JP2010260318A - Suction stage - Google Patents

Suction stage Download PDF

Info

Publication number
JP2010260318A
JP2010260318A JP2009114850A JP2009114850A JP2010260318A JP 2010260318 A JP2010260318 A JP 2010260318A JP 2009114850 A JP2009114850 A JP 2009114850A JP 2009114850 A JP2009114850 A JP 2009114850A JP 2010260318 A JP2010260318 A JP 2010260318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
suction
stage
porous plate
partition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009114850A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Saito
浩 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp filed Critical IHI Corp
Priority to JP2009114850A priority Critical patent/JP2010260318A/en
Publication of JP2010260318A publication Critical patent/JP2010260318A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction stage where a liquid for a wet process is not sucked into a workpiece suction part protruded from a workpiece. <P>SOLUTION: In the surface of a stage body 12, a suction part forming region which is slightly smaller than the outer form of the maximum workpiece 5a among suction objective workpieces is set. At the inside of the suction part forming region, the part along the outer form of a small size workpiece 5b among the suction part objective workpieces is provided with a partition part 15, and the other part is provided with a porous plate 16. Each porous plate 16 partitioned by the partition part 15 is connected with a flow passage 17 branched from one drawing port 18. When the small size workpiece 5b is held, the outer circumferential edge part thereof and the edge part of a mask 19 covering the porous plate 16 at the outside than the partition part 15 are butted to be placed on the partition part 15, and evacuation is performed from the drawing port 18 in this state, thus the workpiece 5b and the mask 19 are sucked on the porous plates 16 at the inside and outside of the partition part 15, respectively. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ワークを吸着して保持する吸着ステージに関するもので、特に、印刷等のウェットプロセスを行うワークの保持を行うための吸着ステージに関するものである。   The present invention relates to a suction stage that sucks and holds a workpiece, and more particularly, to a suction stage for holding a workpiece that performs a wet process such as printing.

各種薄膜ガラスやプラスチック製の薄膜シート等のワークの位置を固定するために、吸着ステージが広く一般的に用いられている。   In order to fix the position of workpieces such as various thin film glasses and plastic thin film sheets, suction stages are widely used.

この種の吸着ステージの1つに真空吸着ステージがあり、該真空吸着ステージとしては、多孔質吸着形式のものと、孔(穴)吸着形式のものがある。   One of these types of adsorption stages is a vacuum adsorption stage. As the vacuum adsorption stage, there are a porous adsorption type and a hole (hole) adsorption type.

図6は、上記多孔質吸着形式の真空吸着ステージの一例の概略を示すもので、ステージ本体1の上側に、表面がワーク吸着面となるセラミック多孔質等の多孔質プレート2を設け、且つ1つの引き口3から分岐して上記ステージ本体1の内部を通して上記多孔質プレート2の底面部に連通させた流路4を備えてなる構成として、上記多孔質プレート2の表面に基板等のワーク5を載置した状態で、上記引き口3に接続したポンプ6により上記流路4を介して上記多孔質プレート2を真空引きすることで、該多孔質プレート2の内部の空隙を減圧して、上記ワーク5を多孔質プレート2の表面に吸着して保持、固定するようにしてある。かかる多孔質吸着形式の真空吸着ステージによれば、ワーク5の変形を抑制し、均質にワーク5を固定できるとされている。   FIG. 6 shows an outline of an example of the above-described porous adsorption type vacuum adsorption stage. On the upper side of the stage main body 1, a porous plate 2 such as a ceramic porous whose surface is a workpiece adsorption surface is provided. As a configuration comprising a flow path 4 branched from one drawing port 3 and communicated with the bottom surface of the porous plate 2 through the inside of the stage main body 1, a work 5 such as a substrate is provided on the surface of the porous plate 2. In a state in which the porous plate 2 is evacuated through the flow path 4 by the pump 6 connected to the pulling port 3, the void inside the porous plate 2 is decompressed, The workpiece 5 is adsorbed to the surface of the porous plate 2 and is held and fixed. According to such a vacuum suction stage of the porous adsorption type, it is said that deformation of the work 5 can be suppressed and the work 5 can be fixed uniformly.

図7は、孔吸着形式の真空吸着ステージの一例の概略を示すもので、ステージ本体7に、ワーク吸着面となる表面に開口する多数の細孔8を設け、且つ1つの引き口3から分岐して上記多数の細孔8に連通する流路4aを備えてなる構成として、上記ステージ本体7の表面に基板等のワーク5を載置した状態で、上記引き口3に接続したポンプ6により上記流路4aを介して上記多数の細孔8を真空引きすることで、該各細孔8の内部を減圧して、上記ワーク5を上記ステージ本体7の表面に吸着して保持、固定するようにしてある(たとえば、特許文献1参照)。   FIG. 7 shows an outline of an example of a vacuum suction stage of a hole suction type. A stage main body 7 is provided with a large number of pores 8 opened on a surface to be a workpiece suction surface, and branches from one drawing port 3. As a configuration provided with the flow path 4a communicating with the large number of pores 8, the pump 6 connected to the drawing port 3 with the workpiece 5 such as a substrate placed on the surface of the stage body 7 is used. By evacuating the numerous pores 8 through the flow path 4a, the inside of each pore 8 is decompressed, and the work 5 is adsorbed to the surface of the stage body 7 and held and fixed. (For example, refer to Patent Document 1).

なお、図6及び図7における符号9はワーク5上に印刷したインクである。   Note that reference numeral 9 in FIGS. 6 and 7 denotes ink printed on the work 5.

又、他の吸着ステージとしては、静電吸着ステージ、電磁吸着ステージが広く用いられている。更に、これらの静電吸着ステージや電磁吸着ステージでは、ワーク吸着面に吸着させたワークの取り外しを容易にする等、所要の目的のために、ワーク吸着面に多数の細孔(細穴)が設けられていることがある。   As other suction stages, electrostatic suction stages and electromagnetic suction stages are widely used. Furthermore, in these electrostatic adsorption stages and electromagnetic adsorption stages, there are many pores (narrow holes) on the workpiece adsorption surface for the required purpose, such as easy removal of the workpiece adsorbed on the workpiece adsorption surface. It may be provided.

