JP2010262273A - レーザ照射装置及び平板ディスプレイ装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザ照射時に発生する応力を防止して切断面の割れ不良を減少させることのできるレーザ照射装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザ照射装置は、第１基板１０１を載置するステージ１１０と、第１基板１０１と第２基板１０２との間に配置される接合部材１０３にレーザを照射するレーザ発振部材１２０と、第１基板１０１の温度を所定の温度に維持する温度維持部材１５０と、接合部材１０３に対応する部分にパターンが形成されたマスク１４０とを備えていることを特徴とする。
【選択図】図１
【解決手段】本発明のレーザ照射装置は、第１基板１０１を載置するステージ１１０と、第１基板１０１と第２基板１０２との間に配置される接合部材１０３にレーザを照射するレーザ発振部材１２０と、第１基板１０１の温度を所定の温度に維持する温度維持部材１５０と、接合部材１０３に対応する部分にパターンが形成されたマスク１４０とを備えていることを特徴とする。
【選択図】図１
Description
本発明は、レーザ照射装置及びレーザ照射装置を利用した平板ディスプレイ装置の製造方法に関する。
近来、ディスプレイ装置は、携帯用薄型の平板表示装置に代替されている。平板ディスプレイ装置のなかでも、電界発光ディスプレイ装置は、自発光型ディスプレイ装置であり、視野角が広くてコントラストに優れているだけではなく、応答速度が速いという長所を有しているので、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層の形成物質が有機物で構成されている有機発光ディスプレイ装置は、無機発光ディスプレイ装置に比べて、輝度、駆動電圧及び応答速度特性が優れており、多色化が可能であるという特徴を有する。
通常の有機発光ディスプレイ装置は、一対の電極、すなわち、第１電極と第２電極との間に、発光層を備えた少なくとも一層以上の有機層が介在した構造を有している。第１電極は、基板上に形成されており、正孔を注入する陽極(アノード）の機能を行い、第１電極の上部には、有機層が形成されている。有機層上には、電子を注入する陰極(カソード)の機能を行う第２電極が第１電極と対向するように形成されている。
このような有機発光ディスプレイ装置は、周辺環境から素子の内部に水分や酸素が流入すると、電極物質の酸化、剥離によって素子の寿命が短縮し、発光効率が低下するだけではなく、発光色の変質のような問題点が発生する。
したがって、有機発光ディスプレイ装置の製造において、素子を外部から隔離して水分の侵入を防止する密封処理が一般的に行われている。通常、このような密封処理方法として、有機発光ディスプレイ装置の第２電極の上部にＰＥＴ(Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ)のような有機高分子をラミネーティングするか、または吸湿剤を含む金属やガラスでカバーまたはキャップを形成し、その内部に窒素ガスを充填した後、カバーまたはキャップの枠をエポキシのような密封材でカプセルに包む方法が使われている。
しかし、このような方法は、外部から流入する水分や酸素のような素子破壊性因子を１００％遮断することが不可能なので、素子構造が水分に特に脆弱な能動型の前面発光構造の有機発光ディスプレイ装置への適用は不利であり、これを具現するための工程も複雑である。このような問題点を解決するために、密封材としてフリットを使用して、素子基板とキャップとの間の密着性を向上させたカプセルで封じ合わせる方法が考案された。
ガラス基板にフリットを塗布して有機発光ディスプレイ装置を密封する構造を使用することによって、素子基板とキャップとの間が完全に密封されるので、さらに効果的に有機発光ディスプレイ装置を保護できる。
フリットでカプセルに包む方法は、フリットをそれぞれの有機発光ディスプレイ装置のシーリング部に塗布した後、レーザ照射装置が移動し、それぞれの有機発光ディスプレイ装置のシーリング部にレーザを照射してフリットを硬化させてシーリングする。
しかし、周辺に影響を及ぼさずにフリットを溶かすために、レーザを照射して局部的に熱を加えれば、レーザによって加熱された部分と加熱されていない部分との間に応力が発生して、フリットと基板にマイクロクラックが発生する恐れがある。また、基板の面取り工程時に切断面にバーが発生する割れ不良が発生する問題点もある。
本発明が解決しようとする課題は、レーザ照射時に応力の発生を最小化して切断面の割れ不良を最小化できるレーザ照射装置及びこれを利用した平板ディスプレイ装置の製造方法を提供することである。
前記課題を達成するために、本発明の一実施形態に係るレーザ照射装置は、接合部材を利用して第１基板と第２基板とを接合するレーザ照射装置において、前記第１基板を載置するステージと、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される前記接合部材にレーザを照射するレーザ発振部材と、前記第１基板の温度を所定の温度に維持する温度維持部材とを備えている。
本発明において、前記温度維持部材は、前記第１基板を加熱して前記所定の温度に維持することによって、前記レーザが照射される部分と前記レーザが照射されない部分との間で発生する応力を減少させうる。
本発明において、前記温度維持部材は、前記レーザを前記接合部材に照射する間、前記第１基板を前記所定の温度に維持できる。
