JP2010284152A - 光学的検出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】容易に製造することができる、高性能でコンパクトな光学的検出装置を提供すること。
【解決手段】本発明では、複数のウエルが形成された第1の基板と、前記ウエルに接するように加熱手段が設けられた第2の基板と、前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光照射手段が設けられた第3の基板と、前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光検出手段が設けられた第4の基板と、が少なくとも備えられた光学的検出装置を提供する。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学的検出装置に関する。より詳細には、遺伝子発現解析、感染症検査、またSNP解析等の遺伝子解析、タンパク質解析、細胞解析などに供せられる光学的検出装置等に関する。
近年、DNAチップ若しくはDNAマイクロアレイをはじめとするハイブリダイゼーション検出技術の実用化が進んでいる。DNAチップは、多種・多数のDNAプローブを基板表面に集積して固定したものである。このDNAチップを用いて、DNAチップ基板表面のハイブリダイゼーションを検出することにより、細胞・組織等における遺伝子発現等を網羅的に解析することができる。
そして、このマイクロアレイにより得られたデータを、リアルタイムPCR法(polymerase chain reaction;ポリメラーゼ連鎖反応)を用いて検証することが微量核酸の定量分析の標準的手法となっている。リアルタイムPCR法は、「熱変性→プライマーとのアニーリング→ポリメラーゼ伸長反応」という増幅サイクルを連続的に行なうことで、DNA等を数十万倍にも増幅させることができる。このようにして得られるPCR増幅産物を、リアルタイムでモニタリングして前記微量核酸の定量分析を行なう方法である。このリアルタイムPCR法では、サーマルサイクラーと分光蛍光光度計を一体化した専用の装置等を用いて、前記PCR増幅産物をリアルタイムでモニタリングする方法が用いられている。
核酸の増幅手法としては、前記PCR法以外に、等温でDNAを増幅するSMAP法、LAMP法、NASBA法、ICAN法などもあるが、以下、代表的な増幅方法であるリアルタイムPCRの検出方法について説明する。
まず、特異性の高いプライマーにより目標とする遺伝子ターゲットのみを増幅可能な場合等には、SYBR(登録商標)GreenIを用いるインターカレーター法などが用いられる。
インターカレーター法では、二本鎖DNAに結合することで蛍光を発する性質を有するインターカレーターを用いる。このインターカレーターをPCR反応の過程で生成する二本鎖DNAに結合させ、これに対して励起光を照射することで蛍光が発せられる。この蛍光強度を検出することで、PCR増幅産物の生成量をモニターする。このインターカレーター法では、ターゲットに特異的な蛍光標識プローブを設計・合成する必要がなく、種々のターゲットの測定に簡便に利用できる。
また、構造が類似する配列を区別して検出したい場合や、SNPsのタイピングのようにマルチプレックス検出が必要な場合等には、プローブ法が用いられる。プローブ法としては、例えば、その5´末端をクエンチャー物質で、3´末端を蛍光物質で修飾したオリゴヌクレオチドをプローブとして用いるTaqMan(登録商標)プローブ法が挙げられる。
TaqManプローブは、アニーリングステップでは鋳型DNAに特異的にハイブリダイズするが、プローブ上に前記クエンチャー物質が存在するため、励起光を照射しても消光されるため蛍光を発しない。しかし、伸長反応ステップでは、TaqDNAポリメラーゼの持つ5´→3´エキソヌクレアーゼ活性によって鋳型DNAにハイブリダイズしたTaqManプローブが分解される。これによって、前記蛍光物質がプローブから遊離し、クエンチャーによる抑制が解除されて蛍光が発せられる。この蛍光強度を検出することで、PCR増幅産物の生産量をモニターできる。
前記各方法によって遺伝子発現量をリアルタイムPCRで定量する手順をより詳細に説明する。まず、段階希釈した濃度既知の標準サンプルを鋳型としてPCRを行い、一定の増幅産物量に達するサイクル数(threshold cycle;Ct値)を求める。このCt値を横軸として、初発のDNA量を縦軸にプロットし、検量線を作成する。これを踏まえて、未知濃度のサンプルについて同様の条件でPCR反応を行ってCt値を求める。このCt値と前記検量線とからサンプル中の目的のDNA量を測定する。
これらに関する技術として、特許文献1や特許文献2では増幅反応時の温度制御等に関する技術が開示されている。
特表2003−525617号公報 特開2001−136954号公報
光学的検出装置では、ウエル中で進行する各種反応をリアルタイムに測定する必要がある。たとえば、核酸増幅検出に用いる光学的検出装置では、核酸増幅過程をリアルタイムに測定する必要がある。そのため、各種反応が行われるウエル、各種反応を促進させるための加熱手段、励起光を照射するための光照射手段、各ウエルからの蛍光等の光を検出する光検出手段、など様々な手段を備える必要がある。