特開昭61−144898号公報JP 61-144898 A

ところが、上記図6に示した多孔質吸着形式の真空吸着ステージを用いて、該真空吸着ステージに保持したワーク5に対して、印刷等のウェットプロセスを行う場合には、実際にワーク5を吸着する真空吸着部となる多孔質プレート2が、ワーク5より小さくなるように設計して、上記真空吸着ステージにワーク5が保持、固定されているときには、たとえば、インク等の上記ウェットプロセスで使用する液体が上記多孔質プレート2に吸い込まれない(染み込まない)ようにする必要がある。   However, when a wet process such as printing is performed on the work 5 held on the vacuum suction stage using the porous suction type vacuum suction stage shown in FIG. 6, the work 5 is actually sucked. When the work 5 is held and fixed on the vacuum suction stage, the porous plate 2 serving as a vacuum suction portion is designed to be smaller than the work 5 and used in the wet process such as ink. It is necessary to prevent the liquid from being sucked into (permeated into) the porous plate 2.

したがって、上記真空吸着ステージは、通常、大きさの異なる複数のワーク5を同じ真空吸着ステージを用いて吸着するようにはなっていないというのが実状である。   Therefore, the actual situation is that the vacuum suction stage does not normally suck a plurality of workpieces 5 having different sizes using the same vacuum suction stage.

そのために、真空吸着部となる上記多孔質プレート2よりも小さいサイズのワーク5を保持、固定を行わせる場合には、図8に示すように、ワーク5よりはみ出した部分の多孔質プレート2の表面をマスク10で覆って対応することが必要とされる。更に、上記ワーク5とマスク10の端面同士を単に突合せて配置した状態では、両者の隙間から上記インク等のウェットプロセスで使用する液体が染み込んで、上記多孔質プレート2に吸い込まれる虞が懸念されるため、該隙間をシリコン等のシール剤11でシールする必要があり、よって、作業が非常に煩雑になると共に、上記シール材11によるシール部分が漏れる虞も解消できないという問題がある。   Therefore, when holding and fixing the workpiece 5 having a size smaller than the porous plate 2 serving as a vacuum suction portion, as shown in FIG. It is necessary to cover the surface with a mask 10 to cope with it. Furthermore, in a state where the end surfaces of the workpiece 5 and the mask 10 are simply faced to each other, there is a concern that a liquid used in a wet process such as the ink may permeate through the gap between the two and may be sucked into the porous plate 2. Therefore, it is necessary to seal the gap with a sealing agent 11 such as silicon. Therefore, there is a problem that the work becomes very complicated and the possibility of leakage of the sealing portion by the sealing material 11 cannot be solved.

更に、ワーク5が大きい場合は、真空吸着部となる上記多孔質プレート2も大きくする必要があるが、一般に、上記多孔質プレート2は中実な材料に比して剛性が低いため、たとえば、該多孔質プレート2の表面に吸着して保持したワーク5に対し、印刷装置のブランケットロール等のように上方から移動荷重を作用させるような場合には、多孔質プレート2の変形量が大きくなる虞があり、よって、上記ウェットプロセスの精度の低下につながる虞も懸念される。   Furthermore, when the workpiece 5 is large, the porous plate 2 serving as a vacuum suction portion also needs to be enlarged. Generally, the porous plate 2 has a lower rigidity than a solid material. When a moving load is applied to the work 5 adsorbed and held on the surface of the porous plate 2 from above such as a blanket roll of a printing apparatus, the amount of deformation of the porous plate 2 increases. Therefore, there is a concern that the accuracy of the wet process may be reduced.

図7に示した孔吸着形式の真空吸着ステージに保持したワーク5に対して印刷等のウェットプロセスを行うときには、ステージ本体7における細孔8を穿設した領域がワーク5より小さくなるように設計して、上記真空吸着ステージにワーク5が保持、固定されているときには、たとえば、インク等、上記ウェットプロセスで使用する液体が上記細孔8に吸い込まれないようにする必要がある。   When a wet process such as printing is performed on the work 5 held on the vacuum suction stage of the hole suction type shown in FIG. 7, the area in which the fine holes 8 are formed in the stage body 7 is designed to be smaller than the work 5. When the workpiece 5 is held and fixed on the vacuum suction stage, it is necessary to prevent the liquid used in the wet process such as ink from being sucked into the pores 8.

したがって、図示してないが、上記孔吸着形式の真空吸着ステージの場合も、真空吸着部となる上記ステージ本体7における細孔8穿設領域よりも小さいサイズのワーク5の固定を行おうとする場合には、図8に示したものと同様に、該細孔8穿設領域のワーク5よりはみ出す部分をマスク10で覆って対応することが必要とされ、更に、上記ワーク5とマスク10の端面同士の隙間をシリコン等のシール剤11でシールする必要が生じるため、作業が非常に煩雑になると共に、シール部分が漏れる虞も解消できないという問題が生じてしまう。   Therefore, although not shown in the figure, also in the case of the above-described vacuum suction type vacuum suction stage, the work 5 having a size smaller than the pore 8 drilling region in the stage main body 7 serving as a vacuum suction portion is to be fixed. 8, it is necessary to cover the portion of the pore 8 drilling region that protrudes from the work 5 with a mask 10 in the same manner as shown in FIG. Since it becomes necessary to seal the gaps between them with a sealant 11 such as silicon, there is a problem that the operation becomes very complicated and the possibility of leakage of the seal portion cannot be solved.

