JP2010277786A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】長期間、気密性を維持することにより、電解質の漏れを低減した信頼性の高い光電変換装置を得ること。
【解決手段】光電変換装置は、収容部を有するとともに、収容部と外部とを連通する孔部8を有する基体20と、孔部8の収容部側が収容部と連通した凹部となるように孔部8を塞ぐ封孔部材9と、封孔部材9の凹部側表面に被着された電解質層Eと、収容部に収容されており、凹部内の空隙部11を介して電解質層Eと対向する電解質5と、電解質5に接触するように基体20に設けられた光電変換体7と、を具備する。
【選択図】図1
【解決手段】光電変換装置は、収容部を有するとともに、収容部と外部とを連通する孔部8を有する基体20と、孔部8の収容部側が収容部と連通した凹部となるように孔部8を塞ぐ封孔部材9と、封孔部材9の凹部側表面に被着された電解質層Eと、収容部に収容されており、凹部内の空隙部11を介して電解質層Eと対向する電解質5と、電解質5に接触するように基体20に設けられた光電変換体7と、を具備する。
【選択図】図1
Description
本発明は光電変換装置に関するものであり、特に、色素増感型太陽電池に関するものである。
太陽電池には、バルク型結晶系のシリコン太陽電池、非晶質のシリコン薄膜を用いてなる薄膜型アモルファスシリコン系太陽電池等の様々な形態がある。また、シリコン原料の削減を目的とし、このようなシリコンを利用しない次世代太陽電池として、色素増感型太陽電池が注目されている。
このような色素増感型太陽電池としては、増感色素が坦持された第1の電極と、該第1の電極と対向するように配置された第2の電極と、この一対の電極間に注入された電解質と、を備えたものがある。この電解質は、第1の電極と第2の電極との間に形成された電解質室に収納されている。電解質室に電解質を注入するためには、電解質の注入孔を電解質室の一部に形成する必要がある。そして、この注入孔から電解質が外部へ漏れるのを防止すべく、注入孔を封止材で塞いでいる(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1に開示された色素増感型太陽電池は、太陽熱等により温度が上昇した場合に、電解質が膨張することによって封止材に応力が加わることとなる。封止材に応力が加わると、封止材が破損したり、封止材と注入孔との界面で剥離が生じたりし、気密性が低下する。その結果、電解質が漏れるという問題点があった。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、長期間、気密性を維持することにより、電解質の漏れを低減した信頼性の高い光電変換装置を得ることである。
本発明の光電変換装置に係る一実施形態は、収容部を有するとともに、該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体と、前記孔部の前記収容部側が前記収容部と連通した凹部となるように前記孔部を塞ぐ封止部材と、前記封止部材の前記凹部側表面に被着された電解質層と、前記収容部に収容されており、前記凹部内の空隙部を介して前記電解質層と対向する電解質と、前記電解質に接触するように前記基体に設けられた光電変換体と、を具備することを特徴とする。
なお、孔部の収容部側が収容部と連通した凹部となるように、封止部材が孔部を塞いでいるというのは、封止部材が孔部の一部を塞ぐことにより、孔部の収容部側の内面と、封止部材の孔部内に露出した表面と、で収容部側に開口した凹部が形成されることをいう。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記孔部の前記電解質層が配置された部位の内径が0.1〜10mmである。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記凹部は、内径が該凹部の深さよりも小さい。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記凹部は、前記収容部側に、内径が他の部位よりも小さい部位を有する。すなわち、凹部の収容部側の部位において、内径が最も小さくなっている。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記封止部材を覆うように前記基体に接合された保護部材をさらに具備する。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記封止部材の前記基体に対する接合部と前記保護部材の前記基体に対する接合部とが離間している。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記封止部材は前記基体の外表面と接合されている。
