JP2010286349A - レーザ式ガス分析装置及びこの装置を用いたガス分析方法 - Google Patents

レーザ式ガス分析装置及びこの装置を用いたガス分析方法 Download PDF

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Abstract

【課題】機器をプロセスラインから取外すことなくキャリブレーションを行うことが可能なレーザ式ガス分析装置を提供する。
【解決手段】測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置において、
レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備えている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザ式ガス分析装置に関し、詳しくはプロセスラインに取付けられた分析装置をプロセスラインから取り外すことなくキャリブレーションが可能なレーザ式ガス分析装置及びこの装置を用いたガス分析方法に関する。
CO,NO等の各種ガス濃度等を検出する分析装置としてレーザ式ガス分析装置が知られている。この分析装置は、レーザ光を測定ガス雰囲気中に照射して、レーザ光の光路に存在する分子・原子によりレーザ光が光吸収されることを利用するものである。
レーザ吸収法を実現するレーザ分析装置は、測定ガス雰囲気中に向けて測定用レーザ光を照射するレーザ光源と、測定空間を透過した測定用レーザ光を検出するレーザ光検出器(受光素子)と、このレーザ光検出器の出力信号を処理する演算処理装置と、により構成されている。
このようなレーザ分析装置の従来技術として、例えば、図2に示すレーザ分析装置が知られている。図2は従来技術のレーザ分析装置の構成図である。図2において、1は測定ガス2が流れる管路である。管路1の途中には固定フランジ3a,3bが導管4a,4bを介して対向して配置されている。
10aは一端に取付けフランジ6aが固定された投光部モジュールで、レーザ光源(LD)5を内蔵した投光室7と、投光側ケース8aで構成されている。10bは一端に取付けフランジ6bが固定された受光部モジュールで、PD(フォトダイオード)9を内蔵した受光室11と、受光側ケース8bで構成されている。
13は制御部・表示部であり、LD5の出力を制御したり、PD9の出力を表示する。投光側ケース8aには制御部13からの指令によりLDを駆動するための電子回路が組み込まれ、受光側ケース8bにはPD9からの信号を処理するための電子回路が組み込まれている。なお、投光室7及び受光室11にはパージガスの入口、出口(P1〜P4)が設けられパージガス(N)によりパージされている。
上述の構成において、投光部モジュール10aと受光部モジュール10bがそれぞれ固定フランジ3aおよび3bに対向して取付けられ、測定用レーザ光Aが管路1中を流れる測定ガス2に照射され、受光部モジュール10bを構成するPD9に入射する。
この計測は、光路上のガス等により測定用レーザ光が吸収され、この吸収量がガス等の濃度と関連することを利用してその濃度等を検出するものである。即ち、波長を連続的に変化させながら(変調をかけながら)測定用レーザ光を測定空間に照射しており、この結果得られるPD9の出力信号を制御部・表示部13に含まれる演算処理装置(図示省略)で演算・分析することにより検出対象である分子・原子のデータを得るものである。
上述の構成のレーザ式ガス分析装置は、煙道など排気ガスが流れる箇所に直接設置されており、また、測定ガスの吸収のみを見るためそれ以外の空間はパージガス出入口(p1〜p4)により不活性ガス(例えばN)でパージされている。
特開2007−170841号公報 特開2009−47677号公報
ところで、このようなレーザ式ガス分析装置は所定時間経過毎、若しくは必要に応じて校正を行う必要がある。その場合、大口径のプロセスライン中にゼロガス・スパンガスを流すことは不可能であるため、機器の校正を行う場合には、投光部モジュール10aおよび受光部モジュールを10bをプロセスラインから取外し別のユニット(校正セル等)を用いてキャリブレーションを行う必要があった。
そのため、校正に際しては多くの工数を要するという課題があった。従って本発明は、機器をプロセスラインから取外すことなくキャリブレーションを行うことが可能なレーザ式ガス分析装置を提供することを目的としている。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置においては、
測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置において、
レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備えたことを特徴とする。
請求項2においては、請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置において、
前記分岐手段はビームスプリッタであることを特徴とする。
請求項3においては、請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置において、
前記第1、第2フォトダイオードは同じ温度になる程度に近接して配置されたことを特徴とする。
請求項4においては、請求項1乃至3のいずれかに記載のレーザ式ガス分析装置において、ゼロガスとしてN、スパンガスとして測定対象ガスを用いたことを特徴とする。
請求項5においては、
測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置のゼロ・スパン調整方法において、
レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備え、
ゼロ調整時には前記第1、第2投光室と第1、第2受光室にゼロガスを流して得られた第1,第2フォトダイオードの出力に基づいてゼロ調整を行い、スパン調整時には第1投光室と第1受光室にスパンガスを流して得られた第1フォトダイオードの出力と、第2投光室と第2受光室にスパンガスを流して得られた第2フォトダイオードの出力に基づいてスパン調整を行うことを特徴とする。