そこで、本発明は、印刷等のウェットプロセスの対象となるワークについて、複数の大きさの異なるワークを吸着して保持することができると共に、ワークに対して行うウェットプロセスで用いる液体が、ワーク吸着面に設けてある多孔質プレートや細孔に吸い込まれる虞を解消できて、ワークを保持させるために要する労力を軽減することが可能な吸着ステージを提供しようとするものである。   Accordingly, the present invention is capable of adsorbing and holding a plurality of workpieces having different sizes with respect to a workpiece to be subjected to a wet process such as printing, and the liquid used in the wet process performed on the workpiece is a workpiece adsorption. An object of the present invention is to provide an adsorption stage that can eliminate the possibility of being sucked into a porous plate or pores provided on the surface and can reduce the labor required to hold the workpiece.

本発明は、上記課題を解決するために、請求項1に対応して、ステージ本体の表面における吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの最大のワークの外形よりも所要寸法小さくなるよう設定した吸着部形成領域の内側に、上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの上記吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークの外形に沿う仕切部を設け、且つ該吸着部形成領域の内側における上記仕切部を除く部分に、ワーク吸着部を設けてなる構成とする。   In order to solve the above-mentioned problem, the present invention corresponds to claim 1 and has a required dimension smaller than the outer shape of the largest workpiece among a plurality of workpieces of different sizes to be attracted on the surface of the stage body. A partition portion along the outer shape of the workpiece having a size smaller than the suction portion formation region among the plurality of workpieces of different sizes to be suctioned is provided inside the suction portion formation region set as described above, and the suction portion It is set as the structure which provides a workpiece | work adsorption | suction part in the part except the said partition part inside a formation area.

又、上記構成において、ワーク吸着部を、ステージ本体の表面部に設けた多孔質プレートとし、且つ仕切部で仕切られた各多孔質プレートに連通する流路を設けるようにした構成とする。   Further, in the above configuration, the workpiece adsorbing portion is a porous plate provided on the surface portion of the stage body, and a flow path communicating with each porous plate partitioned by the partitioning portion is provided.

同様に、上記構成において、ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔からなる構成とし、且つ上記各細孔に連通する流路を設けるようにした構成とする。   Similarly, in the above-described configuration, the workpiece adsorbing portion is configured to have a large number of pores that open to the surface of the stage main body, and is configured to have a flow path that communicates with each of the pores.

更に同様に、上記構成において、ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔を備えた静電吸着部又は電磁吸着部とするようにした構成とする。   Further, similarly, in the above-described configuration, the workpiece attracting portion is configured to be an electrostatic attracting portion or an electromagnetic attracting portion having a large number of pores opened on the surface of the stage main body.

本発明の吸着ステージによれば、以下のような優れた効果を発揮する。
(1)ステージ本体の表面における吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの最大のワークの外形よりも所要寸法小さくなるよう設定した吸着部形成領域の内側に、上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの上記吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークの外形に沿う仕切部を設け、且つ該吸着部形成領域の内側における上記仕切部を除く部分に、ワーク吸着部を設けてなる構成としてあるので、吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの最大のワークは、吸着部形成領域の仕切部によって仕切られたワーク吸着部全体で吸着することができる。又、吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークは、その外形に沿う仕切部に外周縁部を載置すると共に、該仕切部の外側のワーク吸着部をマスクで覆うようにすれば、該仕切部の内側のワーク吸着部で吸着することができる。よって、複数の大きさの異なるワークを吸着して保持することができる。
(2)更に、複数の大きさの異なるワークのうちの最大のワークを吸着するときは、該ワークによりすべてのワーク吸着部を覆うことができる。又、吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークを吸着するときは、該ワークの外形に沿う仕切部の内側のワーク吸着部は該ワークで覆うことができ、上記仕切部よりも外側のワーク吸着部はマスクで覆うことができ、更に、上記ワークとマスクの端部同士を突合せて配置した個所は、上記仕切部で受けることができて、両者の端部同士の隙間の下にはワーク吸着部がないため、ステージ上に保持、固定した状態のワークを印刷等のウェットプロセスに供しても、該ウェットプロセスで用いる液体が上記ワーク吸着部に吸い込まれる等の悪影響を及ぼす虞を解消できる。
(3)ワーク吸着部を、ステージ本体の表面部に設けた多孔質プレートとし、且つ仕切部で仕切られた各多孔質プレートに連通する流路を設けるようにした構成とすることにより、上記(1)に示した効果を得ることが可能な多孔質吸着形式の真空吸着ステージを容易に実現することができる。更に、吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークを保持する場合であっても、真空吸着する前の工程では、該ワークと、該ワークの外形に対応する仕切部よりも外側の多孔質プレートの上を覆うマスクは、それぞれ所定個所に載置するのみでよいため、上記ワークを保持させるために要する労力を軽減することができる。しかも、吸着部形成領域に設ける多孔質プレートを、より高剛性の仕切部で補強できるため、ステージ上に保持したワークに対して印刷装置のブランケットロール等のように上方から移動荷重を作用させるような場合には、該荷重を、上記仕切部で受けることができ、このため、上記多孔質プレートの変形量が大きくなる虞を抑制することができて、ステージ上に保持したワークをウェットプロセスに供する際における精度の向上化を図る効果が期待できる。
(4)ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔からなる構成とし、且つ上記各細孔に連通する流路を設けるようにした構成とすることにより、上記(1)に示した効果を得ることが可能な孔吸着形式の真空吸着ステージを容易に実現することができる。更に、上記(3)と同様の効果を得ることもできる。
(5)ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔を備えた静電吸着部又は電磁吸着部とするようにした構成とすることにより、上記(1)に示した効果を得ることが可能な静電吸着ステージ又は電磁吸着ステージを容易に実現することができる。
According to the adsorption stage of the present invention, the following excellent effects are exhibited.
(1) A plurality of the suction targets inside the suction portion forming region set to be smaller than the outer dimension of the largest workpiece among the plurality of workpieces of different sizes to be suctioned on the surface of the stage body. A partition along the outer shape of the work of a size smaller than the suction part formation region of the workpieces of different sizes is provided, and a work suction part is provided in a portion excluding the partition part inside the suction part formation region. Since it is configured to be provided, the largest workpiece among a plurality of workpieces of different sizes to be suctioned can be sucked by the entire workpiece suction portion partitioned by the partition portion of the suction portion forming region. In addition, when a work having a size smaller than the suction portion forming area is mounted on the outer peripheral edge portion on the partition portion along the outer shape and the work suction portion outside the partition portion is covered with a mask, the partition It can be adsorbed by the work adsorbing part inside the part. Therefore, a plurality of workpieces having different sizes can be adsorbed and held.
(2) Furthermore, when the largest workpiece among a plurality of workpieces of different sizes is sucked, all the workpiece suction portions can be covered by the workpiece. When a workpiece having a size smaller than the suction portion forming area is sucked, the workpiece suction portion inside the partition portion along the outer shape of the workpiece can be covered with the workpiece, and the workpiece suction portion outside the partition portion is sucked. The part can be covered with a mask, and the part where the work and the end of the mask are faced to each other can be received by the partition, and the work is adsorbed under the gap between the two end parts. Since there is no part, even if the work held and fixed on the stage is subjected to a wet process such as printing, the risk of adverse effects such as the liquid used in the wet process being sucked into the work suction part can be eliminated.
(3) The work adsorption part is a porous plate provided on the surface part of the stage main body, and a flow path communicating with each porous plate partitioned by the partition part is provided. A porous adsorption type vacuum adsorption stage capable of obtaining the effect shown in 1) can be easily realized. Furthermore, even when holding a workpiece having a size smaller than the suction portion forming region, in the step before vacuum suction, the workpiece and the porous plate outside the partition portion corresponding to the outer shape of the workpiece. Since the masks covering the top need only be placed at predetermined positions, respectively, the labor required to hold the workpiece can be reduced. In addition, since the porous plate provided in the adsorption part forming region can be reinforced with a more rigid partition part, a moving load is applied to the work held on the stage from above, such as a blanket roll of a printing apparatus. In such a case, the load can be received by the partitioning portion, and therefore, the risk that the amount of deformation of the porous plate is increased can be suppressed, and the work held on the stage can be subjected to a wet process. It can be expected to improve the accuracy when it is used.
(4) The work adsorption portion is configured to have a large number of pores opening on the surface of the stage body, and a flow path communicating with each of the pores is provided. It is possible to easily realize a vacuum suction type vacuum suction stage capable of obtaining the effects shown. Furthermore, the same effect as the above (3) can be obtained.
(5) The effect shown in the above (1) can be obtained by adopting a configuration in which the workpiece adsorption unit is an electrostatic adsorption unit or an electromagnetic adsorption unit having a large number of pores opened on the surface of the stage body. An electrostatic adsorption stage or an electromagnetic adsorption stage that can be obtained can be easily realized.