上記光電変換装置において、好ましくは、前記封止部材は、前記孔部の内面と接合されている。
本発明の光電変換装置によれば、長期間、気密性を維持することができ、電解質の漏れを低減した信頼性の高い光電変換装置を得ることができる。
以下に、本発明の光電変換装置に係る実施の形態について模式的に示した図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の光電変換装置に係る第1の実施形態を示した断面図である。光電変換装置Xは、一主面同士が対向するように配置された一対の基板(以下、第1の基板1、第2の基板2とする)と、第1の基板1および第2の基板2の一主面にそれぞれ第1の電極3および第2の電極4が形成されている。
また、光電変換装置Xは、第1の基板1と第2の基板2の一主面間における間隙内に電解質5が配されている。言い換えれば、電解質5は、第1の電極3と第2の電極4との間に挟まれるように配されている。この電解質5は、周囲が封止部材6で覆われている。封止部材6は、電解質5が外部へ漏れるのを抑制するとともに、外界からの水分または酸素が電解質5中へ浸入するのを抑制している。
ここで、光電変換装置Xにおいて、第1の基板1、第2の基板2、および封止部材6によって、電解質5を収容するための収容部を有する基体20を構成している。基体20の構成はこれに限定されない。例えば、第2の基板2が、上面にキャビティを有する容器体であり、このキャビティを塞ぐように第1の基板1が接合されていてもよい。
また、第1の電極3上には、光電変換体7が形成されている。光電変換体7は、例えば、色素が坦持された半導体層7である。
また、基体20には孔部8が形成されている。孔部8は、外部から電解質5を注入するため、あるいは、第1の基板1と第2の基板2とを封止部材6を介して接合する際に空気を抜くため等の孔として用いられる。光電変換装置Xにおいて、孔部8は、第2の基板2および第2の電極4を貫通するように形成されており、電解質5の収容部と外部とを連通している。なお、孔部8は、基体20のいずれの部位に形成されていてもよく、例えば、第1の基板1または封止部材6に形成されていてもよい。
そして、光電変換装置Xは、第2の基板2の他主面側において、孔部8を塞ぐ封孔部材9が設けられている。封孔部材9は、電解質5が外部に漏れるのを抑制するとともに、外界からの水分または酸素が電解質5中へ浸入するのを抑制している。
封孔部材9は、孔部8における電解質5側の部位が、電解質5の収容部と連通した凹部となるように孔部8を塞いでいる。すなわち、孔部8の内面と封孔部材9の孔部8側表面とで凹部を形成しており、この凹部が電解質5の収容部と繋がっている。
また、孔部8の内側における封孔部材9の表面には、電解質層Eが被着されている。電解質層Eは、空隙部11を介して電解質5と対向している。電解質層Eは、電解質5と同じ組成であってもよく、異なるものであってもよい。
このような構成により、長期間、基体20の気密性を維持することができ、電解質5の漏れを低減した信頼性の高い光電変換装置Xを得ることができる。すなわち、空隙部11が、温度変動による電解質5の膨張等を緩和させ、光電変換装置Xの破壊を抑制することができる。また、封孔部材9が直接、空隙部11と接触するのではなく、電解質層Eを介していることにより、常に封孔部材9が、電解質層Eにより膨潤した状態となるので、封孔部材9が第2の基板2に密着良く接着ができる。また、封孔部材9のひび割れなどによる信頼性低下を抑制できる。また、膨潤させると剛性が下がるため、温度上昇時の内圧上昇時は、封孔部材9が多少変形しやすくなり、内圧低減により光電変換装置Xの破壊を抑制することができる。
この空隙部11は、空気、窒素、酸素、溶媒蒸気からなる群から選択された少なくとも1種類から形成されていることが好ましい。電解質層Eは、封孔部材9の孔部8内に露出する表面において、少なくとも、孔部8の内面に沿った部位を覆っていることが好ましい。これは、封孔部材9の孔部8の内面に沿った部位は、封孔部材9と基体20との接合部近傍であるため、応力が加わりやすくなっており、この部位を電解質層Eで膨潤させることにより、封孔部材9の破損を抑制することができる。より好ましくは、電解質層Eは、封孔部材9の孔部8内に露出する表面全体を覆っていることが好ましい。
孔部8の電解質層Eが配置された部位の内径は、0.1〜10mmであることが好ましい。このような内径とすれば、電解質層Eが良好に封止部材9の表面全面を覆うことができるとともに、孔部8内に電解質層Eを安定に保持できる。より好ましくは、孔部8の電解質層Eが配置された部位の内径を0.1〜3mmとするのがよい。これにより、封止部材9の大きさを小さくすることができ、封止部材9の膨張による応力を小さくして封止部材9と基体20との接合信頼性も高めることができる。
