JP2010275712A - 地盤改良工法及び地盤改良装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】地盤改良装置1は、薬材を噴射するための第1の噴射口4aを有するロッド4と、その噴射口4aよりも先端側に取り付けられた噴射装置2と、噴射装置2よりも更に先端側に取り付けられた撹拌装置3とを備える。噴射装置2及び撹拌装置3は地中で突出できる機構となっており、噴射装置2は突端部に第2の噴射口2bを備えている。
【選択図】図28
Description
例えば、特許文献1には、撹拌翼を備えた地盤改良装置を用い、この撹拌翼の先端から薬材を噴射して地盤を改良する地盤改良工法が開示されている。この工法は、まず、撹拌翼を略水平にした状態でその先端から水を噴射しつつ、ロッドを所定の距離だけ引き上げて地盤内を掘削するとともに撹拌し、次に、引き上げた距離と同じ距離だけロッドを下降させた後、撹拌翼の先端から薬材を噴射しつつ、再び、ロッドを所定の距離だけ引き上げることにより、排泥量を低減しつつ、大口径の地盤改良体を形成するものである。
前記ロッドの長手方向に沿った状態にして、地上から前記ロッドを地盤内の所定の深度まで挿入する工程と、
前記第1の噴射口から薬材を噴射しながら、前記ロッドを第1の所定の距離引き上げる工程と、
前記第1の噴射口から薬材を噴射しつつ、前記噴射装置を前記ロッドの径方向に突出させる工程と、
前記噴射装置により地盤を撹拌しながら、前記ロッドを第2の所定の距離引き上げる工程と、
前記第1の噴射口及び前記第2の噴射口から薬材を噴射しつつ、前記撹拌装置を前記ロッドの径方向に突出させる工程と、
前記噴射装置及び前記撹拌装置で地盤を撹拌ながら、前記ロッドを所定の距離引き上げる工程と、を備えることを特徴とする。
前記薬材を噴射するための第1の噴射口を外周に有するロッドと、
前記ロッドの前記第1の噴射口よりも先端側の位置に、前記ロッドの径方向に所定の長さだけ突出するように設けられ、前記薬材を噴射するための第2の噴射口を突端部に有する噴射装置と、
前記ロッドの前記噴射装置よりも先端側の位置に、前記噴射装置よりも更に長く前記ロッドの径方向に突出するように設けられ、地盤を撹拌するための撹拌装置と、を備えることを特徴とする。
2 噴射装置
2a 撹拌翼
2b 第2の噴射口
2c 連結材
2d 送給路
2e 溝
2f 一方の端面
2g 他方の端面
2i 切り欠き部
2j 第2のチェック弁
2k 第3のチェック弁
2m 凹部
2p 翼
2q 翼
3 撹拌装置
3a 撹拌翼
3b 連結材
3c 溝
3f 一方の端面
3g 他方の端面
3i 切り欠き部
3j 第4のチェック弁
3m 凹部
3p 翼
3q 翼
4 ロッド
4a 第1の噴射口
4b 第1のチェック弁
4c 供給孔
4d 開閉孔
4e 開閉孔
5 噴射装置用回動機構
5a 突起部
5b ストッパー
5c 穴
5d 突起体
5e ばね
5g パイロット孔
6 撹拌装置用回動機構
6a 突起部
6b ストッパー
6c 穴
6d 突起体
6e ばね
6g パイロット孔
7 鋼玉
E 地盤
Claims (3)
- 地盤を改良する薬材を噴射するための第1の噴射口を外周に有するロッドと、前記ロッドの前記第1の噴射口よりも先端側の位置に、前記ロッドの径方向に所定の長さだけ突出し、前記薬材を噴射するための第2の噴射口を突端部に有する噴射装置と、前記ロッドの前記噴射装置よりも先端側の位置に、前記噴射装置よりも更に長く前記ロッドの径方向に突出した撹拌装置と、を備えた地盤改良装置の前記噴射装置及び前記撹拌装置を
前記ロッドの長手方向に沿った状態にして、地上から前記ロッドを地盤内の所定の深度まで挿入する工程と、
前記第1の噴射口から薬材を噴射しながら、前記ロッドを第1の所定の距離引き上げる工程と、
前記第1の噴射口から薬材を噴射しつつ、前記噴射装置を前記ロッドの径方向に突出させる工程と、
前記噴射装置により地盤を撹拌しながら、前記ロッドを第2の所定の距離引き上げる工程と、
前記第1の噴射口及び前記第2の噴射口から薬材を噴射しつつ、前記撹拌装置を前記ロッドの径方向に突出させる工程と、
前記噴射装置及び前記撹拌装置で地盤を撹拌ながら、前記ロッドを所定の距離引き上げる工程と、を備えることを特徴とする地盤改良工法。 - 地盤に薬材を噴射して撹拌することにより地盤を改良する地盤改良装置であって、
前記薬材を噴射するための第1の噴射口を外周に有するロッドと、
前記ロッドの前記第1の噴射口よりも先端側の位置に、前記ロッドの径方向に所定の長さだけ突出するように設けられ、前記薬材を噴射するための第2の噴射口を突端部に有する噴射装置と、
前記ロッドの前記噴射装置よりも先端側の位置に、前記噴射装置よりも更に長く前記ロッドの径方向に突出するように設けられ、地盤を撹拌するための撹拌装置と、を備えることを特徴とする地盤改良装置。 - 前記噴射装置及び前記撹拌装置のうち、少なくとも何れか一方は、前記ロッドの径方向に突出した状態と前記ロッドの長手方向に沿った状態との間で回動可能な機構を備えることを特徴とする請求項2に記載の地盤改良装置。
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JP2009126925A JP5212258B2 (ja) | 2009-05-26 | 2009-05-26 | 地盤改良工法及び地盤改良装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018025005A (ja) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 那須 ▲丈▼夫 | 掘削翼、掘削装置及び掘削工法 |
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JPS6062322A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-10 | Kajima Corp | 地盤改良工法およびその工法に使用する水力モニタ− |
JPH0533334A (ja) * | 1991-07-25 | 1993-02-09 | Taisei Corp | 地盤改良工法 |
JP2004076529A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Raito Kogyo Co Ltd | 開翼式地盤改良装置および地盤改良工法 |
JP2004150073A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Onoda Chemico Co Ltd | 高圧噴射撹拌工法 |
-
2009
- 2009-05-26 JP JP2009126925A patent/JP5212258B2/ja not_active Expired - Fee Related
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