本発明の吸着ステージの実施の一形態を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows one Embodiment of the adsorption | suction stage of this invention. 図1の吸着ステージの要部を拡大して示す切断側面図である。FIG. 2 is an enlarged cutaway side view showing a main part of the suction stage of FIG. 1. 図1の吸着ステージの使用方法を示すもので、(イ)はサイズの大きなワークを保持する場合を、(ロ)はサイズの小さいワークを保持する場合をそれぞれ示す図2に対応する図である。FIGS. 1A and 1B illustrate a method of using the suction stage of FIG. 1, and FIG. 2B corresponds to FIG. 2 illustrating a case where a large-sized workpiece is held, and FIG. . 本発明の実施の他の形態の形態を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the form of the other form of implementation of this invention. 図4の吸着ステージの要部を拡大して示す切断側面図である。FIG. 5 is an enlarged cutaway side view showing a main part of the suction stage of FIG. 4. 従来提案されている多孔質吸着形式の真空吸着ステージの一例の概略を示す切断側面図である。It is a cutting | disconnection side view which shows the outline of an example of the vacuum suction stage of the porous adsorption | suction type proposed conventionally. 従来提案されている孔吸着形式の真空吸着ステージの一例の概略を示す切断側面図である。It is a cutting side view showing an outline of an example of a conventionally proposed hole adsorption type vacuum adsorption stage. 図6の多孔質吸着形式の真空吸着ステージでウェットプロセスを行うためのサイズの小さいワークを保持する場合の対応として考えられる手段の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the means considered as a response | compatibility in the case of hold | maintaining the small size workpiece | work for performing a wet process with the vacuum suction stage of the porous adsorption | suction type of FIG.

以下、本発明を実施するための形態を図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

図1乃至図3(イ)(ロ)は本発明の吸着ステージの実施の一形態として、多孔質吸着形式の真空吸着ステージに適用する場合の例を示すもので、以下のような構成としてある。   FIGS. 1 to 3 (a) and 3 (b) show examples of the case where the present invention is applied to a porous adsorption type vacuum adsorption stage as one embodiment of the adsorption stage of the present invention. .

すなわち、ステージ本体12の表面部に、吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの最大サイズのワーク5aの外形よりも一回り小さい、たとえば、数mm小さい形状の吸着部形成領域13を設定して、該吸着部形成領域13の内側に、所要の深さで多孔質プレート嵌合用の凹部14を設ける。   That is, an adsorption portion having a shape that is slightly smaller than the outer shape of the maximum size workpiece 5a among the plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes, for example, several mm smaller, is formed on the surface portion of the stage main body 12. A region 13 is set, and a recess 14 for fitting a porous plate is provided at a required depth inside the adsorption portion forming region 13.

上記凹部14の内側で且つ上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bの外形に沿う位置には、該ワーク5bの外形の所要寸法内側位置から所要寸法外側位置までとなる所要の幅寸法、たとえば、数mmの幅寸法を備えた仕切部15を、その上面が上記ステージ本体12の表面と面一になる高さで設ける。   At a position along the outer shape of the work 5b having a size smaller than the suction part forming region 13 among the plurality of works 5a and 5b having different sizes to be suctioned, the inside of the concave part 14 is located at the position of the work 5b. A height of the partition 15 having a required width dimension from the inner position to the outer position of the required dimension, for example, a width dimension of several millimeters, the upper surface of which is flush with the surface of the stage body 12. Provided.

