の空隙中への「装入」をも包含する。「吸着物」はまた、フュームドシリカ顆粒又はそれらの断片が物質の固体粒子又は液滴を被覆することを意味し得る。後者の場合、粒子又は液滴間の引力が低下し、例えば、流動挙動が改善されるか又は液滴が一緒に流動しないようにされている。
本発明による化粧品有効成分は、Umbach(1995年)によって定義されるように、化粧品中の物質を意味すると考えられ、これは適用条件下で、物理的、物理的/化学的、化学的、生化学的及び/又は主題に関連した作用を有し、とりわけ生理機能及び/又は皮膚又は粘膜の機能及びそれらの付属器、並びに歯に影響を与えるが、生体への顕著な効果を除く。本発明によるフュームドシリカに吸着され得る化粧品有効成分の例は、ビタミン;湿分含有剤、例えば、ポリアルコール、セラミド及びセラミドに類する化合物;物理的及び化学的UVフィルター及び収斂剤である。
化粧品助剤物質のうち、化粧品オイル、香水、着香又は色が二酸化ケイ素顆粒上に吸着されるのが好ましい。香水及びフレーバーは、天然、即ち、植物性もしくは動物性であるか、又は合成、即ち、完全合成及び半合成であるかのいずれかであってよい。
植物性香水の例は精油及び樹脂様物質である。動物性香水は、例えば、ジャコウ、シベット、カストリウム及びアンバーグリスを含む。完全合成の香水として、天然等価物を有する香水と純粋に発明された組成物との両方が挙げられる。半合成香水は、天然香水から単離されたものであり、従って化学的に変質したものであると理解される。
着色剤はまた天然又は合成であってよく;それらは有機又は無機化合物であってよい。
吸着物におけるヒュームドシリカに対する物質の量の比は、物質の特性及び最終生成物の要求に応じて随意に選択してよい。しかしながら、フュームドシリカ100g当たり0.001〜200gの物質を、特に10〜150gで使用するのが好ましい。
本発明による吸着物の製造方法の例は:
(a)化粧品有効成分及び助剤物質から選択される、吸着される物質の融解工程、又は分布工程、即ち、溶媒中のこれらの物質の溶解、懸濁又は乳化工程;
(b)フュームドシリカと工程(a)からの混合物とを混合する工程;及び
(c)場合により、溶媒の除去工程
を含む。
溶媒はまた複数の異なる溶媒の混合物を含む。室温において液体である物質の場合、「融解工程」が既に実施されたので、前処理を施さずに工程(b)で混合させることができることも理解されている。混合工程(b)は、工程(a)からの混合物をフュームドシリカに添加する、例えば、噴霧することによるか、又はその逆のいずれかによって実施できる。両方の場合において、添加は1回で又は数回に分けて実施できる。工程(b)での混合時間は主にシリカ表面上に吸着される物質の吸着挙動によって変わる。溶媒が存在する場合、工程(a)及び工程(b)は溶媒の凝固点と沸点の間の温度で実施される。任意に過剰溶媒は、有利には昇温及び/又は減圧下で、工程(c)において除去される。
工程(c)において溶媒の除去もまた、噴霧又は流動床乾燥のいずれかによって実施され得る。この場合、成型工程を同時に実施する。
図1は一次粒子(a)とアグリゲート(b)とアグロメレート(c)を示す。 図2は未高密度化フュームドシリカのアグロメレートの乾燥粉末粒度分布(●)と高密度化材料のアグロメレートの乾燥粉末粒度分布(△)を示す。 図3は未高密度化フュームドシリカの粒度分布(●)と高密度化フュームドシリカの粒度分布(△)を示す。 図4は高温度においてジクロロジメチルシランを火炎処理して得られたフュームドシリカの反応を示す。 図5は球状顆粒の走査型電子顕微鏡画像を示す。 図6は、3種の賦形剤の純粋な物質としての安息角の比較及び該賦形剤と本発明による異なるフュームドシリカとの二成分混合物としての安息角の比較を示す。 図7は種々の量のユーカリ油で担持されたシリカキャリアの安息角を示す。 未高密度化親水性フュームドシリカの濃度(質量%;x−軸)とパルミチン酸エチルヘキシルの粘度(mPas;y−軸)との相関を示す。
実施例
分析:フュームドシリカをその金属含量について分析する。この試料を主にHFを有する酸性溶液中に溶解させる。このSiOはHFと反応して、SiF及び水が生じる。SiFが蒸発して、金属を残し、これを測定する。個々の試料を蒸留水で希釈し、Perkin Elmer Optima 3000 DVを用いて誘導結合プラズマ原子発光分光法(ICP−AES)により内標準に対して分析する。
実施例1:約200m/gのBET表面積を有するフュームドシリカ:
70kg/hの四塩化ケイ素及び35kg/hのメチルトリクロロシランを気化させて窒素によりバーナーの混合室に移す。同時に、水素40Nm/h及び一次空気195Nm/hを混合室中に導入する。混合物は90℃の温度を示す。これに点火し、反応室中で火炎燃焼させる。更に、火炎を囲む二次空気30Nm/hを、反応室中へ導入する。
反応ガスと生じた二酸化ケイ素に部分真空を印加して冷却システムに引き込み、これらを100〜160℃の値に冷却する。フィルター又はサイクロンにおいて、固形物を排ガス流から分離し、次いで450℃の温度で蒸気処理する。
部分反応からの反応エンタルピーの合計:−196.1KW;生成物の熱容量:0.13KJ/s・K;断熱火炎温度:1573℃
BET表面積は204m/gである。この金属含量を第4表に示す。
実施例2:約300m/gのBET表面積を有するフュームドシリカ:
160kg/hの四塩化ケイ素及び20kg/hのメチルトリクロロシランを気化させて窒素によりバーナーの混合室に移す。同時に、水素58Nm/h及び一次空気190Nm/hを混合室中に導入する。混合物は90℃の温度を示す。これに点火し、反応室中で火炎燃焼させる。バーナーからの吐出速度は33.6m/sである。更に、火炎を囲む二次空気60Nm/時間を、反応室中へ導入する。一次空気に対する二次空気の比は0.28である。