一方、近年のバイオ技術開発の著しい発展に伴い、精度が高く、よりコンパクトな光学的検出装置の開発が期待されている。
そこで、本発明では、容易に製造することが可能な、高性能でコンパクトな光学的検出装置を提供することを主目的とする。
本発明では、まず、複数のウエルが形成された第1の基板と、
前記ウエルを加熱するための加熱手段が設けられた第2の基板と、
前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光照射手段が設けられた第3の基板と、
前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光検出手段が設けられた第4の基板と、
が少なくとも備えられた光学的検出装置を提供する。
本発明に係る光学的検出装置は、必要な各手段をそれぞれ個別の基板に設けているため、それぞれの基板を積層させるだけで、光学的検出装置を製造することが可能である。
前記加熱手段は、前記第2の基板の全面に設けてもよいが、各ウエルの位置に対応して前記第2の基板上に、複数、位置決めすることも可能である。
本発明に係る光学的検出装置に用いることができる前記加熱手段は、前記各ウエルを加熱することができるものであれば、その構成は特に限定されないが、一例としては、前記第2の基板に透明電極をパターニングすることにより構成することが可能である。
この場合、透明電極としては、例えば、ITO電極やZnO電極などを挙げることができる。
また、前記加熱手段によるウエルの加熱は、ウエルのどちら側から行うことも可能である。例えば、前記第2の基板を、前記第1の基板の前記第3の基板側若しくは前記第4の基板側のいずれに積層してもよい。更に、前記第2の基板を、前記第1の基板を挟持するように前記第1の基板の両側に積層して、ウエルの両側から加熱を行うことも自由である。
本発明に係る光学的検出装置は、前記第1の基板から前記第4の基板を少なくとも備えていればよいが、前記各光照射手段と前記各ウエルとの間や、前記各ウエルと前記各光検出手段との間に、複数の集光レンズを配置することも可能である。
本発明に係る光学的検出装置は、前記ウエル中における核酸増幅を検出可能な核酸増幅検出装置として機能させることも可能である。
この場合、本発明に係る光学的検出装置で行うことが可能な核酸増幅は、遺伝子増幅法として幅広く利用されているPCR(Polymerase Chain Reaction)法のみならず、SMAP(SMart Amplification Process)法、LAMP(Loop-Mediated Isothermal Amplification)法、ICAN(Isothermal and Chimeric primer-initiated Amplification of Nucleic acids)法、NASBA(nucleic acid sequence-based amplification)法などの等温増幅法を用いた核酸増幅も可能である。
本発明によれば、光学的検出装置に必要な各手段を、複数の基板のそれぞれが対応する位置に設けているため、それぞれの基板を積層させるだけで、高性能でコンパクトな光学的検出装置を容易に製造することが可能である。
本発明に係る光学的検出装置1の第1実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第1基板11の一例を模式的に示す平面模式図である。 図2に示す第1基板11の一例を、矢印A−Aから視たA−A矢視断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第2実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第3実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第4実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第5実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第6実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第7実施形態を模式的に示す断面模式図である。 本発明に係る光学的検出装置1の第8実施形態を模式的に示す断面模式図である。
以下、本発明を実施するための好適な形態について図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本発明の範囲が狭く解釈されることはない。なお、説明は以下の順序で行う。
(1)ウエル111(第1の基板11)
(2)加熱手段121(第2の基板12)
(3)光照射手段131(第3の基板13)
(4)光検出手段141(第4の基板14)
(5)集光レンズ151a、151b、151c
(6)光学フィルター161a、161b、161c
