JP2010225246A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010225246A JP2010225246A JP2009072889A JP2009072889A JP2010225246A JP 2010225246 A JP2010225246 A JP 2010225246A JP 2009072889 A JP2009072889 A JP 2009072889A JP 2009072889 A JP2009072889 A JP 2009072889A JP 2010225246 A JP2010225246 A JP 2010225246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- burn
- reference voltage
- external power
- power supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
【課題】 搭載された半導体チップごとに適切なバーンイン加速試験を同時に実行できる半導体集積回路装置を実現する。
【解決手段】 本発明の半導体集積回路装置は、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧vREFDCとして生成する定電圧生成回路11と、あらかじめ定められたトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇するバーンイン基準電圧vTESTをテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成回路12と、基準電圧vREFDCとバーンイン基準電圧vTESTを比較し高い方の電圧を出力する電圧合成回路13を有する。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の半導体集積回路装置は、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧vREFDCとして生成する定電圧生成回路11と、あらかじめ定められたトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇するバーンイン基準電圧vTESTをテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成回路12と、基準電圧vREFDCとバーンイン基準電圧vTESTを比較し高い方の電圧を出力する電圧合成回路13を有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体集積回路装置に係り、特に、MCP構成を有する半導体集積回路装置に関する。
半導体集積回路装置では、信頼性テストの1つとして電源に高電圧をかけるバーンイン(Burn-In)加速試験が行われている。このために、内部電源電圧の参照電圧発生回路は、ある特定の外部電源電圧(バーンイン開始電圧)以上で外部電源電圧に依存して上昇する電圧を生成する必要がある。このような目的を達成する1つの手段として、外部電源電圧に依存しない定電圧を生成する基準電圧生成回路と電源電圧に比例して上昇するバーンイン電圧を生成するバーンイン電圧生成回路とを備え、これらの出力を合成して、バーンイン開始電圧以下では定電圧を出力し、バーンイン開始電圧以上ではバーンイン電圧を出力するように構成する方法(例えば、「特許文献1」を参照。)が考えられる。
一方、近年、半導体製造プロセスが異なる複数の半導体チップ、例えば、大規模なSOC(System On Chip)チップと大容量のメモリチップなどを1つのパッケージに封入したMCP(Multi Chip Package)構成の半導体集積回路装置が開発されている。
しかしながら、MCP構成の従来の半導体集積回路装置では、半導体製造プロセスが異なる半導体チップごとにバーイン加速試験での外部印加電圧が異なるため、パッケージング後のバーイン加速試験においても、搭載された半導体チップに対して個別にバーイン加速試験を行わなければならなかった。このため、試験時間が長くなるうえに非試験の半導体チップに過剰に熱ストレスがかかってしまうという問題があった。また、一緒に搭載される半導体チップの組み合わせによっては、最大定格以上に外部印加電圧を上げなければならない場合があり、回避策として最大定格の低い半導体チップに合わせてストレス時間を調整する必要があるという問題があった。
搭載された半導体チップごとに適切なバーンイン加速試験を同時に実行できる半導体集積回路装置を実現する。
本発明の一態様によれば、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧として生成する定電圧生成手段と、あらかじめ定められたトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇するバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成手段と、前記基準電圧と前記バーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する電圧合成手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置が提供される。
また、本発明の別の一態様によれば、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を第1の基準電圧として生成する第1の定電圧生成手段と、あらかじめ定められた第1のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇する第1のバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成する第1のバーンイン電圧生成手段と、前記第1の基準電圧と前記第1のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する第1の電圧合成手段と、前記第1の定電圧生成手段、前記第1のバーンイン電圧生成手段、および前記第1の電圧合成手段を備えた第1の半導体チップと、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を第2の基準電圧として生成する第2の定電圧生成手段と、あらかじめ定められた第2のトリミング値に基づいて、テスト動作時に前記第1のバーンイン基準電圧とは異なる外部電源電圧依存性で上昇する第2のバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成する第2のバーンイン電圧生成手段と、前記第2の基準電圧と前記第2のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する第2の電圧合成手段と、前記第2の定電圧生成手段、前記第2のバーンイン電圧生成手段、および前記第2の電圧合成手段を備えた第2の半導体チップを有することを特徴とする半導体集積回路装置が提供される。