反応ガス及び形成された二酸化ケイ素を、部分真空の印加により冷却システムを通して吸引し、これらを100〜160℃の値に冷却する。フィルター又はサイクロンにおいて、固形物を排ガス流から分離し、次いで560℃の温度で蒸気処理する。
部分反応からの反応エンタルピーの合計:−229.2KW;生成物の熱容量:0.17KJ/s・K;断熱火炎温度:1427℃
BET表面積は302m/gである。この金属含量を第5表に示す。
実施例3:高密度化フュームドシリカ
実施例1のフュームドシリカは米国特許第4877595号に記載された方法に従って高密度化される。タップ密度は120g/l(DIN55943に従う)である。
実施例4:疎水性フュームドシリカ
実施例1のフュームドシリカをミキサーに入れて、最初に水(2部の水/100部のシリカ)で噴霧し、次いで10部のヘキサメチルジシラザン/100部のシリカ)及び5部のメチルトリメトキシシラン/100部のシリカで噴霧する。次に、この反応混合物を二段階の熱処理にかけた(2時間、20℃;24時間、140℃)。
実施例5:フュームドシリカ顆粒
実施例2のフュームドシリカ10kgをローター/ステーター分散装置を用いて脱イオン水100kg中に分散させる。分散液を噴霧乾燥させる。生成物をフィルターに置く。噴霧乾燥顆粒材料の熱処理を380℃のマッフル炉中で行う。顆粒のBET表面積は280m/gである。この粒度d50は29μmである。
実施例6:高密度化フュームドシリカを用いた医薬組成物
粉末状成分を指示された順に0.01gの精度まで秤量し、手で混合する。この混合物をメッシュ寸法0.75mmの篩いに通し、次いでフリーフォールミキサー(重力式ミキサー又は「ターブラー(turbula)」ミキサーとしても公知)を使用して10分間にわたりガラス製のフラスコ中で混合する。この組成物を次いで錠剤に圧縮してカプセル中に充填する。
実施例7:フュームドシリカ顆粒を用いた医薬組成物
実施例5の50.0gのフュームドシリカ顆粒を高さ600ml容量のビーカー内に装入し、50.0gのビタミンEアセテート(BASF社製)を、ヘラを使用して数回に分けて撹拌した。速やかに油状液体に吸収された顆粒は、粉塵を全く発生させず且つ静電荷を生じない。ビタミンEアセテートの総量は10分以内に処理できる。乾燥混合物は次いで0.75mmのメッシュ幅を有する篩いを通して篩い分けて一晩放置する。この顆粒を次いで他の賦形剤と混合してカプセル中に充填するか、又は錠剤化する。
Figure 2010501510
Figure 2010501510

Claims (25)

  1. 医薬組成物及び化粧品組成物において助剤物質として使用するためのフュームドシリカであって、前記フュームドシリカは
    − 90〜400m/gのBET表面積
    − 各元素について1ppm未満の含量のAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSe並びに5ppm未満のHg(全ての元素は誘導結合誘導結合プラズマ−原子発光分光法(ICP−AES)又は原子吸光分光法(AAS)によって測定された)
    を有することを特徴とする、医薬組成物及び化粧品組成物において助剤物質として使用するためのフュームドシリカ。
  2. 前記フュームドシリカが、ICP−AESによって測定されて1ppm未満の金属含量のCo、Cr、Cu、Mn、Nb、Ni、Ta、Ti及びWを有することを特徴とする、請求項1記載のフュームドシリカ。
  3. 前記フュームドシリカが更に、ICP−AESによって測定されて5ppm未満の金属含量のFe及びAlを有することを特徴とする、請求項1又は2記載のフュームドシリカ。
  4. 前記フュームドシリカが更に、1000ppm未満の塩化物含量を有することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  5. 前記BET表面積が200±25m/gであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  6. 前記BET表面積が300±25m/gであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  7. 前記BET表面積が150±15m/gであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  8. 前記BET表面積が90±15m/gであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  9. 前記フュームドシリカが表面処理された疎水性フュームドシリカであることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  10. 前記フュームドシリカがタップ密度80〜250g/lを有する高密度化されたフュームドシリカであることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  11. 前記フュームドシリカが顆粒の形であることを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載のフュームドシリカ。
  12. 請求項1から8までのいずれか1項記載の二酸化ケイ素粉末の製造方法であって、
    − 少なくとも1種のハロゲン化ケイ素を気化させ、この蒸気をキャリアガスによって混合室へ運び、燃焼ガスと一次空気(これらは場合により酸素富化及び/又は予備加熱されていてよい)を別々に混合室に運び、
    − ハロゲン化ケイ素の蒸気、燃焼ガス及び一次空気の混合物がバーナーで点火され、この火炎が反応室中で燃焼し、