また、封止部材9の表面と孔部8の内面とで形成される凹部の内径は、この凹部の深さよりも小さいことが好ましい。このような構成により、電解質層Eが移動するのを抑制でき、電解質層Eを孔部8内に安定に保持できる。
また、封止部材9の表面と孔部8の内面とで形成される凹部は、電解質5の収容部側に、内径が他の部位よりも小さい部位を有することが好ましい。すなわち、凹部は開口部付近において内径が小さくなっていることが好ましい。このような構成によって、空隙部11または電解質層Eを孔部8内に安定に保持することができる。
封孔部材9は、さらに保護部材10で覆われていると好ましい。これにより、基体20内の気密性をより高めることができる。また、保護部材10は、封止部材9と基体20との接合部から離間した部位において基体20と接合されていることが好ましい。これにより、保護部材10と基体20とを熱を用いて接合しても、当該熱が封孔部材9に伝わりにくくなる。その結果、熱による封孔部材9の劣化を低減することができる。加えて、上述した熱が封孔部材9を介して電解質層Eや電解質5に伝わるのを低減できるため、当該熱による電解質層Eや電解質5の分解・変質等を低減することができる。
光電変換装置Xにおいては、保護部材10は、第2の基板2と接合された枠体10aと、該枠体10a上に接合された蓋体10bと、を有している。このような構成により、保護部材10の枠体10aにより蓋体10bを基体20に接着することができるので、蓋体10bは基体20に接着能を持つ必要が無くなり、材料選定の自由度が増す。
以下に、上述した本発明の実施の形態に係る光電変換装置Xを構成する部材の詳細を示す。
<第1および第2の基板>
第1の基板1は、一主面上で第1の電極3、および該第1の電極3上に配置された半導体層7を支持するものである。また、第1の基板1は、主として光が入射される側に設けられるため、透光性を有している。
第1の基板1は、一主面上で第1の電極3、および該第1の電極3上に配置された半導体層7を支持するものである。また、第1の基板1は、主として光が入射される側に設けられるため、透光性を有している。
この第1の基板1の材質としては、例えば、可視光に対して透光性を有する青板ガラス、白板ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料、またはPET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)等の樹脂材料が挙げられる。
第2の基板2は、一主面上で第2の電極4を支持するものである。この第2の基板2は、第1の基板1と同様に透光性を有する材質で構成されていれば、光の入射面(受光面)をより拡大し、光電変換効率を高めることができる。また、この第2の基板2は、光の入射側に位置していなくとも良いため、透光性が小さいものであってもよい。このような透光性が小さい材質としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、タングステン、ステンレスまたはアルミニウム合金等の金属材料が挙げられる。このような導電性を有する金属材料であれば、第1の基板1自体が電極として作用するため、第2の電極4は不要となり、部品点数を低減できる。また、第2の基板2は、電解質5に対する耐食性を向上させるという観点から、チタン、ニッケル、タングステン、アルミニウムで構成すると好適である。
また、第2の基板2には、電解質5を外部から注入するため、あるいは空気を抜くための孔部8が形成されている。この孔部8は、電解質5を第1および第2の基板の間に注入できる大きさ、あるいは空気を良好に抜くことのできる大きさであれば、形状等は特に限定されるものではなく、例えば、横断面形状が円形状、楕円形、または四角形等の多角形等であってもよい。孔部8の大きさとしては、例えば、横断面形状が円形状であれば、直径が0.1〜10mm、好ましくは、0.1〜3mm程度がよい。また、本実施の形態では、孔部8が1つしか設けられていないが、複数個あってもよい。さらに、本実施の形態では、第2の基板2に孔部8が設けられているが、第1の基板1のみに設けてもよく、また、第1および第2の基板それぞれに設けてもよい。なお、孔部8は、電解質5を注入するだけでなく、電解質5の排出、色素溶液の注入および排出等にも使用可能である。
<第1および第2の電極>
第1の電極3は、半導体層7で発電された電流を取りだす機能を有し、第1の基板1の一主面に設けられている。この第1の電極3は、第1の基板1の他主面側から光が入射されるため、可視光に対して透光性を有するほうが好ましい。