更に、上記仕切部15の内側と外側の凹部14に、それぞれワーク吸着部としての多孔質プレート16を嵌合させて取り付ける。この際、上記多孔質プレート16の表面は、上記ステージ本体12の表面及び仕切部15の上面と面一になるようにする。   Furthermore, the porous plate 16 as a workpiece | work adsorption | suction part is fitted and attached to the inner side and the outer side recessed part 14 of the said partition part 15, respectively. At this time, the surface of the porous plate 16 is flush with the surface of the stage body 12 and the upper surface of the partition 15.

17は、1つの引き口18から分岐させて上記ステージ本体12の内部を通して上記仕切部の内側と外側の各多孔質プレート16の底面部の所要個所にそれぞれ連通させた流路である。   Reference numeral 17 denotes a flow path branched from one drawing port 18 and communicated with a required portion of the bottom surface of each porous plate 16 inside and outside the partition through the inside of the stage main body 12.

以上の構成としてある本発明の吸着ステージとしての真空吸着ステージを使用して、上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの最大サイズのワーク5aを保持する場合は、図3(イ)に示すように、該ワーク5aを、上記吸着部形成領域13に設けてある多孔質プレート16の全面を覆うように配置し、この状態で、上記引き口18に接続した図示しないポンプを運転して、上記流路17を介して上記仕切部15の内側と外側の各多孔質プレート16を真空引きする。これにより、上記多孔質プレート16の内部の空隙が減圧されるため、上記仕切部15の内側と外側の各多孔質プレート16からなるワーク吸着部の表面全体で上記ワーク5aが吸着されて、該ワーク5aがステージ上に保持、固定される。   When holding the workpiece 5a having the maximum size among the plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes to be suctioned using the vacuum suction stage as the suction stage of the present invention having the above-described configuration, FIG. 3 (a), the work 5a is arranged so as to cover the entire surface of the porous plate 16 provided in the suction portion forming region 13, and in this state, connected to the drawing port 18 (not shown). The pump is operated to evacuate the porous plates 16 inside and outside the partition 15 via the flow path 17. As a result, the internal space of the porous plate 16 is depressurized, so that the work 5a is adsorbed on the entire surface of the work adsorbing portion composed of the porous plates 16 inside and outside the partition portion 15, The work 5a is held and fixed on the stage.

この際、上記したように吸着部形成領域13に設けてある多孔質プレート16は、その全面が上記ワーク5aにより覆われているため、本発明の吸着ステージとしての真空吸着ステージに保持、固定した状態の上記ワーク5aを印刷等のウェットプロセスに供しても、該ウェットプロセスで用いる液体(図示せず)が上記多孔質プレート16に吸い込まれる虞はない。   At this time, since the entire surface of the porous plate 16 provided in the suction portion forming region 13 is covered with the workpiece 5a as described above, the porous plate 16 is held and fixed on the vacuum suction stage as the suction stage of the present invention. Even if the workpiece 5a in a state is subjected to a wet process such as printing, there is no possibility that a liquid (not shown) used in the wet process is sucked into the porous plate 16.

又、上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうち、上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bを保持する場合は、図3(ロ)に示すように、該ワーク5bの外周縁部を、上記吸着部形成領域13に設けてある上記仕切部15の上に載置すると共に、該仕切部15の外側の多孔質プレート16の上方を覆う所要形状としたマスク19を、その内側端部を上記仕切部15上に、且つ外側端部をステージ本体12における上記吸着部形成領域13の外周縁部にそれぞれ載置させて配置し、この状態で、上記引き口18に接続した図示しないポンプを運転して、上記流路17を介して上記仕切部15の内側と外側の各多孔質プレート16を真空引きする。これにより、上記各多孔質プレート16の内部の空隙が減圧される。この際、上記仕切部15の内側のワーク吸着部である多孔質プレート16の表面に、上記ワーク5bが吸着されると共に、上記仕切部15の外側の多孔質プレート16の表面には上記マスク19が吸着されて空気が流入することはないため、上記ワーク5bがステージ上に保持、固定されるようになる。   When holding the workpiece 5b having a size smaller than the suction portion forming region 13 among the plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes to be suctioned, as shown in FIG. The outer peripheral edge of the workpiece 5b is placed on the partition 15 provided in the suction portion forming region 13, and the mask has a required shape that covers the porous plate 16 outside the partition 15 19 is placed with its inner end on the partition 15 and its outer end on the outer peripheral edge of the suction portion forming region 13 in the stage main body 12. A pump (not shown) connected to 18 is operated to evacuate the porous plates 16 inside and outside the partition 15 via the flow path 17. Thereby, the space | gap inside each said porous plate 16 is pressure-reduced. At this time, the work 5b is adsorbed on the surface of the porous plate 16 which is the work adsorbing portion inside the partition portion 15, and the mask 19 is applied on the surface of the porous plate 16 outside the partition portion 15. Since the air is not adsorbed and air does not flow in, the work 5b is held and fixed on the stage.

この際、上記吸着部形成領域13に設けてある多孔質プレート16において、上記仕切部15の内側の多孔質プレート16の表面は、上記ワーク5bにより覆われ、又、上記仕切部15の外側の多孔質プレート16の表面は、上記マスク19により覆われ、更に、上記ワーク5bとマスク19の端部同士を突合せて配置した個所は、上記仕切部15で受けられていて、両者の隙間の下方には多孔質プレート16が存在しないため、本発明の吸着ステージとしての真空吸着ステージに保持、固定した状態の上記ワーク5bを印刷等のウェットプロセスに供しても、該ウェットプロセスで用いる液体(図示せず)が上記多孔質プレート16に吸い込まれる虞はない。   At this time, in the porous plate 16 provided in the adsorption part forming region 13, the surface of the porous plate 16 inside the partition part 15 is covered with the work 5 b, and the surface outside the partition part 15 is covered with the work 5 b. The surface of the porous plate 16 is covered with the mask 19, and the portion where the end portions of the work 5 b and the mask 19 are abutted against each other is received by the partition portion 15, below the gap between the two. Since the porous plate 16 does not exist, the work 5b held and fixed on the vacuum suction stage as the suction stage of the present invention is subjected to a liquid process (FIG. (Not shown) is not likely to be sucked into the porous plate 16.