本発明において、前記所定の温度は約８０℃ないし１００℃でありうる。
本発明において、前記温度維持部材は前記ステージの内部に配置されうる。
本発明において、前記温度維持部材は前記第１基板と前記ステージとの間に配置されうる。
本発明において、前記温度維持部材は前記基板を前記所定の温度に加熱し、かつ維持できる熱線でありうる。
本発明において、前記接合部材はフリットで形成されうる。
本発明において、前記レーザが前記接合部材に照射されるように、前記接合部材に対応する部分にパターンが形成されたマスクをさらに備えうる。
本発明において、前記第１基板は有機発光部を有する複数のセルを備え、前記第２基板は前記セルを密封するように前記第１基板上に配置され、前記接合部材は前記セルのそれぞれを取り囲むように前記第１基板と前記第２基板との間に塗布されうる。
本発明の一実施形態に係る接合部材を利用して、第１基板と第２基板とを接合するレーザ照射装置を利用した平板ディスプレイ装置の製造方法において、前記第２基板上に接合部材を塗布する工程と、前記第１基板と前記第２基板とを合着する工程と、合着された前記第１基板と前記第２基板とを前記レーザ照射装置のステージ上に載置する工程と、前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程と、前記接合部材にレーザを照射して前記接合部材を硬化させて前記第１基板と前記第２基板とを接合する工程とを含みうる。
本発明において、前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程は、前記第１基板上に形成された発光部の劣化が発生しない所定の温度に前記第１基板と前記第２基板とを加熱する工程と、前記所定の温度を維持する工程とを含みうる。
本発明において、前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程は、前記第１基板と前記第２基板とを約８０℃ないし１００℃に維持できる。
本発明において、前記接合部材はフリットでありうる。
本発明において、前記接合部材にレーザを照射する間にも前記所定の温度を維持できる。
本発明のレーザ照射装置及びこれを利用した平板ディスプレイ装置の製造方法によれば、レーザ照射時に発生する応力を防止して切断面の割れ不良を減少させることができる。
以下、添付した図面に示した本発明の実施形態を参照して、本発明を詳細に説明する。しかし、本発明は、これ以外にも色々な他の形態に変形することができ、本発明の範囲は、後述する実施形態に限定されるわけではない。本発明の実施形態は、当業者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及びサイズは、より明確な説明のために誇張されており、図面上の同じ符号で表示される要素は、同じ要素である。
図１は、本発明の一実施形態に係るレーザ照射装置を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１のレーザ照射装置を概略的に示す断面図である。
図１及び図２を参照すれば、本発明の一実施形態に係るレーザ照射装置１００は、ステージ１１０と、レーザ発振部材１２０と、マスク１４０と、温度維持部材１５０とを備えている。
ステージ１１０上には、第１基板１０１及び第２基板１０２を載置する。ステージ１１０は、レーザを照射する間第１基板１０１と第２基板１０２を固定する。そして、第１基板１０１と第２基板１０２との間には、接合部材１０３が塗布されている。
レーザ発振部材１２０は、第１基板１０１と第２基板１０２との間の接合部材１０３にレーザを照射して接合部材１０３を溶着させる。
レーザ発振部材１２０は、レーザヘッド１２１と、レーザヘッドガイド１２２とで形成されうる。レーザヘッド１２１は、レーザヘッドガイド１２２によって支持され、基板１０１,１０２の上部を移動自在に装着されうる。レーザヘッド１２１は、レーザヘッドガイド１２２に沿って移動しつつ、第２基板１０２上から接合部材１０３に向かってレーザを照射する。
マスク１４０は、第２基板１０２の上面に載置される。マスク１４０は、接合部材１０３に対応する領域にパターンが形成されており、レーザヘッド１２１から照射されるレーザが接合部材１０３に照射され、発光部１０４へのレーザを遮断することにより、レーザから発光部１０４を保護している。
接合部材１０３は、第１基板１０１と第２基板１０２との間に配置され、レーザによって溶融して第１基板１０１と第２基板１０２とを合着できる。接合部材１０３としては、フリットが利用されうる。フリットは、粉末状態のガラスという意味で使われるが、本発明におけるフリットは、粉末状態に有機物を添加したジェル状態のガラス及びレーザを照射して硬化した固体状態のガラスを通称して使用する。
温度維持部材１５０は、基板１０１,１０２を所定の温度に維持できる。温度維持部材１５０は、レーザが照射される前に、基板１０１,１０２を所定の温度まで加熱した後、レーザが照射されている間基板１０１,１０２を所定の温度に維持できる。また、温度維持部材１５０は、レーザが照射されるのと同時に、基板１０１,１０２を所定の温度に加熱して、レーザが照射されている間基板１０１,１０２を所定の温度に維持できる。