第1の電極3は、半導体層7で発電された電流を取りだす機能を有し、第1の基板1の一主面に設けられている。この第1の電極3は、第1の基板1の他主面側から光が入射されるため、可視光に対して透光性を有するほうが好ましい。
第1の電極3の材質としては、例えば、ITO(錫ドープインジウム酸化物:酸化インジウム錫)層、FTO(フッ素ドープ錫酸化物)層、または酸化錫層で形成される。また、第1の電極3の厚みは、製造の簡易さ、および適度なシート抵抗とするという観点から、0.3〜2μm程度がよい。このような第1の電極3は、例えば、CVD法、スパッタリング法、スプレー法等によって層状に形成される。
第2の電極4は、電解質5に電荷を渡すためのものであり、第2の基板2の一主面に設けられている。この第2の電極4の材質としては、第2の基板4も受光部として利用するのであれば、第1の電極3と同じ材料、即ち、上述した透光性を有する材料を用いればよい。一方、第2の基板4から光を受光しないのであれば、第2の電極4は、透光性材料で構成しなくてもよく、例えば、チタン、ニッケル、ステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金またはタングステン等の金属材料で構成してもよい。
また、第2の電極4は、電解質5との接触面にPt、Pd、Ru、Os、Rh、Ir等や、カーボン、PEDOT:TsO(ポリエチレンジオキシチオフェン−トルエンスルフォネート)等から成る図示していない触媒層を形成すれば、電解質5への電荷移動を効率良く行うことができる。
<電解質>
電解質5は、第2の電極4から受けとった電荷を半導体層7に坦持された色素に渡す機能を有している。この第1の電解質5は、孔部8から注入できる状態のものであればよく、例えば、液状(電解液)、ゲル状等を用いることができ、注入後に固体になるようなものであってもよい。あるいは、電解質5を、粘性の高いものとして第1の基板1または第2の基板2に被着させておき、孔部8から空気を抜きながら第1の基板1と第2の基板2とを封止部材6を介して接合してもよい。
電解質5は、第2の電極4から受けとった電荷を半導体層7に坦持された色素に渡す機能を有している。この第1の電解質5は、孔部8から注入できる状態のものであればよく、例えば、液状(電解液)、ゲル状等を用いることができ、注入後に固体になるようなものであってもよい。あるいは、電解質5を、粘性の高いものとして第1の基板1または第2の基板2に被着させておき、孔部8から空気を抜きながら第1の基板1と第2の基板2とを封止部材6を介して接合してもよい。
電解質5は、電解液の場合、例えば、ヨウ素/ヨウ化物塩、臭素/臭化物塩、コバルト錯体、フェロシアン化カリウム等を、炭酸プロピレン、アセトニトリル等の溶媒に溶解させたものが挙げられる。なお、「ヨウ素/ヨウ化物塩」という表記は、電解質の化学反応によってヨウ素とヨウ化物塩の含有率が変化するものであることを意味する。また、電解質5は、注入時に液状またはゲル状であり、注入後に固体となるものの場合、ゲル電解質、ポリマー電解質等の固体電解質、ポリチオフェン・ポリピロール、ポリフェニレンビニレン等の導電性ポリマー、またはフラーレン誘導体、ペンタセン誘導体、ペリレン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の有機分子電子輸送剤等が挙げられる。また、電解質5の厚み、即ち、第1の基板1の一主面と第2の基板の一主面との間の距離は、1〜500μm程度がよい。
<封止部材>
封止部材6は、第1の基板1と第2の基板2との間に電解質5を閉じ込めるべく、電解質5の周囲に配され、電解質5の外部への漏れを低減するための部材である。この封止部材6は、例えば、ガラスフリットのようなガラス材料、ポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソブチレン樹脂またはアクリレート樹脂等の樹脂材料が挙げられる。
封止部材6は、第1の基板1と第2の基板2との間に電解質5を閉じ込めるべく、電解質5の周囲に配され、電解質5の外部への漏れを低減するための部材である。この封止部材6は、例えば、ガラスフリットのようなガラス材料、ポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソブチレン樹脂またはアクリレート樹脂等の樹脂材料が挙げられる。
