JP2010280546A - 炭化珪素単結晶の製造方法 - Google Patents
炭化珪素単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010280546A JP2010280546A JP2009136425A JP2009136425A JP2010280546A JP 2010280546 A JP2010280546 A JP 2010280546A JP 2009136425 A JP2009136425 A JP 2009136425A JP 2009136425 A JP2009136425 A JP 2009136425A JP 2010280546 A JP2010280546 A JP 2010280546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- single crystal
- carbide single
- carbon
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【課題】高温の焼鈍処理を施しても炭化に伴う欠陥の発生を抑制できる炭化珪素単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】黒鉛製坩堝1内に収容された炭素と炭化珪素との混合粉体5中に炭化珪素単結晶7を埋設した状態で、前記黒鉛製坩堝1を加熱して炭化珪素単結晶に焼鈍処理を施す炭化珪素単結晶の製造方法であって、前記混合粉体5中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定している。
【選択図】図3
【解決手段】黒鉛製坩堝1内に収容された炭素と炭化珪素との混合粉体5中に炭化珪素単結晶7を埋設した状態で、前記黒鉛製坩堝1を加熱して炭化珪素単結晶に焼鈍処理を施す炭化珪素単結晶の製造方法であって、前記混合粉体5中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定している。
【選択図】図3
Description
本発明は、昇華再結晶法を利用して炭化珪素単結晶を製造する炭化珪素単結晶の製造方法に関する。
炭化珪素単結晶は、一般的に使われている珪素単結晶と比較して物性面で優れており、LEDや半導体デバイス等において大幅な高性能化を実現できるため、次世代材料として大いに期待されている。そして、炭化珪素を含む種結晶および昇華用原料を用いて炭化珪素単結晶(以下、単結晶と適宜省略する)を製造する炭化珪素単結晶の製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1に記載された方法は、炭化珪素からなる成長後の炭化珪素単結晶に、炭素及び水素を含む非腐食性雰囲気ガス中において、2000℃〜2800℃の温度で焼鈍処理を施すことによって、炭化珪素単結晶における残留応力の除去や半絶縁化を図ることを目的とするものである。
しかしながら、前述した従来技術では、成長後の炭化珪素単結晶に高温の焼鈍処理を施すことによって炭化に伴う欠陥が発生しやすく、良質な単結晶を得ることが困難であるという問題があった。
そこで、本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、成長後の炭化珪素単結晶に高温の焼鈍処理を施しても炭化に伴う欠陥の発生を抑制できる炭化珪素単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
前述した課題を解決するため、本発明は、次のような特徴を有している。
まず、本発明の第1の特徴は、坩堝(黒鉛製坩堝1)内に収容された炭素と炭化珪素との混合粉体(混合粉体5)中に炭化珪素単結晶(炭化珪素単結晶7)を埋設した状態で、前記坩堝を加熱して炭化珪素単結晶に焼鈍処理を施す炭化珪素単結晶の製造方法であって、前記混合粉体中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定したことを要旨とする。
本発明の第1の特徴によれば、前記混合粉体中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定するため、成長後の炭化珪素単結晶に高温の焼鈍処理を施しても炭化に伴う欠陥の発生が生じることが少なくなる。
本発明の他の特徴は、前記混合粉体中の炭素の混合比率を30wt%〜60wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を70wt%〜40wt%に設定したことを要旨とする。
本発明によれば、成長後の炭化珪素単結晶に高温の焼鈍処理を施しても炭化に伴う欠陥の発生を抑制できる炭化珪素単結晶の製造方法を提供することができる。
次に、本発明に係る炭化珪素単結晶の製造方法の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同一または類似の部分には、同一または類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。
したがって、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
本発明の実施形態において、炭化珪素単結晶の製造方法を簡単に説明する。
まず、図1に示すように、黒鉛製坩堝1の収納容器本体3中に、炭素と炭化珪素との混合粉体5を収納し、図2に示すように、該混合粉体5中に成長した炭化珪素単結晶7のインゴットを埋設する。次いで、図3に示すように、前記黒鉛製坩堝の収納容器本体に蓋9をして、黒鉛製坩堝を外周側から加熱(図3の矢印参照)して炭化珪素単結晶に焼鈍処理(アニール処理)を施す。
前記混合粉体中における炭素(C)と炭化珪素(SiC)の粉末の混合比率は、重量比で、10:90〜80:20の範囲に設定する。即ち、炭素粉末の混合比率が10wt%のときは炭化珪素粉末の混合比率は90wt%であり、炭素粉末の混合比率が80wt%のときは炭化珪素粉末の混合比率は20wt%である。炭素が10wt%未満の場合は、炭化珪素粉末との融着が激しくなり、炭素が80wt%を超える場合は、炭化防止効果が低下する。なお、炭素(C)と炭化珪素(SiC)の粉末の混合比率は、30:60〜70:40○○の範囲が更に好ましい。2600℃以上の高温で焼鈍する場合は炭素の比率が高いこと(例えば、50wt%以上)が望ましく、炭化珪素粉末の粒径も大きい方が良く、例えば100μm以上が好ましい。
また、炭素粉末は、粒径が3〜500nm程度のカーボンブラックから粒径が数十μmのカーボン粉が好ましい。一方、炭化珪素粉末の粒径は数μm〜数mmが好ましい。炭化珪素はα型とβ型の双方とも採用可能であるが、α型の方が熱的に安定で好ましい。さらに、炭素粉末と炭化珪素粉末の純度は、特に限定されないが、不要なドーパントの汚染を避けるために窒素を除きドーパントをなりうる元素は10ppm以下が好ましい。
そして、焼鈍処理の温度は、高温の方が好ましく、具体的には2400℃〜3100℃が好ましい。圧力は、大気圧下が好ましく、雰囲気はアルゴン、ヘリウム、ネオン、窒素等の不活性ガスが好ましい。なお、これらの不活性ガス同士を混合させて使用しても良い。
焼鈍処理の処理時間は、温度がより高温になればより短時間で良く、2400℃で5時間以上、2600℃で2時間、2800℃では30分以上が好ましい。冷却速度は、焼鈍処理の対象である炭化珪素単結晶中に大きな温度分布が発生しなければ速くても良いが、一般に500℃/時以下の冷却速度が好ましい。