(7)アパーチャー171a、171b、171c、171d、171e、隔壁
(8)装置の具体例
図1は、本発明に係る光学的検出装置1の第1実施形態を模式的に示す断面模式図である。本発明に係る光学的検出装置1は、(1)第1の基板11と、(2)第2の基板12と、(3)第3の基板13と、(4)第4の基板14と、を少なくとも備える光学的検出装置である。また、必要に応じて、(5)集光レンズ151a、151bや(6)光学フィルター161a、161bを備えることも可能である。
各基板を形成する素材は特に限定されず、通常、核酸増幅検出装置などの光学的検出装置に用いることが可能な素材を自由に選択して用いることができる。本発明では特に、各基板中を、光を通過させるため、光透過性を有するポリカーボネート、ポリオレフィン系、アクリル系などのプラスチック樹脂、PDMS(polydimethylsiloxane)などのシリコン系樹脂、ガラス等の基板を用いることが好ましい。
以下、本発明に係る光学的検出装置1の各基板および該各基板に設けられた各手段などについて、それぞれ詳細に説明する。
(1)ウエル111(第1の基板11)
第1の基板11には、複数のウエル111を形成する。ウエル111は、核酸増幅、ハイブリダイゼーション、核酸、タンパク質、細胞などの物質間相互作用などが進行する反応場である。
本発明に係る光学的検出装置1を核酸増幅検出装置として用いる場合、行うことが可能な核酸増幅は、遺伝子増幅法として用いられているあらゆる方法を自由に選択して用いることができる。例えば、PCR(Polymerase Chain Reaction)法、SMAP(SMart Amplification Process)法、LAMP(Loop-Mediated Isothermal Amplification)法、ICAN(Isothermal and Chimeric primer-initiated Amplification of Nucleic acids)法、NASBA(nucleic acid sequence-based amplification)法、SDA(strand displacement amplification)法、TMA(transcription-mediated amplification)法、TRC(transcription-reverse transcription concerted)法、などを挙げることができる。この中でも特に、本発明では、SMAP法、LAMP法、ICAN法、NASBA法などの等温増幅法を用いることが好ましい。等温増幅法では、PCR法のように温度を変化させる必要がないため、放熱機構なども必要なく、装置全体をコンパクト化することができるからである。
本発明に係る光学的検出装置1では、ウエル111を形成する第1の基板11の一方の面から励起光を照射し、ウエル111内の各種物質から発せられる蛍光等の光を、第1の基板11の他方の面から検出する。そのため、ウエル111は、光透過性を有するポリカーボネート、ポリオレフィン系、アクリル系などのプラスチック樹脂、PDMS(polydimethylsiloxane)などのシリコン系樹脂、ガラス等を用いて形成することが好ましい。
なお、各ウエル111への核酸などの各種物質の導入は、特に限定されず公知の方法を自由に用いることが可能である。例えば、図2および図3に示すように、基板上に各ウエル111へ通じる流路Fを形成し、流路Fを通じて各ウエル111へ各種物質を導入することができる。
(2)加熱手段121(第2の基板12)
第2の基板12には、前記ウエル111を加熱するための加熱手段121を設ける。加熱手段121に用いる加熱方法は特に限定されず、公知のあらゆる方法を自由に選択して用いることができる。例えば、基板に電極をパターニングする方法などを挙げることができる。
加熱手段121は、前記ウエル111を加熱できるように設けられていれば、その形態は特に限定されない。図1に示すように、各ウエル全てを一括で加熱できるように、第2の基板12の全面に加熱手段121を設けても良いが、図4の第2実施形態に示すように、各ウエル111の位置に対応するように、個々の加熱手段121を位置決めして設けることも可能である。個々に加熱手段121を設ければ、各ウエル毎に加熱温度や加熱時間の精密な制御を行うことが可能である。
個々に加熱手段121を設ける場合、各加熱手段121は、各ウエル111の面積より大きく設計することが好ましい。加熱手段121のエッジの部分は、加熱効率が低下する場合があるが、各加熱手段121を各ウエル111の面積より大きくすることで、エッジ部分の加熱効率の低下を抑制することが可能である。
制御方法としては、例えば、加熱手段121に図示しないが温度センサーを設置し、測定した温度をフィードバックすることにより、精密な制御が可能である。
また、個々に加熱手段121を設ければ、局所的に各ウエル111を加熱することができるため、消費電力の低減にも貢献する。例えば、SMAP法を採用し、100nL程度のウエル9個を60℃で30分加熱する場合、ITO電極を9個用いた場合には平均0.6W程度の消費電力であるが、ペルチェ素子を用いると平均約10Wと一桁大きい電力が必要である。