さらに、本発明の別の一態様によれば、通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧として生成する定電圧生成手段と、あらかじめ定められた第1のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇する第1のバーンイン基準電圧を第1のテストモード信号に応じて生成し、あらかじめ定められた第2のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に対する依存性が前記第1のバーンイン基準電圧と異なる第2のバーンイン基準電圧を第2のテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成手段と、前記第1のテストモード信号が有効な場合には、前記基準電圧と前記第1のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力し、前記第2のテストモード信号が有効な場合には、前記基準電圧と前記第2のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する電圧合成手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置が提供される。
本発明によれば、パッケージング後のバーンイン加速試験で試験時間を短縮し過剰な熱ストレス時間を削減できるので、半導体集積回路装置の高信頼性を維持しつつ製造コストの低減を実現することができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明の実施例に係る半導体集積回路装置を示す回路ブロック図である。ここでは、主に、内部電源電圧を生成するための参照電圧発生回路にかかわる部分を示した。
本発明の実施例に係る半導体集積回路装置は、定電圧生成回路11、バーンイン電圧生成回路12、電圧合成回路13、および2つのトリミング回路14a、14bを備えている。
トリミング回路14a、14bはバーンイン電圧生成回路12内に形成されており、トリミング回路14aの出力はトリミング回路14bの入力に供給され、トリミング回路14bの出力はバーンイン電圧生成回路12の出力であるバーンイン基準電圧(vTEST)として電圧合成回路13の第1の入力に供給され、バーンイン電圧生成回路12の入力には制御回路(図示していない。)からのテストモード信号が入力され、電圧合成回路13の第2の入力には定電圧生成回路11の出力である基準電圧(vREFDC)が入力され、電圧合成回路13の出力は参照電圧(vOUT)として内部電源電圧を生成する回路(図示していない。)へ供給されている。
定電圧生成回路11は、半導体集積回路装置の外部から印加される外部電源電圧に依存しない定電圧(内部電源電圧。例えば、1.0V。)を生成し基準電圧として出力する。内部電源電圧はチップの製造に使用されるプロセス技術で規定される素子耐圧等を考慮して決められ、仕様で定められた外部電源電圧範囲にわたって通常動作時の正常動作を保証するよう設計されている。
図2は、本発明の実施例に係る半導体集積回路装置における定電圧生成回路11の動作を示す特性図である。図2の横軸は外部から印加される外部電源電圧(VEXT)を示し、縦軸は定電圧生成回路11の出力である基準電圧(vREFDC)を示している。
図2に示したように、VEXTがA点より高くなっても、vREFDCはVEXTには依存せずに一定の電圧を維持するよう設計されている。
バーンイン電圧生成回路12は、テスト動作時にテストモード信号が入力されると、VEXTに依存して電圧が上昇するバーンイン基準電圧(vTEST)を生成する。vTESTのVEXTに対する依存性は、あらかじめチップ内に記憶されているトリミング値に基づいて選択され、トリミング回路14a、14bでvTESTが生成される。
図3は、本発明の実施例に係る半導体集積回路装置におけるトリミング回路14a、14bの動作を示す特性図である。
図3(a)はトリミング回路14aの動作特性を示している。図3(a)の横軸はVEXTを示し、縦軸はトリミング回路14aの出力(vTEST_1)を示している。ここでは、一例として、11個のトリミング値(トリミングA_0〜トリミングA_10)に対するグラフを示した。vTEST_1は、トリミング値に対応してvTEST_1が上昇し始めるVEXTの値bが変化し、一方で、vTEST_1の上昇率つまりVEXTに対する傾きmは変化しない。
図3(a)はトリミング回路14aの動作特性を示している。図3(a)の横軸はVEXTを示し、縦軸はトリミング回路14aの出力(vTEST_1)を示している。ここでは、一例として、11個のトリミング値(トリミングA_0〜トリミングA_10)に対するグラフを示した。vTEST_1は、トリミング値に対応してvTEST_1が上昇し始めるVEXTの値bが変化し、一方で、vTEST_1の上昇率つまりVEXTに対する傾きmは変化しない。
図3(b)はトリミング回路14bの動作特性を示している。図3(b)の横軸はVEXTを示し、縦軸はトリミング回路14bの出力(vTEST_2)を示している。ここでは、一例として、11個のトリミング値(トリミングB_0〜トリミングB_10)に対するグラフを示した。vTEST_2は、トリミング値に対応してvTEST_2の上昇率つまりVEXTに対する傾きmが変化し、一方で、vTEST_2が上昇し始めるVEXTの値bは変化しない。
図4は、本発明の実施例に係る半導体集積回路装置におけるバーンイン電圧生成回路12の動作を示す特性図である。横軸はVEXTを示し、縦軸はバーンイン基準電圧(vTEST)を示している。
図4に示したように、vTESTは、トリミング回路14aのトリミング値に基づいてVEXT=bで上昇し始め、トリミング回路14bのトリミング値に基づいてVEXTに対して傾きmで上昇する動作特性、すなわち、
vTEST = m(VEXT−b)
という動作特性を示す。bおよびmは、トリミング回路14a、14bにそれぞれ設けられた抵抗分割の制御(トリミング)により変化させることができる。
vTEST = m(VEXT−b)
という動作特性を示す。bおよびmは、トリミング回路14a、14bにそれぞれ設けられた抵抗分割の制御(トリミング)により変化させることができる。