以上説明したことから明らかなように本発明の請求項1〜4によれば、レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備えているので、機器を取付けた状態のままでゼロ・スパン調整が可能なレーザ式ガス分析装置を実現することができる。
請求項5によれば、
測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置のゼロ・スパン調整方法において、
レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備え、
ゼロ調整時には前記第1、第2投光室と第1、第2受光室にゼロガスを流して得られた第1,第2フォトダイオードの出力に基づいてゼロ調整を行い、スパン調整時には第1投光室と第1受光室にスパンガスを流して得られた第1フォトダイオードの出力と、第2投光室と第2受光室にスパンガスを流して得られた第2フォトダイオードの出力に基づいてスパン調整を行うので、機器を取付けた状態のままでゼロ・スパン調整が可能となる。
本発明のレーザ式ガス分析装置の実施形態の一例を示す要部構成図である。 従来のレーザ式ガス分析装置の一例を示す要部構成図である。
図1は本発明のレーザ式ガス分析装置の実施形態の一例を示す要部構成図である。
図1において、図2に示す従来例と同一要素には同一符号を付している。
1は測定ガス2が流れる管路であり、この管路1の途中には固定フランジ3a,3bが導管4a,4bを介して対向して配置されている。
20aは一端に取付けフランジ6aが固定された投光部モジュールで、投光部17と投光側ケース18aで構成されている。投光部17にはLD5、ビームスプリッタ(BS)22及びミラー23が配置されている。また、投光部17は第1投光室17aと、第2投光室17bに分割されており、互いの室は気体の交換がないように気密に隔離されている。
20bは一端に取付けフランジ6bが固定された受光部モジュールで、受光部21と受光側ケース18bで構成されている。受光部21はPD9aが配置された第1受光室21aと、PD9bが配置された第2受光室21bに分割されており、互いの室は気体の交換がないように気密に隔離されている。
投光部モジュール10aと受光部モジュール10bはそれぞれ固定フランジ3aおよび3bに対向して取付けられる。
13は制御部・表示部であり、LD5の出力を制御したり、PD9a又はPD9bのいずれか、又は両方の出力の平均値を表示する。
上述の構成において、LD5から出力された測定用レーザ光AがBS22により透過光A1と反射光A2に分割され、反射光はミラー23により反射して透過光と反射光が同時に管路1中を流れる測定ガス2に照射される。測定ガス2で特定の波長が吸収されたレーザ光は対向して配置された第1受光室21a及び第2受光室21b内に配置されたPD9a、PD9bにそれぞれ入射する。
なお、第1,第2投光室17a、17b及び第1,第2受光室21a、21bにはパージガスの入口、出口(P1〜P8)が設けられ、吸収のない不活性ガス(N等)によりパージされている。
そして、通常の測定においては、PD1、PD2の出力のどちらか一方、もしくは双方の出力の平均から測定ガスの濃度を算出する。
次にゼロ調整を行う場合について説明する。ゼロ調整の方法としてはPD1若しくはPD2のいずれかを基準とし、その基準に合わせ込む方法で行う。
第1,第2投光室17a、17b及び第1,第2受光室21a、21bには入口P1,P3,P5,P7から吸収のない不活性ガス(N等)が導入され、出口P2,P4,P6,P8から排出されている。
ここで、PD1の出力をPout1、PD2の出力をPout2とし、測定ガスに吸収されるレーザの吸収量(減衰量)をそれぞれQ1、Q2とすると
Pout1=Q1
Pout2=Q2
となるが、装置組立の状態で Q1=Q2となるように2つのPDのGain調整を行っておく。
また、実際のプロセスライン中では2つのPDは非常に近接して配置されるため
ガス温度、圧力、濃度分布差はほぼ等しいことから、Q1≒Q2となるが装置環境などによりQ1,Q2はそれぞれ変動要因を有している。
そこで、PD1信号からPD2信号を減算した信号Pout1’またはPout1’の符号を反転された信号(=Pout2’)により、PD1またはPD2のいずれかを基準にゼロキャリブレーションを実施する。
次にスパン調整を行う場合について説明する。
第1投光室17a、第1受光室21aにパージガスの入出口(P3,P4,P7,P8)を介してスパンガス(例えば100%のOを混入したガス)を導入する。
プロセスラインの測定ガスの吸収をAとすれば、PD9aの出力は
Pout1=A+S1+S2 (S1:第1投光室17aで受けるスパンガス吸収)
(S2:第1受光室21aで受けるスパンガス吸収)
となる。
同時に第2投光室17b、第2受光室21bにパージガスの入出口(P1,P2,P5,P6)を介して不活性ガス(例えばN)を導入する。
この場合も、プロセスラインの測定ガスの吸収をAとすれば、PD9bの出力は
Pout1=A
となる。
2つの出力差分信号(Pout1’=Pout1−Pout2=
S1+S2(スパンガス吸収)から、PD1に対してスパンキャリブレーションを行うことが可能となる。
この方法によれば、サンプルラインのガス濃度変動影響を受けないため機器を設置したまま、機器の校正を行うことが可能となる。
なお、第1,第2投光部17a,17b、第1,第2受光部21a,21bの長さはキャリブレーションに必要な規定のパス長(例えば100mm程度)を備えているものとする、
なお、以上の説明は、本発明の説明および例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎない。例えば、スパン調整に際しては100%(フルスパン)の点について示したが25%,50%,75%の点についても同様に行うことができる。
従って本発明は、上記実施例に限定されることなく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、変形を含むものである。
1 管路
2 測定ガス
3 固定フランジ
4 導管
5 レーザダイオード(LD)
6 取付けフランジ
7 投光室
8a,18a 投光側ケース
8b,18b 受光側ケース
9フォトダイオード(PD)
10a,20a 投光部モジュール
10b,20b 受光部モジュール
11 受光室
13 制御部・表示部
21 受光部
21a 第1受光室
21b 第2受光室
22 ビームスプリッタ(BS)
23 ミラー