更に、個々に加熱手段121を設ければ、個別にウエル111の温度を制御できるため、ウエル111間の温度のばらつきを防止することもできる。
加えて、加熱手段121として電極を用いる場合には、装置の小型化を実現させることが可能である。例えば、ペルチェ素子を用いる場合、均一な温度分布を得るために、ペルチェ素子の上に熱拡散用のセラミック板を設置する必要がある。さらに、ペルチェは放熱および吸熱のためのヒートシンクとファンを必要とするため厚みで約30mmが必要となる。一方、例えばITO電極やZnO電極などの透明電極を用いる場合には、該電極をパターニングする第2の基板の厚さ(例えば、0.7mm)のみでよく、装置全体の小型化が可能である。
なお、例えば、図5の第3実施形態のように、電極を用いた加熱手段121と、ペルチェ素子を組み合わせることも可能である。例えば、20〜40℃の定温ペルチェ171を組み合わせると、電極を用いた加熱手段121の温度制御時のハンチングを抑制し、安定した温度調節が可能となる。
加熱手段121を設けた第2の基板12は、各ウエル111が形成された第1の基板11に積層されるため、加熱手段121も、光照射手段131から照射された励起光、若しくは各種物質から発せられる蛍光等の光を透過させる必要がある。そのため、加熱手段121として電極を用いる場合、透明電極を用いることが必要である。この場合、透明電極としては、例えば、ITO電極またはZnO電極を挙げることができる。
加熱手段121によるウエル111の加熱は、ウエル111のどちら側から行うことも可能である。図1の第1実施形態、図4の第2実施形態、および図5の第3の実施形態のように、ウエル111の図面向かって下側から加熱することに限定されず、例えば、図6の第4実施形態のように、ウエル111の図面向かって上側から加熱することも可能である。
例えば、加熱手段121として、ITO電極またはZnO電極などの透明電極を用いた場合、加熱により透過率が低下する場合がある。しかし、ウエル111の図面向かって上側(後述する第3の基板13側)に加熱手段121を配置することにより、ウエル111から発せられた光を、後述する光検出手段141が十分に検出することが可能となり、SN比の向上を図ることが可能である。
また、例えば、図7の第5実施形態のように、ウエル111を両側から加熱することも可能である。ウエル111を両側から加熱する場合、ウエル内の温度を均一に保つことが容易となる利点が生じる。
本発明に係る光学的検出装置1の加熱手段121は、第2の基板12に設けられているため、ウエル111が形成された第1の基板11に対する第2の基板12の積層位置を変更するだけで、簡単に加熱方向を設定することができる。例えば、第2の基板12を、第1の基板11の図面向かって上側(後述する第3の基板13側)に積層すれば、ウエル111を上側から加熱することができる。また、例えば、第2の基板12を2枚用意し、第1の基板11を挟持するように第1の基板の両側に積層すれば、ウエル111を両側から加熱することができる。
更に、第2の基板12を、第1の基板11の図面向かって下側(後述する第4の基板14側)に積層する場合、第2の基板12の図面向かって下側(後述する第4の基板14側)に、図示しないが、反射防止コーティングをすることが好ましい。反射防止コーティングを行うと、可視光域で3〜5%の透過率の向上が見込めるからである。
(3)光照射手段131(第3の基板13)
第3の基板13には、ウエル111の位置に対応するように、複数の光照射手段131を位置決めして設ける。この光照射手段131は、ウエル111中の蛍光物質やインターカレーターなどに励起光を照射するための手段である。
本発明に係る光学的検出装置1の光照射手段131は、第3の基板13に、ウエル111の位置に対応するように複数、設けられているため、第3の基板と、第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111に正確に光照射を行うことが可能である。そのため、ウエル111に合わせて、光照射手段を走査させる必要がなく、光照射手段を移動させるための駆動機構が必要ないため、装置の小型化が実現できる。
また、1つの光照射手段から複数のウエルに、一括で励起光を照射する場合、色収差を無くすための長い光路が必要となり、従来の装置では、大型化が避けては通れなかった。しかし、本発明に係る光学的検出装置1では、光照射手段131を設けた第3の基板と、ウエル111を形成した第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111に一括して光照射を行うことが可能であるため、これもまた、装置の小型化につながる。
本発明に係る光学的検出装置1の光照射手段131に用いることができる光照射方法は、特に限定されず、公知の光照射方法を自由に選択して用いることができる。例えば、LED(Light Emitting Diode)、半導体レーザー、EL照明などを用いた光照射方法を1種または2種以上自由に選択して用いることが可能である。
