JP2010226090A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010226090A5
JP2010226090A5 JP2010012582A JP2010012582A JP2010226090A5 JP 2010226090 A5 JP2010226090 A5 JP 2010226090A5 JP 2010012582 A JP2010012582 A JP 2010012582A JP 2010012582 A JP2010012582 A JP 2010012582A JP 2010226090 A5 JP2010226090 A5 JP 2010226090A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
photoelectric conversion
conversion device
plane
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010012582A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5637693B2 (ja
JP2010226090A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010012582A priority Critical patent/JP5637693B2/ja
Priority claimed from JP2010012582A external-priority patent/JP5637693B2/ja
Priority to KR1020100014571A priority patent/KR101194653B1/ko
Priority to US12/709,840 priority patent/US8330828B2/en
Publication of JP2010226090A publication Critical patent/JP2010226090A/ja
Publication of JP2010226090A5 publication Critical patent/JP2010226090A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5637693B2 publication Critical patent/JP5637693B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の1つの側面は、光電変換装置に係り、該光電変換装置は、受光面を有する光電変換部と、前記光電変換部へ光を集める集光構造と、を備え、前記集光構造は、第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜の屈折率より高い屈折率を有する第2の絶縁膜とを含み、前記第2の絶縁膜は、前記受光面に平行な第1の平面に沿って配され、前記第1の絶縁膜は、前記第2の絶縁膜の上面を含む第2の平面と前記第2の絶縁膜の下面を含む第3の平面との間に配され、前記第2の絶縁膜の密度が、前記第1の平面における中心領域において前記第1の平面における周辺領域よりも大きく、前記第1の平面における前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜とのレイアウトパターンは、可視光領域の最大波長以下の寸法を有する部分を含む。

Claims (14)

  1. 受光面を有する光電変換部と、
    前記光電変換部へ光を集める集光構造と、を備え、
    前記集光構造第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜の屈折率より高い屈折率を有する第2の絶縁膜とを含み、前記第2の絶縁膜は、前記受光面に平行な第1の平面に沿って配され、前記第1の絶縁膜は、前記第2の絶縁膜の上面を含む第2の平面と前記第2の絶縁膜の下面を含む第3の平面との間に配され、前記第2の絶縁膜の密度が、前記第1の平面における中心領域において前記第1の平面における周辺領域よりも大きく、
    前記第1の平面における前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜とのレイアウトパターンは、可視光領域の最大波長以下の寸法を有する部分を含む、
    ことを特徴とする光電変換装置。
  2. 前記第2の絶縁膜は、開口を有するとともに前記平面に沿って延びており、
    前記第1の絶縁膜は、前記開口を満たしている
    ことを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  3. 前記集光構造では、さらに、前記第1の絶縁膜が前記第2の絶縁膜の前記上面を覆うように配され、前記第2の絶縁膜の屈折率より低い屈折率を有する第3の絶縁膜が前記第2の絶縁膜の前記下面を覆うように配されている
    ことを特徴とする請求項に記載の光電変換装置。
  4. 前記レイアウトパターンでは、複数の円又は複数の多角形が前記中心領域の中心に対してセンタリングされるように前記第1の平面に沿って配されている
    ことを特徴とした請求項1に記載の光電変換装置。
  5. 前記レイアウトパターンでは、複数のホール又はドットが前記中心領域の中心に関して対称に分布するように前記第1の平面に沿って配されている
    ことを特徴とした請求項1に記載の光電変換装置。
  6. 前記集光構造の上方に配され、前記光電変換部に対する開口領域を規定している第1の配線層と、
    前記集光構造の下に配され、前記光電変換部に対する前記開口領域を規定している第2の配線層と、
    をさらに備え
    ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
  7. 前記中心領域および前記周辺領域は、前記開口領域の中に配されている
    ことを特徴とする請求項6に記載の光電変換装置。
  8. 前記第2の配線層は、銅を主成分とする材料で形成されており、
    前記第2の絶縁膜は、前記銅を主成分とする材料の拡散を抑制するように、前記第2の配線層を覆っている
    ことを特徴とする請求項に記載の光電変換装置。
  9. 前記第2の配線層は、アルミニウムを主成分とする材料で形成されている
    ことを特徴とする請求項に記載の光電変換装置。
  10. 前記第2の絶縁膜は、前記第2の配線層の上方で研磨を停止するように、前記第2の配線層の上方に配されている
    ことを特徴とする請求項8に記載の光電変換装置。
  11. 前記第1の絶縁膜は、シリコン酸化物で形成されており、
    前記第2の絶縁膜は、炭素、酸素、窒素のいずれかを含むシリコン系化合物で形成されている
    ことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の光電変換装置。
  12. 前記開口領域の中心は、前記受光面の中心を通る法線からオフセットしていて、
    前記中心領域の中心は、前記受光面の中心と前記開口領域の中心とを通る直線が通る領域である
    ことを特徴とする請求項7に記載の光電変換装置。
  13. 受光面を有する光電変換部と、
    前記光電変換部へ光を集める集光構造と、を備え、
    前記集光構造は、第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜の屈折率より高い屈折率を有する第2の絶縁膜とを含み、前記第2の絶縁膜は、前記受光面に平行な第1の平面に沿って配され、前記第1の絶縁膜は、前記第2の絶縁膜の上面を含む第2の平面と前記第2の絶縁膜の下面を含む第3の平面との間に配され、前記第2の絶縁膜の密度が、前記第1の平面における中心領域において前記第1の平面における周辺領域よりも大きく、
    前記第1の平面における前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜とのレイアウトパターンは、750nm以下の寸法を有する部分を含む、
    ことを特徴とする光電変換装置。
  14. 請求項1から13のいずれか1項に記載の光電変換装置と、
    前記光電変換装置の撮像面へ像を形成する光学系と、
    前記光電変換装置から出力された信号を処理して画像データを生成する信号処理部と、
    を備えたことを特徴とする撮像システム。
JP2010012582A 2009-02-24 2010-01-22 光電変換装置、及び撮像システム Active JP5637693B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010012582A JP5637693B2 (ja) 2009-02-24 2010-01-22 光電変換装置、及び撮像システム
KR1020100014571A KR101194653B1 (ko) 2009-02-24 2010-02-18 광전변환장치 및 촬상 시스템
US12/709,840 US8330828B2 (en) 2009-02-24 2010-02-22 Device and imaging system