このように、本発明の吸着ステージとしての真空吸着ステージによれば、複数の大きさの異なるワーク5a,5bを良好に吸着して保持することができ、この複数の大きさの異なるワーク5a,5bを吸着保持した状態で、該各ワーク5a,5bをそれぞれウェットプロセスに供しても、該ウェットプロセスで用いる液体がワーク吸着面に設けてある上記多孔質プレート16に吸い込まれる虞を解消することができる。   Thus, according to the vacuum suction stage as the suction stage of the present invention, it is possible to satisfactorily suck and hold a plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes, and the plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes. Even if each of the workpieces 5a and 5b is subjected to a wet process while adsorbing and holding 5b, the possibility that the liquid used in the wet process is sucked into the porous plate 16 provided on the workpiece adsorption surface is eliminated. Can do.

しかも、上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bを保持する場合であっても、真空引きする前の工程では、ワーク5bと、該ワーク5bの外側にはみ出す上記仕切部15よりも外側の多孔質プレート16の上を覆うマスク19は、それぞれ所定個所に載置する作業のみでよいため、上記ワーク5bを保持させるために要する労力を軽減することができる。   Moreover, even when the work 5b having a size smaller than the suction part forming region 13 is held, the work 5b and the outside of the partition part 15 protruding outside the work 5b are removed in the step before evacuation. Since the masks 19 covering the porous plate 16 only need to be placed at predetermined positions, the labor required to hold the workpiece 5b can be reduced.

更に、上記ステージ本体12の表面部にて多孔質プレート16が設置される吸着部形成領域13の内側に上記仕切部15が設けてあるため、ステージ上に上記複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの最大サイズのワーク5aを保持した状態で、印刷装置のブランケットロール等のように上方から移動荷重を作用させるような場合には、該荷重を、多孔質プレート16よりも丈夫な(剛性が高い)上記仕切部15で受けることができるため、上記多孔質プレート16の変形量が大きくなる虞を抑制することができて、ウェットプロセスの精度の向上化を図る効果が期待できる。   Furthermore, since the partition 15 is provided inside the suction portion forming region 13 where the porous plate 16 is installed on the surface portion of the stage main body 12, the plurality of workpieces 5a, When a moving load is applied from above, such as a blanket roll of a printing apparatus, in a state where the workpiece 5a having the maximum size of 5b is held, the load is stronger than the porous plate 16 ( Since it can be received by the partition portion 15 (which has high rigidity), it is possible to suppress the possibility that the deformation amount of the porous plate 16 becomes large, and an effect of improving the accuracy of the wet process can be expected.

次に、図4及び図5は本発明の実施の他の形態として、孔吸着形式の真空吸着ステージ適用する場合の例を示すもので、以下のような構成としてある。   Next, FIG. 4 and FIG. 5 show an example in which a hole suction type vacuum suction stage is applied as another embodiment of the present invention, which has the following configuration.

すなわち、ステージ本体20の表面部に、図4に一点鎖線で示す如く、吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの図4に二点鎖線で示した最大サイズのワーク5aの外形よりも一回り小さい形状の吸着部形成領域13を設定し、更に、該吸着部形成領域13の内側で且つ上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワーク5a,5bのうちの上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bの外形に沿う位置に、該ワーク5bの外形の所要寸法内側位置から所要寸法外側位置までとなる所要の幅寸法を備えた仕切部15を形成するための領域を定めて、上記吸着部形成領域13の内側における上記仕切部15を形成するための領域を除く部分に、ワーク吸着部として、上記ステージ本体20の表面に開口する多数の細孔21を設け、これにより、上記ワーク5bの外形に沿う位置に、内外方向に所要幅で細孔21が存在しない仕切部15を形成する。   That is, on the surface portion of the stage main body 20, as shown by a one-dot chain line in FIG. 4, among a plurality of workpieces 5a and 5b having different sizes to be attracted, the workpiece 5a of the maximum size shown by the two-dot chain line in FIG. The suction part forming region 13 having a shape slightly smaller than the outer shape of the workpiece is set, and the suction among the workpieces 5a and 5b having a plurality of sizes different from each other inside the suction part forming region 13 and the suction target is set. In order to form the partition portion 15 having a required width dimension from the inner position of the outer dimension of the workpiece 5b to the outer position of the required dimension at a position along the outer shape of the workpiece 5b having a size smaller than the portion forming region 13. And a large number of openings that open on the surface of the stage main body 20 as work adsorbing portions in a portion excluding the area for forming the partitioning portion 15 inside the adsorbing portion forming region 13. The pore 21 is provided, thereby, a position along the outer shape of the work 5b, to form a partition portion 15 having no pores 21 with a required width inward and outward.

更に、1つの引き口18から分岐して上記ステージ本体20に設けた各細孔21に連通する流路17aを設けてなる構成とする。   Further, a flow path 17 a branched from one drawing port 18 and communicating with each pore 21 provided in the stage main body 20 is provided.

その他、図1乃至図3(イ)(ロ)に示したものと同一のものには同一符号が付してある。   In addition, the same components as those shown in FIGS. 1 to 3 (A) and (B) are denoted by the same reference numerals.