光照射手段131での光照射は、一括で点灯させ、後述する光検出手段141を用いて一括で検出することにより、シグナル取得時間を短縮することができる。あるいは、各光照射手段131を、高速で順次点灯させることで、隣接する光照射手段131からのノイズを抑制することも可能である。
(4)光検出手段141(第4の基板14)
第4の基板14には、ウエル111の位置に対応するように、複数の光検出手段141を位置決めして設ける。この光検出手段141は、ウエル111中の蛍光物質やインターカレーターから発せられる蛍光等の光を検出し、ウエル111中の増幅産物の生産量をモニターするための手段である。
本発明に係る光学的検出装置1の光検出手段141は、第4の基板14に、ウエル111に対応するように複数、設けられているため、第4の基板と第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111から発せられた蛍光などの光を正確に検出することが可能である。そのため、ウエル111に合わせて、光検出手段を走査させる必要がなく、光検出手段を移動させるための駆動機構が必要ないため、装置の小型化が実現できる。
本発明に係る光学的検出装置1の光検出手段141に用いることができる検出方法は、特に限定されず、公知の光検出方法を自由に選択して用いることができる。例えば、PD(photo Diode)、電荷結合素子(CCD)、Complementary Metal Oxide Semiconductor(CMOS)、などのエリア撮像素子を用いた方法を採用することができる。
(5)集光レンズ151a、151b、151c
図8は、本発明に係る光学的検出装置1の第6実施形態を模式的に示す断面模式図である。本実施形態では、光照射手段131からの光の集光のために、各光照射手段131と各ウエル111との間に、複数の励起用集光レンズ151aを配置している。本発明に係る光学的検出装置1は、第3の基板と、第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111に正確に光照射を行うことができるが、本実施形態のように励起用集光レンズ151aを設ければ、より正確な光照射を行うことが可能である。
また、本実施形態では、各ウエル111からの蛍光等の光を光検出手段141に集光するために、各ウエル111と各光検出手段141との間に、複数の受光用集光レンズ151bを配置している。本発明に係る光学的検出装置1は、第4の基板と第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111中の蛍光物質やインターカレーターなどから発せられた蛍光などの光を正確に検出することができる。しかし、本実施形態のように受光用集光レンズ151bを設ければ、蛍光等のシグナルをより高めることができる。その結果、SN比の向上を図ることが可能である。
更に、本発明に係る光学的検出装置1では、図9に示す第7実施形態のように、受光用集光レンズ151bに加えて、複数の第2の受光用集光レンズ151cを配置することもできる。このように、一つのウエルに対する受光用集光レンズとして、焦点距離が短く、開口数(NA:Numerical Aperture)の高い2つの集光レンズ151b、151cを配置することで、蛍光の集光効率が更に向上し、SN比も更に向上させることが可能である。また、近接で撮影することができるため、光学系を短くすることができ、装置の小型化を実現することも可能である。更に、顕微鏡のような高価な組レンズを使用しなくても、基板の端における歪みを軽減することができ、基板中央部と同等の明るさで光検出を行うことが可能である。加えて、第2の受光用集光レンズ151cの焦点距離を、第1の受光用集光レンズ151bの焦点距離と同等または短くすることで、隣のウエルからのクロストークを低減することが可能である。
(6)光学フィルター161a、161b、161c
本発明に係る光学的検出装置1には、各光照射手段131と各ウエル111との間に、励起用光学フィルター161aを設けてもよい(図1、図4〜10参照)。励起用光学フィルター161aを設ければ、各ウエル111に、所望の波長の励起光を選択的に照射することができる。本発明に係る光学的検出装置1は、第3の基板と、第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111に正確に光照射を行うことができる。しかし、励起用光学フィルター161aを設ければ、ウエル111中の蛍光物質やインターカレーターなどの性質に対応して、より正確に選択的な励起光照射が可能となる。
本発明に係る光学的検出装置1には、各ウエル111と各光検出手段141との間に、受光用光学フィルター161bを設けてもよい(図1、図4〜10参照)。受光用光学フィルター161bを設ければ、各ウエル111中の蛍光物質やインターカレーターなどから発せられる蛍光等の光から、所望の波長の光を選択的に受光することができる。本発明に係る光学的検出装置1は、第4の基板と第1の基板11を積層させるだけで、各ウエル111から発せられた蛍光などの光を正確に検出することができる。しかし、受光用光学フィルター161bを設ければ、より正確に選択的な光の取得が可能となり、SN比の向上を図ることが可能である。