Claims (5)

  1. 測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置において、
    レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備えたことを特徴とするレーザ式ガス分析装置。
  2. 前記分岐手段はビームスプリッタであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置。
  3. 前記第1、第2フォトダイオードは同じ温度になる程度に近接して配置されたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ式ガス分析装置。
  4. ゼロガスとしてN、スパンガスとして測定対象ガスを用いたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のレーザ式ガス分析装置。
  5. 測定ガス中にレーザ光を照射し、そのレーザ光の光吸収による光量変化からガス濃度を測定するレーザ式ガス分析装置のゼロ・スパン調整方法において、
    レーザダイオードと、該レーザダイオードから出射したレーザ光を2方向に分岐する分岐手段と、分岐したレーザ光がそれぞれ入射する所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2投光室と、該それぞれの投光室を通り測定ガスを透過したレーザ光を受光する第1、第2フォトダイオードと、前記それぞれのフォトダイオードが配置され所定の長さを有すると共に気密に隔てられた第1、第2受光室を備え、
    ゼロ調整時には前記第1、第2投光室と第1、第2受光室にゼロガスを流して得られた第1,第2フォトダイオードの出力に基づいてゼロ調整を行い、スパン調整時には第1投光室と第1受光室にスパンガスを流して得られた第1フォトダイオードの出力と、第2投光室と第2受光室にスパンガスを流して得られた第2フォトダイオードの出力に基づいてスパン調整を行うことを特徴とするレーザ式ガス分析装置の測定方法。
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