また、これらの封止部材6は、機械的強度を高めるという観点から、必要に応じてフィラー等を含有させてもよい。また、封止部材6は、第1の基板1と第2の基板2とを接合する前の状態が、液体、固体、フィルムまたは固体のフィラーを含有させた液体でもよい。フィルムの封止部材6の場合、封止部材6のフィルム厚により、第1の基板1と第2の基板2との間のギャップを制御することができる。また、固体のフィラーを含有させた液体の封止部材6の場合、フィラーサイズにより、第1の基板1と第2の基板2との間のギャップを制御することができる。また、固体のガラスフリットの封止部材6は仮焼成後の膜厚により、第1の基板1と第2の基板2との間のギャップを制御することができる。封止部材6による第1の基板1と第2の基板2との接着は圧着、湿気硬化封着、熱封着、UV封着、レーザー封着、超音波封着でもよい。また、封止部材6を樹脂材料で構成する場合は、電解質5と接触する部位に、上述した有機材料を配し、該有機材料の外周部に空隙を配し、該空隙の外周部にガラスフリットのようなガラス材料で覆うような構成であれば、より電解質5によるガラス材料溶出による変換効率の低下、気密性および機械的強度を高めることができる。
また、さらに封止部材6の補強あるい腐食の抑制をするために、封止部材6の外周部にポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソブチレン樹脂またはアクリレート樹脂等の樹脂材料で覆ってもよい。
<半導体層>
半導体層7は、色素を気孔内に担持する機能を有する多孔質体で構成されている。このように多孔質の半導体層7は、表面積が大きく、色素をより多く担持(吸着)させることができるため、効率良く光を吸収して光電変換効率向上に寄与する。
半導体層7は、色素を気孔内に担持する機能を有する多孔質体で構成されている。このように多孔質の半導体層7は、表面積が大きく、色素をより多く担持(吸着)させることができるため、効率良く光を吸収して光電変換効率向上に寄与する。
このような多孔質の半導体層7の材料としては、例えば、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、ニオブ(Nb)、インジウム(In)、イットリウム(Y)、ランタン(La)、ジルコニウム(Zr)、タンタル(Ta)、ハフニウム(Hf)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、カルシウム(Ca)、バナジウム(V)、タングステン(W)等の金属の少なくとも1種の金属酸化物半導体がよく、また窒素(N)、炭素(C)、弗素(F)、硫黄(S)、塩素(Cl)、リン(P)等の非金属元素の1種以上を含有していてもよい。特に、酸化チタンは、電子エネルギーバンドギャップが可視光のエネルギーより大きい2〜5eVの範囲にあり、好ましい。また、多孔質の半導体層は、電子エネルギー準位においてその伝導帯が色素の伝導帯よりも低いn型半導体がよい。
また、半導体層7は、多孔質体であるため、内部に微細な空孔(空孔径が好ましくは10〜40nm程度のもの)を多数有している。また、半導体層7の厚みは、光電変換作用を最適化するという観点から、1〜50μmがよく、より好適には10〜30μmがよい。また、半導体層7と第1の電極3との間に、n型酸化物半導体の極薄(厚み200nm程度)の緻密層を挿入するとよく、逆電流を抑制する効果がある。
色素は、例えば、ルテニウム−トリス、ルテニウム−ビス、オスミウム−トリス、オスミウム−ビス型の遷移金属錯体、多核錯体、またはルテニウム−シス−ジアクア−ビピリジル錯体、またはフタロシアニンやポルフィリン、多環芳香族化合物、ローダミンB等のキサンテン系のものを用いること色素が好ましい。
多孔質の半導体層7に色素を吸着させるためには、色素に少なくとも1個以上のカルボキシル基、スルホニル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アリール基、ホスホリル基等を置換基として有することが有効である。ここで、置換基は色素自体を多孔質の半導体層7に強固に化学吸着させることができ、励起状態の増感色素から多孔質の半導体層7へ容易に電荷移動できるものであればよい。
半導体層7に色素を吸着させる方法としては、例えば、第1の基板1上に形成された半導体層7を、色素を溶解した溶液に浸漬する方法が挙げられる。半導体層7に色素を吸着させる際、色素を溶解させる溶液の溶媒としては、例えば、エタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等の窒素化合物等を1種または2種以上混合したものが挙げられる。溶液中の色素の濃度は5×10-5〜2×10-3mol/l(l(リットル):1000cm3)程度が好ましい。
<封孔部材>
封孔部材9は、第1および第2の基板の間に封入された電解質5が孔部8より外部に漏れるのを防ぐための部材である。この封孔部材9は、孔部8を塞ぐように、第2の基板2の他主面あるいは/および孔部8と接着される。