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009041298 2009-02-24
JP2009041298 2009-02-24
JP2010012582A JP5637693B2 (ja) 2009-02-24 2010-01-22 光電変換装置、及び撮像システム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010226090A JP2010226090A (ja) 2010-10-07
JP2010226090A5 true JP2010226090A5 (ja) 2013-03-07
JP5637693B2 JP5637693B2 (ja) 2014-12-10

Family

ID=42630641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010012582A Active JP5637693B2 (ja) 2009-02-24 2010-01-22 光電変換装置、及び撮像システム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8330828B2 (ja)
JP (1) JP5637693B2 (ja)
KR (1) KR101194653B1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5314914B2 (ja) * 2008-04-04 2013-10-16 キヤノン株式会社 光電変換装置、撮像システム、設計方法、及び光電変換装置の製造方法
JP5663925B2 (ja) * 2010-03-31 2015-02-04 ソニー株式会社 固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器
JP2012015424A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Panasonic Corp 固体撮像装置
WO2013008395A1 (ja) * 2011-07-08 2013-01-17 パナソニック株式会社 固体撮像素子および撮像装置
KR20150089650A (ko) * 2014-01-28 2015-08-05 에스케이하이닉스 주식회사 이미지 센서 및 그 제조 방법
TWI667767B (zh) 2014-03-31 2019-08-01 菱生精密工業股份有限公司 Package structure of integrated optical module
KR102159166B1 (ko) * 2014-05-09 2020-09-23 삼성전자주식회사 색분리 소자 및 상기 색분리 소자를 포함하는 이미지 센서
FR3044466A1 (fr) * 2015-12-01 2017-06-02 Commissariat Energie Atomique Capteur d'images muni d'un dispositif de tri spectral
CN106842391A (zh) * 2015-12-03 2017-06-13 扬升照明股份有限公司 光学扩散板以及光源模组
US10983318B2 (en) 2018-08-02 2021-04-20 Visera Technologies Company Limited Optical elements
GB2576212B (en) 2018-08-10 2021-12-29 X Fab Semiconductor Foundries Gmbh Improvements in lens layers for semiconductor devices
FR3125920B1 (fr) * 2021-07-27 2023-11-24 St Microelectronics Grenoble 2 Capteur optique

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005210013A (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子
JP2005311015A (ja) 2004-04-21 2005-11-04 Sony Corp 固体撮像素子およびその製造方法
JP4130815B2 (ja) 2004-07-16 2008-08-06 松下電器産業株式会社 半導体受光素子及びその製造方法
KR20070057934A (ko) * 2004-09-17 2007-06-07 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 색차를 해결한 이미지 입력장치
JP4711657B2 (ja) * 2004-09-29 2011-06-29 パナソニック株式会社 固体撮像装置
US7420610B2 (en) * 2004-12-15 2008-09-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solid-state imaging element, solid-state imaging device, and method for fabricating the same
JP4456040B2 (ja) * 2005-06-17 2010-04-28 パナソニック株式会社 固体撮像素子
EP2016620A2 (en) * 2006-04-17 2009-01-21 Omnivision Cdm Optics, Inc. Arrayed imaging systems and associated methods
JP2008010773A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像素子およびその製造方法
JP5087888B2 (ja) * 2006-08-28 2012-12-05 ソニー株式会社 固体撮像装置及びその製造方法
TW200913238A (en) * 2007-06-04 2009-03-16 Sony Corp Optical member, solid state imaging apparatus, and manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010226090A5 (ja)
KR102633229B1 (ko) 촬상소자 및 촬상소자의 제조 방법, 촬상장치, 및 촬상장치의 제조 방법
JP5428509B2 (ja) 2次元固体撮像装置、及び、2次元固体撮像装置における偏光光データ処理方法
JP6166640B2 (ja) 固体撮像装置、その製造方法及びカメラ
TWI567961B (zh) 影像感測器
JP2011216865A5 (ja)
JP2007013061A5 (ja)
JP6833597B2 (ja) 固体撮像装置
JP2012182430A5 (ja)
JP2011233862A5 (ja)
US11125609B2 (en) Photodetector and electronic apparatus
JP5637693B2 (ja) 光電変換装置、及び撮像システム
WO2013080872A1 (ja) 固体撮像装置および電子機器
JP2014096540A5 (ja)
JP2009194340A5 (ja)
JP2010226143A5 (ja)
JP6095268B2 (ja) 固体撮像装置、及び撮像システム
JP2018182022A5 (ja)
JP2022051782A (ja) 光電変換装置、および、それを含む機器
JP6175964B2 (ja) 撮像素子、撮像装置、並びに、製造装置および方法
JP6651315B2 (ja) イメージセンサ及びこれを含む電子装置
JPWO2018030213A1 (ja) 固体撮像素子、固体撮像素子の瞳補正方法、撮像装置及び情報処理装置
JP2016025334A (ja) 固体撮像装置およびカメラモジュール
US20100265375A1 (en) Solid-state imaging device and electronic apparatus
JP6296788B2 (ja) 撮像装置および撮像システム