    − 火炎を取り囲む二次空気が反応室中に導入され、一次空気に対する二次空気の比は0.05〜3、有利には0.15〜2の範囲であり、
    − 次に固形物を気体物質から分離し、次いで該固形物を250℃〜750℃で蒸気処理し、
    その際、
    − ハロゲン化ケイ素は、SiCl、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl及び(n−C)SiClを含む群から選択され、
    − ハロゲン化ケイ素は、各元素について1ppm未満の金属含量のAs、Cd、Cr、Pb、Sb及びSe並びに5ppm未満のHg(全ての元素は誘導結合プラズマ−原子発光分光法(ICP−AES)又は原子吸光分光法(AAS)によって測定された)を有し、
    − 酸素の全量は燃焼ガスとハロゲン化ケイ素の完全な燃焼に対して少なくとも十分であり、且つ
    − ハロゲン化ケイ素、燃焼ガス、一次空気及び二次空気からなる供給材料の量は1350〜1900℃の断熱火炎温度Tadが得られるように選択され、その際、
    ad=供給材料の温度+部分反応の反応エンタルピーの合計/反応室を出た物質の熱容量であり、該物質は二酸化ケイ素、水、塩化水素、二酸化炭素、酸素、窒素を含み、場合により、キャリアガスが空気又は窒素でなければキャリアガスを含み、
    これらの物質の1000℃での比熱容量を基準とすることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載の二酸化ケイ素粉末の製造方法。
  13. ハロゲン化ケイ素の混合物が使用され、SiClは混合物に対して60〜95質量%の割合の第1の成分であり、第2の成分は混合物に対して5〜40質量%の割合の、HSiCl、HSiCl、HSiCl、CHSiCl、(CHSiCl、(CHSiCl、(n−C)SiClを含む群から選択されることを特徴とする、請求項12記載の方法。
  14. 供給材料の温度が90℃±40℃であることを特徴とする、請求項12又は13記載の方法。
  15. 混合室から反応室への反応混合物の吐出速度が10〜80m/sであることを特徴とする、請求項12から14までのいずれか1項記載の方法。
  16. ハロゲン化ケイ素がICP−AESによって測定されて1ppm未満の金属含量のTi、Mn、Cu、Cr、Ni、Co、W、Nb及びTaを有することを特徴とする、請求項12から15までのいずれか1項記載の方法。
  17. ハロゲン化ケイ素が更に、ICP−AESによって測定されて5ppm未満の金属含量のFe及びAlを有することを特徴とする、請求項12から16までのいずれか1項記載の方法。
  18. 断熱火炎温度Tadが1570〜1630℃であることを特徴とする、請求項12から17までのいずれか1項記載の方法。
  19. 断熱火炎温度Tadが1390〜1450℃であることを特徴とする、請求項12から17までのいずれか1項記載の方法。
  20. 断熱火炎温度Tadが1670〜1730℃であることを特徴とする、請求項12から17までのいずれか1項記載の方法。
  21. 断熱火炎温度Tadが1800〜1880℃であることを特徴とする、請求項12から17までのいずれか1項記載の方法。
  22. 請求項9記載の表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法であって、請求項1から8までのいずれか1項記載のフュームドシリカを、場合により最初に水及び/又は希酸と一緒に、次いで1種又は複数種のハロシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンと一緒に強力に混合しながら噴霧し、そして場合により混合を更に15〜30分間継続し、その後、100〜400℃の温度で1〜6時間にわたり焼戻しすることを特徴とする、請求項9記載の表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法。
  23. 請求項10記載の表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法であって、酸素を排除しながら、請求項1から8までのいずれか1項記載のフュームドシリカを、1種又は複数種のハロシラン、アルコキシシラン、シラザン及び/又はシロキサンと可能な限り均質に混合し、この混合物を、連続的な単流プロセスにおいて、垂直管形加熱炉の形態の処理室中で、不活性ガスと一緒に、200〜800℃、有利には400〜600℃の温度に加熱し、この固体状及びガス状の反応生成物を互いに分離し、次いでこの固体生成物を場合により脱酸及び乾燥することを特徴とする、請求項10記載の表面処理された疎水性フュームドシリカの製造方法。
  24. 請求項10記載の高密度化フュームドシリカの製造方法であって、
    ドラムの下面が請求項1から8までのいずれか1項記載のフュームドシリカの粒体に接触した状態で、ドラムの外周面を覆うフィルターを有するドラムを回転させる工程と、ドラムの内部に減圧を加えてドラムの外周面に接触した前記フュームドシリカの層を引きつける工程と、その際、前記フュームドシリカの層がドラムの回転に伴って前記粒体から引き上げられる、前記ドラムの上部の外周面の大部分と平行な軌道経路において可撓性ベルトを動かす工程と、前記ベルトと前記ドラムとの間で前記フュームドシリカを高密度化させる工程と、減圧を解除してドラムから高密度化フュームドシリカを分離させる工程と、を含む、請求項10記載の高密度化フュームドシリカの製造方法。
  25. 請求項11記載の顆粒の形のフュームドシリカの製造方法において、水及び請求項1から8までのいずれか1項記載のフュームドシリカからなる分散液を形成する工程、前記分散液を噴霧乾燥させる工程、及び場合により得られた顆粒を150℃〜1,100℃の温度で1〜8時間にわたり加熱する工程を含む、請求項11記載の顆粒の形のフュームドシリカの製造方法。