電圧合成回路13は、定電圧生成回路11からの基準電圧(vREFDC)とバーンイン電圧生成回路12からのバーンイン基準電圧(vTEST)を合成して参照電圧(vOUT)として出力する。すなわち、vREFDCとvTESTを比較し、高い方の電圧をvOUTとして出力する。
図5は、本発明の実施例に係る半導体集積回路装置の動作を示す特性図である。図5(a)はテストモード信号が無効の場合(通常動作時)を示し、図5(b)はテストモード信号が有効の場合(テスト動作時)を示している。図5(a)、(b)ともに、横軸はVEXTを示し、縦軸はvOUTを示している。
テストモード信号が無効である場合にはvTESTは出力されないので、図5(a)に示したように、電圧合成回路13はvREFDCをそのままvOUTとして出力する。すなわち、vOUTは、VEXTがA点以上でVEXTに依存しない一定の電圧を出力する。
一方、テストモード信号が有効である場合にはvTESTが出力されるので、図5(b)に示したように、電圧合成回路13は、VEXTがB点以下ではvREFDCをvOUTとして出力し、VEXTがB点以上ではvTESTをvOUTとして出力する。
内部電源電圧の折れ曲がり点(B点)の位置およびB点以上での傾きmを決める方法としては、トリミング回路14a、14bを使用し各トリミング組合せ段数分のvREFDCを取得し、狙い目に近い折れ曲がり点および傾きのトリミング値を採用しチップ内に記憶する。
B点の位置とB点以上でのVEXTに対する傾きmはチップ内にあらかじめ記憶されるトリミング値によって任意に設定できるので、テスト動作時の任意のVEXTに対する所望のvTESTを容易に設定することができる。
したがって、例えば、SOCチップとメモリチップを同じパッケージに封入したMCPでは、それぞれの半導体チップに適したトリミング値を設定しておくことで同一の外部電源電圧に対してそれぞれ最適なバーンイン基準電圧(vTEST)を生成することができ、両方の半導体チップに対して最適なバーンイン加速試験を同時に実行することができる。
上記実施例によれば、異なるプロセス技術で製造された複数の半導体チップからなるMCPにおいて、パッケージング後のバーンイン加速試験で試験時間を短縮し過剰な熱ストレス時間を削減できるので、半導体集積回路装置の高信頼性を維持しつつ製造コストの低減を実現することができる。
上述の実施例では、テスト動作時に生成されるバーンイン基準電圧(vTEST)は1つのテストモード信号に応じて生成されるとしたが、本発明はこれに限られるものではなく、例えば、複数のテストモード信号に対応してそれぞれ異なる動作特性を持つvTESTを生成できるよう構成し、テスト環境に合わせて選択するよう構成することもできる。
このような構成を取ることにより、テスト動作時における参照電圧(vOUT)の折れ曲がり点(図5(b)のB点。)の位置およびB点以上でのVEXTに対する傾きmをテストモード信号により任意に選択することができるので、例えば、バーンイン加速試験においてウェハー試験とパッケージ試験とで外部から印加される外部電源電圧が異なったとしても、半導体チップ内部には同等の電圧を与えることが可能となり、高い信頼性を有する半導体集積回路装置を実現することができる。
11 定電圧生成回路
12 バーンイン電圧生成回路
13 電圧合成回路
14a、14b トリミング回路
vREFDC 基準電圧
vTEST バーンイン基準電圧
vOUT 参照電圧
12 バーンイン電圧生成回路
13 電圧合成回路
14a、14b トリミング回路
vREFDC 基準電圧
vTEST バーンイン基準電圧
vOUT 参照電圧
Claims (5)
- 通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧として生成する定電圧生成手段と、
あらかじめ定められたトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇するバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成手段と、
前記基準電圧と前記バーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する電圧合成手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記バーンイン電圧生成手段は、
前記バーンイン基準電圧が上昇し始める外部電源電圧を前記トリミング値に基づいて規定する第1のトリミング手段と、
前記バーンイン基準電圧の外部電源電圧に対する傾きを前記トリミング値に基づいて規定する第2のトリミング手段を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。 - 通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を第1の基準電圧として生成する第1の定電圧生成手段と、
あらかじめ定められた第1のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇する第1のバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成する第1のバーンイン電圧生成手段と、
前記第1の基準電圧と前記第1のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する第1の電圧合成手段と、
前記第1の定電圧生成手段、前記第1のバーンイン電圧生成手段、および前記第1の電圧合成手段を備えた第1の半導体チップと、
通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を第2の基準電圧として生成する第2の定電圧生成手段と、
あらかじめ定められた第2のトリミング値に基づいて、テスト動作時に前記第1のバーンイン基準電圧とは異なる外部電源電圧依存性で上昇する第2のバーンイン基準電圧をテストモード信号に応じて生成する第2のバーンイン電圧生成手段と、
前記第2の基準電圧と前記第2のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する第2の電圧合成手段と、
前記第2の定電圧生成手段、前記第2のバーンイン電圧生成手段、および前記第2の電圧合成手段を備えた第2の半導体チップを有することを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記第1のバーンイン電圧生成手段は、
前記第1のバーンイン基準電圧が上昇し始める外部電源電圧を前記第1のトリミング値に基づいて規定する第1のトリミング手段と、