本実施の形態の孔吸着形式の真空吸着ステージによっても、上記図1乃至図3(イ)(ロ)の実施の形態の多孔質吸着形式の吸着ステージと同様に使用することで、複数の大きさの異なるワーク5a,5bを良好に吸着して保持することができ、この複数の大きさの異なるワーク5a,5bを吸着保持した状態で、該各ワーク5a,5bをそれぞれウェットプロセスに供しても、該ウェットプロセスで用いる液体がワーク吸着面に設けてある上記細孔21に吸い込まれる虞を解消することができる。   By using the same as the porous adsorption type adsorption stage of the embodiment shown in FIGS. 1 to 3 (A) and (B), the pore adsorption type vacuum adsorption stage of the present embodiment can be used in a plurality of sizes. The workpieces 5a and 5b having different sizes can be adsorbed and held satisfactorily, and the workpieces 5a and 5b having different sizes are adsorbed and held, and each of the workpieces 5a and 5b is subjected to a wet process. In addition, it is possible to eliminate the possibility that the liquid used in the wet process is sucked into the pores 21 provided on the workpiece adsorption surface.

又、上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bを保持する場合は、真空引きする前の工程で、ワーク5bと、該ワーク5bの外側にはみ出す上記仕切部15よりも外側の多孔質プレート16の上を覆うマスク19を、それぞれ所定個所に載置する作業のみでよいため、上記ワーク5bを保持させるために要する労力を軽減することができる。   When holding the work 5b having a size smaller than the suction part forming region 13, the work 5b and the porous part outside the partition part 15 protruding outside the work 5b in the step before evacuation. Since it is only necessary to place the masks 19 covering the plate 16 at predetermined positions, the labor required to hold the workpiece 5b can be reduced.

なお、本発明は上記実施の形態のみに限定されるものではなく、仕切部15は、吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bの外形に沿う形状を備えていれば、矩形の各辺部をそれぞれ延長して格子状とする等、図示した以外の平面形状としてもよい。   In addition, this invention is not limited only to the said embodiment, If the partition part 15 is provided with the shape along the external shape of the workpiece | work 5b of a size smaller than the adsorption | suction part formation area | region 13, each side of a rectangle It is good also as planar shapes other than illustration, such as extending a part and making it a grid | lattice form.

又、複数の大きさの異なるワークとして、3種以上の大きさの異なるワークを保持するための吸着ステージに適用してもよい。この場合は、最大サイズのワーク5aの外形に応じて設定する吸着部形成領域13の内側に、該吸着部形成領域13よりも小さいサイズの各ワークの外形に応じた平面形状の仕切部15をそれぞれ設けるようにすればよく、この際、上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズの各ワークの外形に応じた平面形状の仕切部15の配置は、同心状配置、あるいは、上記吸着部形成領域13よりも小さいサイズの各ワークの外形に応じた平面形状の仕切部15同士が交差する配置等、任意に設定した配置としてよい。   Moreover, you may apply to the adsorption | suction stage for hold | maintaining a 3 or more types of workpiece | work from which a size differs as several workpiece | work from which a size differs. In this case, a partition 15 having a planar shape corresponding to the outer shape of each work having a size smaller than the suction portion forming area 13 is provided inside the suction portion forming area 13 set according to the outer shape of the workpiece 5a having the maximum size. In this case, the arrangement of the planar partition portions 15 corresponding to the outer shape of each work having a size smaller than that of the adsorption portion forming area 13 may be concentric arrangement or the adsorption portion forming area. Arrangements arbitrarily set, such as an arrangement in which planar partition portions 15 intersect each other according to the outer shape of each workpiece having a size smaller than 13, may be adopted.

図示した仕切部15の幅は、図示するための便宜上の寸法であり、対応するワークの外周縁部とマスク19の端部とを突合せた状態で載置できるようにしてあれば、内外方向の幅寸法は適宜変更してもよい。又、仕切部15の幅寸法は必ずしも数mmに限定されるものではなく、ワークの可撓性等に応じて幅寸法を適宜拡縮してもよい。   The width of the partition 15 shown in the figure is a convenient dimension for illustration. If the outer peripheral edge of the corresponding workpiece and the end of the mask 19 can be placed in a state where they face each other, the width of the partition 15 in the inner and outer directions is shown. You may change a width dimension suitably. Moreover, the width dimension of the partition part 15 is not necessarily limited to several mm, and the width dimension may be appropriately enlarged or reduced according to the flexibility of the workpiece.

吸着部形成領域13は、最大サイズのワーク5aの外形よりも小さい形状としてあれば、必ずしも数mm小さい形状に限定されるものではなく、上記最大サイズのワーク5aの可撓性等に応じて大きさや形状を適宜変更してもよい。   The suction portion forming region 13 is not necessarily limited to a shape that is smaller by several mm as long as it is smaller than the outer shape of the maximum size workpiece 5a, and is larger according to the flexibility of the maximum size workpiece 5a. The sheath shape may be changed as appropriate.

ステージ本体のワーク吸着面となる表面に吸着させたワークの取り外しを容易にするため等、所要の目的のために、ワーク吸着面に多数の細孔が設けてなる形式の吸着ステージであれば、静電吸着ステージや電磁吸着ステージ等、真空吸着ステージ以外の形式の吸着ステージに適用してもよい。この場合は、最大サイズのワーク5aの外形に応じて設定する吸着部形成領域13の内側における該吸着部形成領域13よりも小さいサイズのワーク5bの外形に応じて設ける仕切部15を除く部分に、ワーク吸着部となる静電吸着部や電磁吸着部を設けるようにすればよい。   For the required purpose, such as facilitating the removal of the workpiece adsorbed on the surface that becomes the workpiece adsorption surface of the stage body, if it is an adsorption stage of a type in which a large number of pores are provided on the workpiece adsorption surface, The present invention may be applied to a suction stage other than a vacuum suction stage, such as an electrostatic suction stage or an electromagnetic suction stage. In this case, in a portion excluding the partition portion 15 provided according to the outer shape of the work 5b having a size smaller than the suction portion forming region 13 inside the suction portion forming region 13 set according to the outer shape of the workpiece 5a having the maximum size. In addition, an electrostatic chuck or an electromagnetic chuck may be provided as a workpiece chuck.

印刷装置以外のいかなるウェットプロセスを行う機械、装置の吸着ステージとして適用してもよい。   You may apply as a suction stage of the machine and apparatus which perform any wet processes other than a printing apparatus.