温度維持部材１５０は、レーザ照射中に基板１０１,１０２を所定の温度に維持することによって、応力の発生を減少させることができる。詳細には、接合部材１０３にレーザを照射する場合、接合部材１０３、特にフリットはレーザによって約８００℃ないし１０００℃まで加熱される。レーザは、接合部材１０３に集中して照射され、マスク１４０によって遮断されるので、発光部１０４にレーザが到達することはなく、発光部１０４では高熱のレーザからの影響は最小化することができる。しかし、レーザが照射された部分と照射されていない部分との間には、応力が発生して、基板１０１,１０２を面取りする場合、切断面に割れ不良が発生する恐れがある。このような応力は、レーザが照射された部分では高熱に加熱され、レーザが照射されていない部分では加熱されていないので、その温度差によって発生する。本発明の温度維持部材１５０は、レーザが照射されている間、基板１０１,１０２全体を所定の温度に加熱し、これを維持することによってレーザが照射されている部分と照射されていない部分との間の応力の発生を最小化することができる。
これを、図３を参照して説明すれば、次の通りである。図３は、基板１０１,１０２の平面図である。図３を参照すれば、第１基板１０１上には、複数のセルＣ１,Ｃ２,…が配置されている。セルＣ１,Ｃ２,…のそれぞれは、発光部１０４と、セルＣ１,Ｃ２,…のそれぞれを取り囲む接合部材１０３とを備えている。第１基板１０１と第２基板１０２とが接合された後には、セルＣ１,Ｃ２,…毎に面取りされ、面取りされたそれぞれのセルＣ１,Ｃ２,…は平板ディスプレイ装置として利用される。
レーザは、通常セルＣ１,Ｃ２,…のそれぞれの接合部材１０３に照射される。すなわち、レーザヘッド１２１は、セルＣ１の接合部材１０３に沿って照射した後、隣接するセルＣ２の接合部材１０３を照射する。
第１基板１０１上に形成されたセルＣ１,Ｃ２,…間の間隔ｔは、数ｍｍないし数十ｍｍと非常に狭く、レーザでセルＣ１の接合部材１０３を照射している間には、照射されている部分のみが高温に加熱され、セルＣ１に隣接するセルＣ２は、レーザで加熱されていないので、レーザが照射されている部分とレーザが照射されていない部分との間には、応力が発生して基板１０１,１０２にマイクロクラックが発生し、面取り時には切断面にバーが発生する恐れがある。
しかし、本発明では、温度維持部材１５０によってレーザが照射されている間も、基板１０１,１０２を所定の温度に維持するので、レーザが照射された部分と照射されていない部分との間の温度差は減少して、これらの部分に発生する応力を減少させることができる。これにより、面取り時に発生する切断面の割れ不良を減少させることができる。
また、レーザ照射中に基板１０１,１０２を所定の温度に加熱して維持するので、レーザ照射後に行うレーザアニーリング工程を省略できる。このように、製造工程を減らすことができるので、生産性を高めることができる。
温度維持部材１５０は、発光部１０４の劣化を防止できる温度まで基板１０１,１０２を加熱して維持できる。平板ディスプレイ装置の場合には、発光部１０４は有機発光素子であり、有機発光素子の劣化を防止する温度は約１００℃なので、温度維持部材１５０は約８０℃ないし１００℃に基板１０１,１０２を加熱して維持する。基板１０１,１０２の温度が８０℃ないし１００℃に維持された場合、発光部１０４の劣化を防止できるとともに、切断面の割れ不良を減少させることができる。
温度維持部材１５０は、図１及び図２に示したように、ステージ１１０の内部に配置されうる。また、他の変形例として図４に示したように、温度維持部材１５０は、ステージ１１０上に配置されうる。この場合、第１基板１０１は、温度維持部材１５０上に載置される。
温度維持部材１５０は、基板１０１,１０２を所定の温度に加熱して維持できる熱線で形成することができる。
以下では、本発明の一実施形態に係る平板ディスプレイ装置の製造方法を説明する。
まず、第１基板１０１と、第２基板１０２とを用意する。第１基板１０１上に発光部１０４を配置し、第２基板１０２上には、接合部材１０３を配置する。
次いで、第１基板１０１と第２基板１０２とを合着する。第１基板１０１と第２基板１０２とを合着した場合、接合部材１０３は発光部１０４を取り囲む。
次いで、合着された基板１０１,１０２をレーザ照射装置のステージ１１０上に載置する。ステージ１１０は、レーザが照射されている間基板１０１,１０２を固定する。
基板１０１,１０２をステージ１１０上に載置した後には、基板１０１,１０２を所定の温度に加熱し、これを維持する。基板１０１,１０２は、発光部１０４に劣化が発生しない温度まで加熱され、これが維持される。平板ディスプレイ装置が有機発光ディスプレイ装置である場合には、発光部１０４は有機発光素子を備えているので、基板１０１,１０２は有機発光素子が劣化しない温度である８０℃ないし１００℃に加熱され、かつ維持されうる。
基板１０１,１０２が所定の温度に加熱され、かつ維持された状態で、レーザを接合部材１０３に照射して接合部材１０３を溶融して第１基板１０１と第２基板１０２とをシーリングする。
接合部材１０３は、フリットでありうる。
図５は、本発明の有機発光ディスプレイ装置の構造の一部を概略的に示す断面図であって、発光部３００の具体的な構成を例示的に示している。
図５を参照すれば、基板３０１上に複数の薄膜トランジスタ３２０を備えており、この薄膜トランジスタ３２０の上部には有機発光素子３３０を備えている。有機発光素子３３０は、薄膜トランジスタ３２０に電気的に連結された画素電極３３１と、基板３０１の全面にわたって配置された対向電極３３５と、画素電極３３１と対向電極３３５との間に配置されて少なくとも発光層を備えている中間層３３３とを備えている。