封孔部材9は、第1および第2の基板の間に封入された電解質5が孔部8より外部に漏れるのを防ぐための部材である。この封孔部材9は、孔部8を塞ぐように、第2の基板2の他主面あるいは/および孔部8と接着される。
封孔部材9は、電解質5に対する耐食性が高い樹脂材料を含んでいる。このような樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、変性ポリエチレン、マレイン酸変性ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、マレイン酸変性ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソブチレン樹脂、およびアクリレート樹脂等が挙げられる。また、これらの封孔部材9は、機械的強度を高めるという観点から、必要に応じてフィラー等を含有させてもよい。また、封止部材6は、第2の基板2と接合する前の状態が、液体、固体、フィルムまたは固体のフィラーを含有させた液体でもよい。封止部材6による第2の基板2との接着は圧着、湿気硬化封着、熱封着、UV封着、レーザー封着、超音波封着でもよい。
封孔部材9は、孔部8における電解質5側の部位が、電解質5の収容部と連通した凹部となるように孔部8を塞いでおればよい。例えば、図1に示すように、封孔部材9は孔部8の開口を塞ぐようにして第2の基板2の外表面と接合されている。このような構成により、封孔部材9と第2の基板2との密着面積を大きくでき、封止性を高めると共に、封止強度を高め、信頼性を向上することができる。
<保護部材>
保護部材10は、封孔部材9の外表面を覆うことにより、封孔部材9を外部から保護するとともに、電解質5の外部への漏れおよび外界の水分あるいは酸素の浸入をより低減するための部材である。好ましくは、この保護部材10は、光電変換装置Xに示すように、枠体10aと蓋体10bとを有している。
保護部材10は、封孔部材9の外表面を覆うことにより、封孔部材9を外部から保護するとともに、電解質5の外部への漏れおよび外界の水分あるいは酸素の浸入をより低減するための部材である。好ましくは、この保護部材10は、光電変換装置Xに示すように、枠体10aと蓋体10bとを有している。
枠体10aは、封孔部材9を取り囲むように、所定の距離だけ離れて形成されている。また、枠体10aは、第2の基板2と接合されている。このように枠体10aは、封孔部材9と接触せずに離れているため、枠体10aを第2の基板2と熱を使った溶着等で接合しても、当該熱が封孔部材9に伝わりにくい。その結果、このような形態では、封孔部材9の熱劣化を低減することができる。なお、封孔部材9と枠体10aとの間隙には、封孔部材9および枠体10aよりも熱伝導率が小さい部材を充填させても、上述した効果を得ることができる。より好ましくは、本実施の形態のように、枠体10aと封孔部材9とを空隙を介して離間させれば、空気等の熱伝導率が小さい気体を枠体10aと封孔部材9の間に介在させることができるため、枠体10aから封孔部材9への熱伝導をより低減することができる。
また、枠体10aの材質としては、レーザ吸収成分とガラス成分を含むガラスフリットであることが好ましい。このレーザ吸収成分は、レーザ光を選択的に吸収し、そのエネルギーを熱に変換することでガラスフリットを効率よく溶融し、焼結させる役割を担う。このレーザ吸収成分は、ガラスフリットを成すマトリックスの一部として溶融されていることが好ましいが、マトリックス中に偏析していてもよい。また、ガラスフリットの熱膨張係数は、第2の基板2の熱膨張係数と近くなるようにすれば、クラック等の不具合の発生を低減することができる。ガラスフリットを成すガラス成分としては、例えば、SiO2−Bi2O3−MOX系、B2O3−Bi2O3−MOX系、SiO2−CaO−Na(K)2O−MOX系、P2O5−MgO−MOX系(Mは一種以上の金属元素で、Xは整数である。)などが挙げられる。また、レーザ吸収成分としては、例えば、クロム、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、銅、または炭素の単体または酸化物、もしくはこれら2種以上の化合物が挙げられる。また、第2の基板2を、ガラスを含む材料で構成すれば、枠体10aと第2の基板2とをレーザ溶着等で容易に接合できる。
このようなガラスフリットを含んでなる枠体10aは、第2の基板2上にガラスフリットを配置した後、例えば、YAGレーザをガラスフリットに照射し、当該ガラスフリットを溶融させて第2の基板2と接合することによって形成される。なお、枠体10aの形状は、少なくとも封孔部材9を囲うものであればよく、平面視して、円形、多角形等、特に限定されるものではない。但し、枠体10aの上面は、蓋体10bが接合されるため、平面状が好ましい。