JP2009524980A 2006-08-22 2007-07-04 医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するためのフュームドシリカ Withdrawn JP2010501510A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006039273A DE102006039273A1 (de) 2006-08-22 2006-08-22 Pyrogenes Siliciumdioxid zur Verwendung als Hilfsstoff in pharmazeutischen und kosmetischen Zusammensetzungen
PCT/EP2007/056732 WO2008022836A1 (en) 2006-08-22 2007-07-04 Fumed silica for use as auxiliary in pharmaceutical and cosmetic compositions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010501510A true JP2010501510A (ja) 2010-01-21

Family

ID=38577443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009524980A Withdrawn JP2010501510A (ja) 2006-08-22 2007-07-04 医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するためのフュームドシリカ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20090311159A1 (ja)
EP (1) EP2054343A1 (ja)
JP (1) JP2010501510A (ja)
CN (1) CN101130432A (ja)
DE (1) DE102006039273A1 (ja)
WO (1) WO2008022836A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020525389A (ja) * 2017-07-13 2020-08-27 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG 高分散二酸化ケイ素を製造する方法

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080081069A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-03 Lupin Limited Novel controlled release formulations of divalproex sodium
DE102007035955A1 (de) * 2007-07-30 2009-02-05 Evonik Degussa Gmbh Oberflächenmodifizierte, pyrogen hergestellte Kieselsäuren
BR112012015653B1 (pt) * 2009-12-29 2023-09-26 W.R. Grace & Co. -Conn. Composição que compreende um material de sílica particulado poroso e película transparente que compreende a mesma
AU2010337087B2 (en) * 2009-12-29 2016-09-22 W. R. Grace & Co.-Conn. Compositions for forming obscuration films and methods of making and using the same
US20110244382A1 (en) 2010-04-06 2011-10-06 Christopher Alyson M Hydrophobic silica particles and method of producing same
CN102530962B (zh) * 2010-12-10 2015-06-03 中国科学院过程工程研究所 一种燃烧法合成疏水性纳米二氧化硅颗粒的方法
JP5902810B2 (ja) * 2011-06-20 2016-04-13 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 成形研磨粒子を含むパーソナルケア組成物
EP2749319A1 (en) 2011-08-31 2014-07-02 Natura Cosméticos S.A. Cosmetic composition for the lips containing spherical silica microparticles
WO2013148241A1 (en) 2012-03-26 2013-10-03 Cabot Corporation Treated fumed silica
CN103091304A (zh) * 2012-11-13 2013-05-08 江苏艾兰得营养品有限公司 复合维生素片中硅含量的测定方法
CN105102117A (zh) * 2013-02-01 2015-11-25 格雷斯公司 作为用于液体技术的载体的多孔硅胶
CN103494821B (zh) * 2013-10-01 2018-09-25 迪沙药业集团有限公司 一种头孢克肟组合物