基板３０１上には、ゲート電極３２１、ソース電極及びドレイン電極３２３、半導体層３２７、ゲート絶縁膜３１３及び層間絶縁膜３１５を備えた薄膜トランジスタ３２０を備えている。もちろん、薄膜トランジスタ３２０も、図５に示した形態に限定されるわけではなく、半導体層３２７は、有機物で形成された有機薄膜トランジスタ、シリコンで形成されたシリコン薄膜トランジスタのような多様な薄膜トランジスタを利用することができる。この薄膜トランジスタ３２０と基板３０１との間には、必要に応じて酸化シリコンまたは窒化シリコンで形成されたバッファ層３１１をさらに備えていることもある。
有機発光素子３３０は、相互対向した画素電極３３１及び対向電極３３５と、これらの電極間に介在した有機物からなる中間層３３３とを備えている。この中間層３３３は、少なくとも発光層を備えているものであって、複数の層を備えうる。この層については、後述する。
画素電極３３１はアノード電極の機能を行い、対向電極３３５はカソード電極の機能を行う。もちろん、画素電極３３１と対向電極３３５との極性は、逆になることもある。
画素電極３３１は、透明電極または反射電極で形成することができる。透明電極の場合には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で形成され、反射電極の場合には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒまたはこれらの化合物で形成された反射膜と、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３で形成された膜とを備えている。
対向電極３３５も透明電極または反射電極で形成することはできるが、透明電極の場合には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ/Ｃａ、ＬｉＦ/Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物を画素電極３３１と対向電極３３５との間の中間層３３３に向かうように蒸着した膜と、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３のような透明電極形成用物質で形成した補助電極やバス電極ラインとを備えている。そして、反射型電極の場合には、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ/Ｃａ、ＬｉＦ/Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物を蒸着することによって備えられている。一方、画素定義膜(ＰＤＬ：Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｉｎｇ Ｌａｙｅｒ)３１９が画素電極３３１のエッジを覆い、画素電極３３１の外側に厚さを与えるように形成されている。この画素定義膜３１９は、発光領域を定義する役割以外に、画素電極３３１のエッジと対向電極３３５との間の間隔を広げることによって、画素電極３３１のエッジ部分で電界が集中する現象を防止して画素電極３３１と対向電極３３５が短絡することを防止する役割を行っている。
画素電極３３１と対向電極３３５との間には、少なくとも発光層を備える多様な中間層３３３が形成されている。この中間層３３３は、低分子有機物または高分子有機物で形成することができる。
低分子有機物を使用する場合には、正孔注入層(ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、正孔輸送層(ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、有機発光層(ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)、電子輸送層(ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ)、電子注入層(ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ)が単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ,Ｎ−ジ(ナフタレン−１−イル)−Ｎ,Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン(ＮＰＢ)、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Ａｌｑ３)をはじめとして多様に適用可能である。これらの低分子有機物は、マスクを利用した真空蒸着のような方法で形成することができる。
高分子有機物の場合には、大体ホール輸送層(ＨＴＬ)及び発光層(ＥＭＬ)を備えた構造を有し、この時、ＨＴＬとしてＰＥＤＯＴを使用し、ＥＭＬとしてＰＰＶ(Ｐｏｌｙ−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌｅｎｅ)系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用する。
このような有機発光素子３３０は、その下部の薄膜トランジスタ３２０に電気的に連結されているが、この時、薄膜トランジスタ３２０を覆う平坦化膜３１７を備えている場合、有機発光素子３３０は、平坦化膜３１７上に配置され、有機発光素子３３０の画素電極３３１は、平坦化膜３１７に形成されたコンタクトホールを通じて薄膜トランジスタ３２０に電気的に連結されている。