蓋体10bは、枠体10a上に接合されており、主として封孔部材9の上部を覆っている。このような蓋体10bの材質は、枠体10aと熱溶着で接合できるようなものであればよく、例えば、青板ガラス、白板ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、タングステン、ステンレスまたはアルミニウム合金等の金属材料が挙げられる。
また、保護部材10の接合方法としては、枠体10aを蓋体10bに形成した後、これらをレーザ加熱により第2の基板2に接合してもよいし、枠体10aを第2の基板2に形成した後、レーザ加熱により蓋体10bを接合してもよい。
また、光電変換装置Xでは、蓋体10bが封孔部材9と接触あるいは接着している。このような形態によれば、封孔部材9に残留している熱を蓋体10bに伝導させることができるため、封孔部材9の放熱性を高めることができる。このような放熱性を高めるという観点では、蓋体10bを熱伝導率が比較的高い金属材料で構成すると好適である。加えて、このような形態によれば、高温の環境下において、電解質5が膨張しても、封孔部材9を蓋体10bで直に抑えているため、封孔部材9の第2の基板2からの剥がれを低減できる。
次に、本発明の他の実施の形態について説明する。図2は、本発明の光電変換装置に係る第2の実施形態を示した断面図である。光電変換装置X'は、蓋体10bが封孔部材9と離間している点で光電変換装置Xと相違する。
光電変換装置X'では、蓋体10bを封孔部材9と空隙を介して離間させれば、枠体10aから蓋体10bを介して伝導する熱が封孔部材9に伝わりにくくなるため、封孔部材9の熱劣化を低減することができる。
次に、本発明の他の実施の形態について説明する。図3は、本発明の光電変換装置に係る第3の実施形態を示した断面図である。光電変換装置X''は、封孔部材9が孔部8内に配置している点で光電変換装置X'と相違する。
光電変換装置X''では、封孔部材9が孔部8内に配置、すなわち、封孔部材9が孔部8の内面と接合されていることにより、封孔部材9と第2の基板2との接着面積を拡大でき、封止性を高め、信頼性を向上させることができる。また、枠体10aの厚みを薄くできるので、封止性を高め、信頼性を向上させることができる。さらに、蓋体10bおよび枠体10aを小型にすることができるため、封止性を高め、信頼性を向上させることができる。
次に、本発明の他の実施の形態について説明する。図4は、本発明の光電変換装置に係る第4の実施形態を示した断面図である。光電変換装置X'''は、空隙部11が孔部8内だけでなく、基体20内部の電解質5に含まれる点で光電変換装置Xと相違する。
光電変換装置X'''では、空隙部11が基体20内部の電解質5に含まれることにより、温度変動による電解質5の膨張等をより緩和させ、光電変換装置Xの破壊を抑制することができ、光電変換装置X'''の封止性を高め、信頼性を向上させることができる。
なお、上述した光電変換装置に係る第1〜第4の実施形態では、保護部材10の枠体10aと蓋体10bとが別体で構成されているが、本発明では、このような形態に限定されることなく、枠体10aと蓋体10bとが一体的に形成されていてもよい。このように保護部材10が一体的に形成されていれば、枠体10aおよび蓋体10bの製造が容易になるとともに、枠体10a、蓋体10b、および第2の基板2との接合工程が簡易になる。
本実施の形態の光電変換装置の実施例について以下に説明する。図1の構成の光電変換装置Xを以下のようにして作製した。
<色素増感型太陽電池の作製>
第1の基板1として、シート抵抗10Ω/□(スクエア)のSnO2:F層(FドープSnO2層(FTO層))から成る透明導電層(第1の電極3)が形成されたソーダライムガラス基板(透光性基板1)を準備した。
<色素増感型太陽電池の作製>
第1の基板1として、シート抵抗10Ω/□(スクエア)のSnO2:F層(FドープSnO2層(FTO層))から成る透明導電層(第1の電極3)が形成されたソーダライムガラス基板(透光性基板1)を準備した。
次に、第1の電極3上に電解質を含む光電変換体の一部である多孔質の酸化チタンから成る半導体層7を形成した。多孔質の半導体層7は以下のようにして形成した。まず、酸化チタン(TiO2)のアナターゼ粉末にアセチルアセトンを添加した後、脱イオン水とともに混練し、界面活性剤で安定化させた酸化チタンのペーストを作製した。作製したペーストをスクリーン印刷法によって、FTO層から成る第1の電極3上にパターン印刷し、大気中において500℃で30分焼成し、多孔質の半導体層7を形成した。
