JP2010254728A - ガス化設備の原料投入装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】切出装置2とガス化炉6とをつなぐ原料供給管3途中に、蒸気又は不活性ガスによって原料をガス化炉6側へ押し込むように搬送する押込エジェクタ20を配設すると共に、該押込エジェクタ20の入側に、前記ガス化炉6からガス化ガスが逆流した際に該ガス化ガスを蒸気又は不活性ガスによるエジェクタ効果により吸引してガス化炉6へ戻す吸引エジェクタ30を配設する。
【選択図】図1
Description
前記切出装置とガス化炉とをつなぐ原料供給管途中に、蒸気又は不活性ガスによって原料をガス化炉側へ押し込むように搬送する押込エジェクタを配設すると共に、該押込エジェクタの入側に、前記ガス化炉からガス化ガスが逆流した際に該ガス化ガスを蒸気又は不活性ガスによるエジェクタ効果により吸引してガス化炉へ戻す吸引エジェクタを配設したことを特徴とするガス化設備の原料投入装置にかかるものである。
2 切出装置
3 原料供給管
5 流動層
6 ガス化炉
20 押込エジェクタ
21 原料供給室
22 押込エジェクタ本体
23 押込ガス供給管
24 ノズル孔
30 吸引エジェクタ
31 吸引ガス供給管
32 導入口
33 ガス戻し管
34 導出口
35 吸引口
36 吸引エジェクタケーシング
37 導入ノズル
38 導出ノズル
39 吸引エジェクタ本体
40 吸引ノズル
41 吸引室
Claims (3)
- 原料が貯蔵された原料貯蔵装置と、該原料貯蔵装置に貯蔵された原料を切り出す切出装置と、該切出装置から原料が原料供給管を介して流動媒体の流動層に投入され且つ該原料のガス化を行いガス化ガスを生成するガス化炉とを備えたガス化設備の原料投入装置であって、
前記切出装置とガス化炉とをつなぐ原料供給管途中に、蒸気又は不活性ガスによって原料をガス化炉側へ押し込むように搬送する押込エジェクタを配設すると共に、該押込エジェクタの入側に、前記ガス化炉からガス化ガスが逆流した際に該ガス化ガスを蒸気又は不活性ガスによるエジェクタ効果により吸引してガス化炉へ戻す吸引エジェクタを配設したことを特徴とするガス化設備の原料投入装置。 - 前記原料供給管の途中に、上方より原料が供給される原料供給室を形成すると共に、該原料供給室の外周を覆うように押込エジェクタ本体を設け、該押込エジェクタ本体に、蒸気又は不活性ガスを供給する押込ガス供給管を接続し、前記原料供給室の押込エジェクタ本体で覆われた外周部所要箇所に、押込ガス供給管から押込エジェクタ本体内へ供給された蒸気又は不活性ガスを原料供給室内部へ斜め下向きに噴射するためのノズル孔を穿設することにより、前記押込エジェクタを構成した請求項1記載のガス化設備の原料投入装置。
- 蒸気又は不活性ガスの吸引ガス供給管が接続される導入口と、前記ガス化炉へ通じるガス戻し管が接続される導出口とを同一軸線方向へ延びるよう配設し且つ該導入口及び導出口の軸線と直交する方向へ延びるよう開口する吸引口を配設して吸引エジェクタケーシングを形成し、該吸引エジェクタケーシングの内部に導入ノズルと導出ノズルとを、前記導入口及び導出口の軸線方向へ所要間隔をあけて取り付けることにより吸引エジェクタ本体を構成すると共に、前記押込エジェクタの入側に、吸引ノズルが突設された吸引室を形成し、該吸引室から突設された吸引ノズルに前記吸引エジェクタ本体の吸引口を接続することにより、前記吸引エジェクタを構成した請求項1又は2記載のガス化設備の原料投入装置。
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