一方、基板上に形成された有機発光素子３３０は、封止基板３０２によって密封される。封止基板３０２は、前述したようにガラスまたはプラスチック材などの多様な材料で形成することができる。
本発明は、前記実施形態及び添付した図面によって限定されるわけではなく、特許請求の範囲によって限定されるものであり、当業者であれば、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で多様な形態の置換、変形及び変更が可能であることは理解できるであろう。
本発明は、発光素子関連の技術分野に好適に適用可能である。
１００ レーザ照射装置
１０１ 第１基板
１０２ 第２基板
１０３ 接合部材
１０４ 発光部
１１０ ステージ
１２０ レーザ発振部材
１２１ レーザヘッド
１２２ レーザヘッドガイド
１４０ マスク
１５０ 温度維持部材
１０１ 第１基板
１０２ 第２基板
１０３ 接合部材
１０４ 発光部
１１０ ステージ
１２０ レーザ発振部材
１２１ レーザヘッド
１２２ レーザヘッドガイド
１４０ マスク
１５０ 温度維持部材
Claims (15)
- 接合部材を利用して第１基板と第２基板とを接合するレーザ照射装置において、
前記第１基板を載置するステージと、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置される前記接合部材にレーザを照射するレーザ発振部材と、
前記第１基板の温度を所定の温度に維持する温度維持部材と
を備えていることを特徴とするレーザ照射装置。 - 前記温度維持部材は、前記第１基板を加熱して前記所定の温度に維持することによって、前記レーザが照射される部分と前記レーザが照射されない部分との間で発生する応力を減少させることを特徴とする請求項１に記載のレーザ照射装置。
- 前記温度維持部材は、前記レーザを前記接合部材に照射する間、前記第１基板を前記所定の温度に維持することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレーザ照射装置。
- 前記所定の温度は、約８０℃ないし１００℃であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記温度維持部材は、前記ステージの内部に配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記温度維持部材は、前記第１基板と前記ステージとの間に配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記温度維持部材は、前記基板を前記所定の温度に加熱して維持できる熱線であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記接合部材は、フリットで形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記レーザが前記接合部材に照射されるように、前記接合部材に対応する部分にパターンが形成されたマスクをさらに備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。
- 前記第１基板は有機発光部を有する複数のセルを備え、
前記第２基板は前記セルを密封するように前記第１基板上に配置され、
前記接合部材は前記セルのそれぞれを取り囲むように、前記第１基板と前記第２基板との間に塗布されていることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載のレーザ照射装置。 - 接合部材を利用して、第１基板と第２基板とを接合するレーザ照射装置を利用した平板ディスプレイ装置の製造方法において、
前記第２基板上に接合部材を塗布する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを合着する工程と、
合着された前記第１基板と前記第２基板とを前記レーザ照射装置のステージ上に載置する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程と、
前記接合部材にレーザを照射して前記接合部材を硬化させ、前記第１基板と前記第２基板とを接合する工程と
を含むことを特徴とする平板ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程は、
前記第１基板上に形成された発光部の劣化が発生しない所定の温度に前記第１基板と前記第２基板とを加熱する工程と、
前記所定の温度を維持する工程と
を含むことを特徴とする請求項１１に記載の平板ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第１基板と前記第２基板とを所定の温度に維持する工程は、
前記第１基板と前記第２基板とを約８０℃ないし１００℃に維持することを特徴とする請求項１２に記載の平板ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記接合部材は、フリットであることを特徴とする請求項１１乃至請求項１３のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記接合部材にレーザを照射する間にも、前記所定の温度を維持することを特徴とする請求項１１乃至請求項１４のいずれか１項に記載の平板ディスプレイ装置の製造方法。
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