更に、本発明に係る光学的検出装置1では、図9に示す第7実施形態のように、受光用光学フィルター161bに加えて、第1の基板11と第1の受光用集光レンズ151bとの間に、第2の受光用光学フィルター161cを配置することもできる。このように、受光用光学フィルターを1枚多く挿入することで、光照射手段131から照射された励起光の除去を強化することができるため、その結果、SN比の更なる向上を図ることが可能である。
(7)アパーチャー181a、181b、181c、181d、181e、隔壁
図10は、本発明に係る光学的検出装置1の第8実施形態を模式的に示す断面模式図である。本実施形態では、励起用光学フィルター161aと第2の基板12との間、受光用集光レンズ151b、151cの両側に、アパーチャー181a、181b、181c、181d、181eを配置している。なお、本発明に係る光学的検出装置1では、アパーチャー181a、181b、181c、181d、181e以外に、図示しないが、レンズ間に隔壁を設けることでも、同様の効果を発揮することができる。
このように、光照射側にアパーチャー181aや隔壁を配置することで、各光照射手段131から、対応するウエル111以外のウエル111(隣のウエルなど)への光照射を防止することができ、その結果、SN比の向上を図ることが可能である。
また、光検出側にアパーチャー181b、181c、181d、181eや隔壁を配置することで、対応するウエル111以外のウエル111(隣のウエルなど)からのクロストークを低減することができ、その結果、SN比の向上を図ることが可能である。
以上説明した本発明に係る光学的検出装置1は、医療現場のみならず、例えば、発展途上国、被災地などにおける現地診断、食品加工現場、食品貯蔵庫、食品販売店、飲食店における病原性細菌などの検出、食品産地などの検査、海、湖、川などにおける環境検査、公共施設におけるノロウイルスなどの環境検査など、様々な分野において各種検出おとび解析を行うことが可能である。
1 光学的検出装置
11 第1の基板
12 第2の基板
13 第3の基板
14 第4の基板
111 ウエル
121 加熱手段
131 光照射手段
141 光検出手段
151a 励起用集光レンズ
151b 受光用集光レンズ
161a 励起用光学フィルター
161b、161c 受光用光学フィルター
171 定温ペルチェ
181a、181b、181c、181d、181e アパーチャー
F 流路
B 装置本体
S 検査棒

Claims (11)

  1. 複数のウエルが形成された第1の基板と、
    前記ウエルを加熱するための加熱手段が設けられた第2の基板と、
    前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光照射手段が設けられた第3の基板と、
    前記各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の光検出手段が設けられた第4の基板と、
    が少なくとも備えられた光学的検出装置。
  2. 前記第2の基板には、各ウエルの位置に対応して位置決めされた複数の前記加熱手段が設けられた請求項1記載の光学的検出装置。
  3. 前記加熱手段は、前記第2の基板に透明電極をパターニングすることにより構成された請求項1または2に記載の光学的検出装置。
  4. 前記透明電極は、ITO電極またはZnO電極である請求項3記載の光学的検出装置。
  5. 前記第2の基板は、前記第1の基板の前記第3の基板側に積層された請求項1から4のいずれか一項に記載の光学的検出装置。
  6. 前記第2の基板は、前記第1の基板を挟持するように前記第1の基板の両側に積層された請求項1から5のいずれか一項に記載の光学的検出装置。
  7. 前記各光照射手段と前記各ウエルとの間に、複数の集光レンズが配置された請求項1から6のいずれか一項に記載の光学的検出装置。
  8. 前記各ウエルと前記各光検出手段との間に、複数の集光レンズが配置された請求項1から7のいずれか一項に記載の光学的検出装置。
  9. 前記ウエル中における核酸増幅が検出可能な核酸増幅検出装置として機能する請求項1から8のいずれか一項に記載の光学的検出装置。
  10. 前記核酸増幅は、等温増幅法が用いられる請求項9記載の光学的検出装置。
  11. 前記等温増幅は、SMAP(SMart Amplification Process)法、LAMP(Loop-Mediated Isothermal Amplification)法、ICAN(Isothermal and Chimeric primer-initiated Amplification of Nucleic acids)法、NASBA(nucleic acid sequence-based amplification)法から選ばれる一の方法が用いられる請求項10記載の光学的検出装置。
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