前記第1のバーンイン基準電圧の外部電源電圧に対する傾きを前記第1のトリミング値に基づいて規定する第2のトリミング手段を有し、
前記第2のバーンイン電圧生成手段は、
前記第2のバーンイン基準電圧が上昇し始める外部電源電圧を前記第2のトリミング値に基づいて規定する第3のトリミング手段と、
前記第2のバーンイン基準電圧の外部電源電圧に対する傾きを前記第2のトリミング値に基づいて規定する第4のトリミング手段を有することを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路装置。 - 通常動作時に正常動作を保証する外部電源電圧範囲において、所望の定電圧を基準電圧として生成する定電圧生成手段と、
あらかじめ定められた第1のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に依存して上昇する第1のバーンイン基準電圧を第1のテストモード信号に応じて生成し、あらかじめ定められた第2のトリミング値に基づいて、テスト動作時に外部電源電圧に対する依存性が前記第1のバーンイン基準電圧と異なる第2のバーンイン基準電圧を第2のテストモード信号に応じて生成するバーンイン電圧生成手段と、
前記第1のテストモード信号が有効な場合には、前記基準電圧と前記第1のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力し、前記第2のテストモード信号が有効な場合には、前記基準電圧と前記第2のバーンイン基準電圧を比較し高い方の電圧を出力する電圧合成手段を有することを特徴とする半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009072889A JP2010225246A (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009072889A JP2010225246A (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010225246A true JP2010225246A (ja) | 2010-10-07 |
Family
ID=43042274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009072889A Pending JP2010225246A (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010225246A (ja) |
-
2009
- 2009-03-24 JP JP2009072889A patent/JP2010225246A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101075478A (zh) | 半导体存储器和刷新周期控制方法 | |
US7701237B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device, method of testing semiconductor integrated circuit device, and probe card used for burn-in stress and D/S tests | |
US11604102B2 (en) | Semiconductor device, temperature sensor and power supply voltage monitor | |
KR20090074548A (ko) | 온도정보 출력회로 및 이를 이용한 멀티칩패키지 | |
CN108431785B (zh) | 存储器控制器 | |
KR101959894B1 (ko) | 반도체 집적회로 및 그의 내부전압 측정방법 | |
JP2009210448A (ja) | 半導体装置 | |
US20140368238A1 (en) | Semiconductor device and semiconductor system including the same | |
CN110890840A (zh) | 半导体电路 | |
JP2010250905A (ja) | 半導体集積回路およびそのテスト方法 | |
US9557788B2 (en) | Semiconductor memory device including array e-fuse | |
JP2010225246A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
US9620177B2 (en) | Internal power supply circuit, semiconductor device, and semiconductor device manufacturing method | |
JP5296136B2 (ja) | 電子機器、その制御方法、及び半導体集積回路 | |
JP2004311595A (ja) | 半導体集積回路及びその製造方法 | |
US8598943B2 (en) | Semiconductor integrated circuit with stable rupture voltage fuse | |
US9470757B2 (en) | Channel control circuit and semiconductor device having the same | |
US20190348086A1 (en) | Semiconductor apparatus | |
JP2007328852A (ja) | 半導体装置 | |
US9373419B2 (en) | Semiconductor memory apparatus and operating method thereof | |
JP2013207184A (ja) | 半導体集積回路装置、半導体集積回路の制御方法、及び制御パラメータの生成方法 | |
JP6942781B2 (ja) | 温度測定方法 | |
JP2013024777A (ja) | 半導体集積回路のテストボード | |
KR20100089547A (ko) | 내부 전압을 발생하는 반도체 장치 및 그 장치를 포함하는 메모리 시스템 장치 | |
JP2010219370A (ja) | 半導体装置および半導体システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111125 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111205 |