CN104568535A (zh) * 2013-10-29 2015-04-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Vpd样品收集方法
CN105769872B (zh) * 2014-12-25 2019-05-03 成都康弘药业集团股份有限公司 一种快速溶出的枸橼酸莫沙必利组合物
CN108698884A (zh) * 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅粉末的蒸汽处理
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
KR20180094087A (ko) 2015-12-18 2018-08-22 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조
CN108698885A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中硅含量的提升
US11339076B2 (en) 2015-12-18 2022-05-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass
CN108698880B (zh) 2015-12-18 2023-05-02 贺利氏石英玻璃有限两合公司 不透明石英玻璃体的制备
KR20180095880A (ko) 2015-12-18 2018-08-28 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 합성 석영 유리 결정립의 제조
WO2017103125A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Sprühgranulieren von siliziumdioxid bei der herstellung von quarzglas
US10730780B2 (en) 2015-12-18 2020-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
EP3390303B1 (de) 2015-12-18 2024-02-07 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung von quarzglaskörpern mit taupunktkontrolle im schmelzofen
US10676388B2 (en) 2015-12-18 2020-06-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass
FR3055633B1 (fr) 2016-09-08 2020-06-12 Total Marketing Services Granules de brai solides a temperature ambiante
FR3055630B1 (fr) 2016-09-08 2020-07-10 Total Marketing Services Composition bitumineuse pour enrobes a module eleve
FR3055568B1 (fr) 2016-09-08 2020-01-31 Total Marketing Services Procede de fabrication de materiau sous forme de granules utilisable comme liant routier ou liant d’etancheite et dispositif pour sa fabrication
FR3055623B1 (fr) 2016-09-08 2020-04-17 Total Marketing Services Liant clair solide a froid
FR3055631B1 (fr) 2016-09-08 2018-09-28 Total Marketing Services Bitume solide a temperature ambiante
CN106517221B (zh) * 2016-11-11 2019-04-05 江西德弘新材料有限公司 一种具有高分散稳定性的二氧化硅及其制备方法与应用
FR3059674B1 (fr) 2016-12-07 2018-11-23 Total Marketing Services Bitume solide a temperature ambiante
FR3059673B1 (fr) 2016-12-07 2018-11-23 Total Marketing Services Liants solides
FR3061191B1 (fr) 2016-12-22 2019-05-24 Total Marketing Services Composition d’asphalte coule pour la realisation de revetements
FR3061190B1 (fr) 2016-12-22 2022-05-27 Total Marketing Services Liant solide a temperature ambiante
JP7257741B2 (ja) * 2018-01-18 2023-04-14 株式会社リコー トナー、トナー収容ユニット、及び画像形成装置
EP3597615A1 (en) 2018-07-17 2020-01-22 Evonik Operations GmbH Granular mixed oxide material and thermal insulating composition on its basis