その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々変更を加え得ることは勿論である。   Of course, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

5a,5b ワーク
12 ステージ本体
13 吸着部形成領域
15 仕切部
16 多孔質プレート(ワーク吸着部)
17,17a 流路
20 ステージ本体
21 細孔(ワーク吸着部)
5a, 5b Workpiece 12 Stage body 13 Suction part forming region 15 Partition part 16 Porous plate (work suction part)
17, 17a Flow path 20 Stage body 21 Fine pore (work adsorption part)

Claims (4)

ステージ本体の表面における吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの最大のワークの外形よりも所要寸法小さくなるよう設定した吸着部形成領域の内側に、上記吸着対象となる複数の大きさの異なるワークのうちの上記吸着部形成領域よりも小さいサイズのワークの外形に沿う仕切部を設け、且つ該吸着部形成領域の内側における上記仕切部を除く部分に、ワーク吸着部を設けてなる構成を有することを特徴とする吸着ステージ。   A plurality of sizes to be suctioned inside a suction portion forming area set to be smaller than the outer dimension of the largest workpiece among the plurality of workpieces of different sizes on the surface of the stage body Of the different workpieces are provided with a partition portion that follows the outer shape of the workpiece having a size smaller than that of the suction portion forming region, and a workpiece suction portion is provided in a portion excluding the partition portion inside the suction portion forming region. An adsorption stage having a configuration. ワーク吸着部を、ステージ本体の表面部に設けた多孔質プレートとし、且つ仕切部で仕切られた各多孔質プレートに連通する流路を設けるようにした請求項1記載の吸着ステージ。   The suction stage according to claim 1, wherein the workpiece suction portion is a porous plate provided on a surface portion of the stage main body, and a flow path communicating with each porous plate partitioned by the partition portion is provided. ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔からなる構成とし、且つ上記各細孔に連通する流路を設けるようにした請求項1記載の吸着ステージ。   The suction stage according to claim 1, wherein the workpiece suction portion is configured by a plurality of pores opening on the surface of the stage body, and a flow path communicating with each of the pores is provided. ワーク吸着部を、ステージ本体の表面に開口する多数の細孔を備えた静電吸着部又は電磁吸着部とするようにした請求項1記載の吸着ステージ。   2. The adsorption stage according to claim 1, wherein the workpiece adsorption unit is an electrostatic adsorption unit or an electromagnetic adsorption unit having a large number of pores opened on the surface of the stage body.
JP2009114850A 2009-05-11 2009-05-11 Suction stage Pending JP2010260318A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009114850A JP2010260318A (en) 2009-05-11 2009-05-11 Suction stage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009114850A JP2010260318A (en) 2009-05-11 2009-05-11 Suction stage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010260318A true JP2010260318A (en) 2010-11-18

Family

ID=43358809

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009114850A Pending JP2010260318A (en) 2009-05-11 2009-05-11 Suction stage

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010260318A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103342042A (en) * 2013-07-12 2013-10-09 新乡市天光科技有限公司 Display screen silk-screen printing positioning clamp
JP2014241357A (en) * 2013-06-12 2014-12-25 レーザーテック株式会社 Substrate holding device, optical device, and substrate holding method
JP2015147353A (en) * 2014-02-06 2015-08-20 ニューロング精密工業株式会社 Porous table, table unit, screen printing device, and manufacturing method of porous table
KR20200042692A (en) * 2018-10-16 2020-04-24 (주)에프피에이 A suction jig for roll lamination using psc

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008227125A (en) * 2007-03-13 2008-09-25 Kyocera Corp Vacuum suction device and suction method using the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008227125A (en) * 2007-03-13 2008-09-25 Kyocera Corp Vacuum suction device and suction method using the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014241357A (en) * 2013-06-12 2014-12-25 レーザーテック株式会社 Substrate holding device, optical device, and substrate holding method
CN103342042A (en) * 2013-07-12 2013-10-09 新乡市天光科技有限公司 Display screen silk-screen printing positioning clamp
CN103342042B (en) * 2013-07-12 2015-02-04 新乡市天光科技有限公司 Display screen silk-screen printing positioning clamp
JP2015147353A (en) * 2014-02-06 2015-08-20 ニューロング精密工業株式会社 Porous table, table unit, screen printing device, and manufacturing method of porous table
KR20200042692A (en) * 2018-10-16 2020-04-24 (주)에프피에이 A suction jig for roll lamination using psc
KR102152269B1 (en) 2018-10-16 2020-09-04 (주)에프피에이 A suction jig for roll lamination using psc

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI449120B (en) Adsorption platform
KR101313016B1 (en) Suction table
JP2010260318A (en) Suction stage
JP6706182B2 (en) Substrate holding device
JP2015109416A (en) Chuck device
JP6765751B2 (en) Work piece holding mechanism and processing equipment
JP6154173B2 (en) Vacuum suction device and suction plate
JP6627243B2 (en) Substrate processing method and substrate film forming method
JP2016179669A (en) Substrate support table, substrate support device, and cream solder printing equipment
JP2018079545A (en) Loading table having adsorption function
JP5344690B2 (en) Vacuum dryer
KR20180002959A (en) Work table for laser cutting process
JP5932457B2 (en) Chuck table and processing apparatus including the chuck table
JP6199578B2 (en) Channel member, vacuum suction device and cooling device using the same, and method for manufacturing channel member
JP6664529B2 (en) Vacuum chuck stage and method of manufacturing semiconductor device
JP4157133B2 (en) Screen printing machine
JP4457351B2 (en) Substrate holding device
JP2002144270A (en) Suction jig and carrying method of carried article
JP2016039296A (en) Base board sucking-fixing base and base board sucking-fixing device
JP2006269989A (en) Substrate holder
JP2017045816A (en) Vacuum chuck stage
JP2010232359A (en) Sucker
JP2008270579A (en) Sucking hand for carrying thin wafer
JP2009119590A (en) Holder for thin machining
JP4985667B2 (en) Substrate holding device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20120227

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130416

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130827