なお、前記実施形態では、収容容器を一重にした場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、収容容器を二重または三重にしても良い。例えば、図4に示すように、第1の収納容器11中に炭素と炭化珪素との混合粉体5を収納し、該混合粉体5中に成長した炭化珪素単結晶7のインゴットを埋設する。そして、第1の収納容器11の外周側に、第1の収納容器11よりも大きい第2の収容容器13を配置し、これらの第1の収納容器11と第2の収容容器13との間に混合粉体5を収容するようにしても良い。この場合は、外側に向かうにつれて混合粉体中における炭化珪素粉末の混合比率を低く設定し、最も外側の粉末は、炭素粉末のみにしても良い。
本発明の実施形態による作用効果を説明する。
(1)本実施形態における炭化珪素単結晶の製造方法は、黒鉛製坩堝1内に収容された炭素と炭化珪素との混合粉体5中に炭化珪素単結晶7を埋設した状態で、前記黒鉛製坩堝1を加熱して炭化珪素単結晶に焼鈍処理を施す炭化珪素単結晶の製造方法であって、前記混合粉体5中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定している。
このように、前記混合粉体5中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定したため、成長後の炭化珪素単結晶に高温の焼鈍処理を施しても炭化に伴う欠陥の発生を抑制できる。
(2)前記混合粉体5中の炭素の混合比率を30wt%〜60wt%とし、前記炭化珪素の混合比率を70wt%〜40wt%に設定すれば、前述した炭化に伴う炭化珪素単結晶の欠陥の発生が更に抑制される。
次いで、本発明を実施例を通して具体的に説明する。
[実施例1]
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が10μmで純度が99.999%以上のβ型炭化珪素粉末とを、重量比で10:90(カーボンブラックが10wt%で、β型炭化珪素粉末が90wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2400℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で10時間加熱を施した。加熱した後、100℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が10μmで純度が99.999%以上のβ型炭化珪素粉末とを、重量比で10:90(カーボンブラックが10wt%で、β型炭化珪素粉末が90wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2400℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で10時間加熱を施した。加熱した後、100℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
[実施例2]
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が50μmで純度が99.999%以上のα型炭化珪素粉末とを、重量比で50:50(カーボンブラックが50wt%で、α型炭化珪素粉末が50wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2600℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が50μmで純度が99.999%以上のα型炭化珪素粉末とを、重量比で50:50(カーボンブラックが50wt%で、α型炭化珪素粉末が50wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2600℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
[実施例3]
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が300μmで純度が99.999%以上のα型炭化珪素粉末とを、重量比で80:20(カーボンブラックが80wt%で、α型炭化珪素粉末が20wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約76mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2800℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラックと、平均粒径が300μmで純度が99.999%以上のα型炭化珪素粉末とを、重量比で80:20(カーボンブラックが80wt%で、α型炭化珪素粉末が20wt%)の割合で混合し、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。この混合粉末の中央部に、外径が約76mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2800℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
[比較例1]
外径が約100mmに形成された成長後の炭化珪素単結晶のインゴットを、焼鈍処理を施すことなくマルチワイヤーソーで切断した。
外径が約100mmに形成された成長後の炭化珪素単結晶のインゴットを、焼鈍処理を施すことなくマルチワイヤーソーで切断した。
[比較例2]
黒鉛製坩堝の収納容器に外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを収容し、収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2400℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で10時間加熱を施した。加熱した後、100℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
黒鉛製坩堝の収納容器に外径が約100mmの炭化珪素単結晶のインゴットを収容し、収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2400℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で10時間加熱を施した。加熱した後、100℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
[比較例3]
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラック粉末のみを、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。このカーボンブラック粉末の中央部に、外径が約76mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2600℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
平均粒径が40nmで、灰分が10ppmwt%未満の市販のカーボンブラック粉末のみを、黒鉛製坩堝の収納容器に収納した。このカーボンブラック粉末の中央部に、外径が約76mmの炭化珪素単結晶のインゴットを埋設した。収納容器本体にカーボンからなる蓋を載置し、2600℃で大気圧のアルゴン雰囲気中で2時間加熱を施した。加熱した後、300℃/hの冷却速度で1000℃まで冷却したのち、ヒータを切って室温まで冷却した。坩堝からインゴットを取り出してマルチワイヤーソーで切断した。
表1から明らかなように、実施例1〜3については、インゴットにおける表面の炭化状態、マルチワイヤーソーでの割れの発生状態、およびウエハ形状での焼鈍処理による欠陥の有無の全てについて、比較例1〜3よりも良好な結果が得られた。