CN109632769A (zh) * 2018-12-03 2019-04-16 中化地质矿山总局地质研究院 一种测定钛矿石中金红石型TiO2的方法
CN109632932B (zh) * 2018-12-29 2021-12-14 上海微谱化工技术服务有限公司 一种拉米夫定制剂中元素分析方法
KR20220127284A (ko) 2020-01-14 2022-09-19 에보니크 오퍼레이션즈 게엠베하 증가된 극성을 갖는 실리카-기재 소수성 과립상 재료

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1531432A (en) * 1975-02-14 1978-11-08 Procter & Gamble Ltd Detergent compositions
DE3741846A1 (de) * 1987-02-26 1989-01-26 Degussa Verfahren zum verdichten von pyrogen hergestellter kieselsaeure
JPH05224456A (ja) * 1992-02-14 1993-09-03 Fuji Xerox Co Ltd 静電荷像現像剤とその製造方法および画像形成方法
DE69717958T2 (de) * 1996-10-17 2003-04-30 Sumitomo Rubber Ind Luftreifen
EP1199335B1 (de) * 2000-10-21 2010-12-22 Evonik Degussa GmbH Funktionalisierte Kieselsäuren
DE10163179A1 (de) * 2001-12-21 2003-07-10 Degussa Granulate auf Basis von pyrogen hergestelltem Siliziumdioxid, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US20040091411A1 (en) * 2002-11-08 2004-05-13 Bijan Modrek-Najafabadi High surface area, high porosity silica packing with narrow particle and pore diameter distribution and methods of making same
CN100475692C (zh) * 2003-05-06 2009-04-08 株式会社德山 疏水性热解法二氧化硅
DE10349284A1 (de) * 2003-10-23 2005-06-16 Wacker-Chemie Gmbh Ultrareine fumed Silica
DE102005001408A1 (de) * 2005-01-12 2006-07-20 Degussa Ag Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxidpulver

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020525389A (ja) * 2017-07-13 2020-08-27 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG 高分散二酸化ケイ素を製造する方法
JP7479849B2 (ja) 2017-07-13 2024-05-09 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 高分散二酸化ケイ素を製造する方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20090311159A1 (en) 2009-12-17
DE102006039273A1 (de) 2008-02-28
EP2054343A1 (en) 2009-05-06
CN101130432A (zh) 2008-02-27
WO2008022836A1 (en) 2008-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010501510A (ja) 医薬組成物及び化粧品組成物において助剤として使用するためのフュームドシリカ
KR100755193B1 (ko) 약제학적 및 향장적 제형
US7815936B2 (en) Use of granular materials based on pyrogenically produced silicon dioxide in pharmaceutical compositions
JP4320254B2 (ja) 医薬品化合物中の熱分解法シリカに基づく粒体材料の使用
CN101522174A (zh) 辊压热解制备的二氧化硅在药物组合物中的应用
KR101616590B1 (ko) 지지체용 신규 침강 규산
JP6218823B2 (ja) 粒状の官能化シリカ、その製造方法及びその使用
CN101484140B (zh) 辊压热解制备的二氧化硅在药物组合物中的应用
AU2002321191A1 (en) Use of granular materials based on pyrogenically produced silicon dioxide in pharmaceutical compositions

Legal Events

Date Code Title Description
A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100215