次に、対極の支持基板2のFTO層から成る第2の電極4上にビスマス酸塩系ガラスのガラスフリットからなるペーストをスクリーン印刷法によりパターン印刷し、大気中において450℃で30分焼成し、封止部材6を形成した。
次に、支持基板2の第2の電極4上に図示していないPt層(第2の電極7)を厚み5nmとしてスパッタリング法によって形成させた。また、支持基板2には予め色素循環用および電解液注入用の孔部8を設けた。
次に、半導体層7を形成した第1の基板1と対極の支持基板2を対向させ、大気中において480℃で30分加熱し、封止部材6により半導体層7を形成した第1の基板1と対極の支持基板2を封着させた。
次に、ブラックダイ色素(Ru錯体)(ソラロニクス社製、製品名「ブラックダイ」)を溶解させたエタノール溶液を孔部8より循環させ、半導体層7に図示しない色素を吸着させた。その後、純エタノール溶液を孔部8より循環させ、余分な色素を洗浄し、乾燥させた。
次に、孔部8より、沃素(I2)と、沃化リチウム(LiI)と、イミダゾリウム塩およびイミダゾール等の添加剤とを含むメトキシプロピオニトリル溶液を孔部8の中間位置まで注入し、電解質5を形成させた。この際、孔部8の内面を電解質5で濡らしておいた。
次に、孔部8を塞ぐように封孔部材9の熱可塑性フィルムを貼付け、加熱し、接着した。電解質5の注入時に、孔部8側壁を電解質5で濡らしておいたため、表面張力により、孔部8の電解質5は封孔部材9の孔部8側の表面を濡らし、空隙部11が形成した。
ここで、ソーダライムガラス基板の保護部材10の蓋体10b上に、ガラスフリットからなるペーストをスクリーン印刷法によりパターン印刷し、大気中において450℃で30分焼成し、枠体10aを形成し、保護部材10を作製した。
次に、孔部9をさらに封止するように保護部材10と支持基板2の他主面を密着させ、ソーダライムガラス基板の蓋体10bを通して、レーザー光を枠体10aに照射し、枠体10aを加熱し、保護部材10と支持基板2を封着させ、光電変換装置Xを形成した。
図5に、光電変換装置Xのセルの電解液面積に対する電解液漏洩による気泡の面積割合を示す。セル85℃、85%RH耐湿性試験において、有機樹脂封止では532時間で最大56%まで気泡拡大が発生したが、上記実施例の光電変換装置Xは1339時間後でも気泡の拡大はほとんどなく、電解液の漏洩はなかった。
X、X’、X’’、X''':光電変換装置
1:第1の基板
2:第2の基板
3:第1の電極
4:第2の電極
5:電解質
6:封止部材
7:半導体層
8:孔部
9:封孔部材
10:保護部材
10a:枠体
10b:蓋体
11:空隙部
20:基体
E:電解質層
1:第1の基板
2:第2の基板
3:第1の電極
4:第2の電極
5:電解質
6:封止部材
7:半導体層
8:孔部
9:封孔部材
10:保護部材
10a:枠体
10b:蓋体
11:空隙部
20:基体
E:電解質層
Claims (8)
- 収容部を有するとともに、該収容部と外部とを連通する孔部を有する基体と、
前記孔部の前記収容部側が前記収容部と連通した凹部となるように前記孔部を塞ぐ封孔部材と、
前記封孔部材の前記凹部側表面に被着された電解質層と、
前記収容部に収容されており、前記凹部内の空隙部を介して前記電解質層と対向する電解質と、
前記電解質に接触するように前記基体に設けられた光電変換体と、
を具備することを特徴とする光電変換装置。 - 前記孔部の前記電解質層が配置された部位の内径が0.1〜10mmであることを特徴とする請求項1記載の光電変換装置。
- 前記凹部は、内径が該凹部の深さよりも小さいことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光電変換装置。
- 前記凹部は、前記収容部側に、内径が他の部位よりも小さい部位を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光電変換装置。
- 前記封孔部材を覆うように前記基体に接合された保護部材をさらに具備することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光電変換装置。
- 前記封孔部材の前記基体に対する接合部と前記保護部材の前記基体に対する接合部とが離間していることを特徴とする請求項5記載の光電変換装置。
- 前記封孔部材は前記基体の外表面と接合されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光電変換装置。
- 前記封孔部材は、前記孔部の内面と接合されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の光電変換装置。
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