1…黒鉛製坩堝(坩堝)
3…収容容器
5…混合粉体
7…炭化珪素単結晶
9…蓋
3…収容容器
5…混合粉体
7…炭化珪素単結晶
9…蓋
Claims (2)
- 坩堝内に収容された炭素と炭化珪素との混合粉体中に炭化珪素単結晶を埋設した状態で、前記坩堝を加熱して炭化珪素単結晶に焼鈍処理を施す炭化珪素単結晶の製造方法であって、
前記混合粉体中の炭素の混合比率を10wt%〜80wt%とし、
前記炭化珪素の混合比率を90wt%〜20wt%に設定したことを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法。 - 前記混合粉体中の炭素の混合比率を30wt%〜60wt%とし、
前記炭化珪素の混合比率を70wt%〜40wt%に設定したことを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009136425A JP2010280546A (ja) | 2009-06-05 | 2009-06-05 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009136425A JP2010280546A (ja) | 2009-06-05 | 2009-06-05 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010280546A true JP2010280546A (ja) | 2010-12-16 |
Family
ID=43537680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009136425A Pending JP2010280546A (ja) | 2009-06-05 | 2009-06-05 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010280546A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104357913A (zh) * | 2014-12-07 | 2015-02-18 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种碳化硅晶体高温退火处理方法 |
WO2020087723A1 (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 山东天岳先进材料科技有限公司 | 一种碳化硅单晶生长装置 |
WO2023067736A1 (ja) * | 2021-10-20 | 2023-04-27 | 日本碍子株式会社 | SiC単結晶基板及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-06-05 JP JP2009136425A patent/JP2010280546A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104357913A (zh) * | 2014-12-07 | 2015-02-18 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种碳化硅晶体高温退火处理方法 |
WO2020087723A1 (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 山东天岳先进材料科技有限公司 | 一种碳化硅单晶生长装置 |
WO2023067736A1 (ja) * | 2021-10-20 | 2023-04-27 | 日本碍子株式会社 | SiC単結晶基板及びその製造方法 |
JP7339434B1 (ja) * | 2021-10-20 | 2023-09-05 | 日本碍子株式会社 | SiC単結晶基板及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5304792B2 (ja) | SiC単結晶膜の製造方法および装置 | |
US7524376B2 (en) | Method and apparatus for aluminum nitride monocrystal boule growth | |
JP5068423B2 (ja) | 炭化珪素単結晶インゴット、炭化珪素単結晶ウェハ及びその製造方法 | |
JP5459004B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
US8642154B2 (en) | Silicon carbide crystal ingot, silicon carbide crystal wafer, and method for fabricating silicon carbide crystal ingot | |
JP6489891B2 (ja) | 昇華再結晶法に用いるSiC原料の製造方法 | |
TW201002880A (en) | High-pressure vessel for growing group III nitride crystals and method of growing group III nitride crystals using high-pressure vessel and group III nitride crystal | |
JP4473769B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の焼鈍方法 | |
JP5930637B2 (ja) | 離型剤用窒化ケイ素粉末およびその製造方法 | |
JP2013103848A (ja) | SiC単結晶の製造方法 | |
JPWO2009066663A1 (ja) | 窒化アルミニウム単結晶多角柱状体及びそれを使用した板状の窒化アルミニウム単結晶の製造方法 | |
JP6624868B2 (ja) | p型低抵抗率炭化珪素単結晶基板 | |
JP2012240869A (ja) | 炭化珪素粉末および炭化珪素粉末の製造方法 | |
EP1375423B1 (en) | Use of a low nitrogen concentration carbonaceous material as a jig. | |
JP5124402B2 (ja) | 炭化珪素単結晶材の焼鈍方法 | |
JP2013252998A (ja) | 炭化珪素結晶の製造方法 | |
CN110015648A (zh) | 一种高纯度氮化铝粉体及氮化铝粉体提纯方法 | |
JP5293732B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2010280546A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2005041710A (ja) | 炭化珪素単結晶、炭化珪素単結晶ウェハ及びその製造方法 | |
JP2002249376A (ja) | 低窒素濃度炭素系材料及びその製造方法 | |
TWI727431B (zh) | 晶錠的製備方法、晶錠生長用原料物質及其製備方法 | |
JP2010077023A (ja) | 炭化珪素単結晶及びその製造方法 | |
JP4987784B2 (ja) | 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 | |
US20180087186A1 (en) | Method of producing carbide raw material |