JP2010197750A - Exposure device, exposure method, and method for manufacturing display panel substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う露光装置、露光方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus that exposes a light beam to a substrate coated with a photoresist, scans the substrate with the light beam, and draws a pattern on the substrate in the manufacture of a display panel substrate such as a liquid crystal display device. The present invention relates to a method and a manufacturing method of a display panel substrate using them, and in particular, an exposure apparatus that scans a substrate with a light beam by moving a chuck on which the substrate is mounted by a stage, an exposure method, and a display using them. The present invention relates to a method for manufacturing a panel substrate for an automobile.
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のTFT(Thin Film Transistor)基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機EL(Electroluminescence)表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、従来、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙(プロキシミティギャップ)を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがあった。 Manufacturing of TFT (Thin Film Transistor) substrates, color filter substrates, plasma display panel substrates, organic EL (Electroluminescence) display panel substrates, and the like of liquid crystal display devices used as display panels is performed using photolithography using an exposure apparatus. This is performed by forming a pattern on the substrate by a technique. Conventionally, as an exposure apparatus, a projection method in which a mask pattern is projected onto a substrate using a lens or a mirror, and a minute gap (proximity gap) is provided between the mask and the substrate to transfer the mask pattern to the substrate. There was a proximity method to transfer.
近年、フォトレジストが塗布された基板へ光ビームを照射し、光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置が開発されている。光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを直接描画するため、高価なマスクが不要となる。また、描画データ及び走査のプログラムを変更することにより、様々な種類の表示用パネル基板に対応することができる。この様な露光装置として、例えば、特許文献1、特許文献2、及び特許文献3に記載のものがある。
In recent years, an exposure apparatus has been developed that irradiates a substrate coated with a photoresist with a light beam, scans the substrate with the light beam, and draws a pattern on the substrate. Since the substrate is scanned by the light beam and the pattern is directly drawn on the substrate, an expensive mask is not required. Further, by changing the drawing data and the scanning program, various types of display panel substrates can be supported. Examples of such an exposure apparatus include those described in
光ビームによる基板の走査は、基板と光ビームとを相対的に移動して行われるが、精密な光学系を含む光ビーム照射装置を固定し、基板を搭載したチャックをステージにより移動して行うのが一般的である。その際、ステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生して、チャックに搭載された基板の移動経路がずれると、光ビーム照射装置からの光ビームにより描画されるパターンがずれるので、パターンの描画が精度良く行われず、描画品質が低下するという問題があった。 The scanning of the substrate by the light beam is performed by relatively moving the substrate and the light beam, but the light beam irradiation device including a precise optical system is fixed and the chuck on which the substrate is mounted is moved by the stage. It is common. At that time, if a travel error such as rolling or yawing occurs on the stage and the movement path of the substrate mounted on the chuck is shifted, the pattern drawn by the light beam from the light beam irradiation device is shifted. There is a problem that drawing is not performed accurately and drawing quality is deteriorated.
本発明の課題は、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。 An object of the present invention is to prevent a reduction in drawing quality due to a running error of a stage when a chuck carrying a substrate is moved by a stage and the substrate is scanned by a light beam. Another object of the present invention is to manufacture a high-quality display panel substrate.
本発明の露光装置は、フォトレジストが塗布された基板を搭載するチャックと、チャックを移動する第1のステージと、チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、第1のステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージと、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出手段と、第1のステージにより、チャックを走査方向へ移動させながら、検出手段の検出結果に基づき、第2のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動させる制御手段とを備えたものである。 The exposure apparatus of the present invention includes a chuck for mounting a substrate coated with a photoresist, a first stage for moving the chuck, and a light beam irradiation device for irradiating a light beam to the substrate mounted on the chuck, An exposure apparatus that scans a substrate with a light beam from a light beam irradiation apparatus and draws a pattern on the substrate while moving the chuck by a first stage, and moves the light beam irradiation apparatus in a direction orthogonal to the scanning direction. The detection result of the detection means while moving the chuck in the scanning direction by the second stage that moves, the detection means for detecting the displacement in the direction orthogonal to the scanning direction of the substrate mounted on the chuck, and the first stage. And a control means for moving the light beam irradiation device in a direction perpendicular to the scanning direction in accordance with the displacement of the substrate by the second stage. .
また、本発明の露光方法は、フォトレジストが塗布された基板をチャックに搭載し、第1のステージによりチャックを移動しながら、光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光方法であって、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージを設け、第1のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第2のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するものである。 In the exposure method of the present invention, a substrate coated with a photoresist is mounted on a chuck, and the substrate is scanned with a light beam from a light beam irradiation apparatus while the chuck is moved by a first stage. An exposure method for drawing a pattern, in which a second stage for moving a light beam irradiation device in a direction orthogonal to the scanning direction is provided, and the chuck is mounted on the chuck while moving the chuck in the scanning direction by the first stage. A displacement in a direction perpendicular to the scanning direction of the substrate is detected, and based on the detection result, the light beam irradiation device is moved in a direction perpendicular to the scanning direction by the second stage in accordance with the displacement of the substrate.
光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージを設け、第1のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第2のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するので、基板を搭載したチャックを移動する第1のステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。 A second stage for moving the light beam irradiation device in a direction perpendicular to the scanning direction is provided, and the first stage moves the chuck in the scanning direction while moving the chuck in the direction perpendicular to the scanning direction of the substrate mounted on the chuck. Since the displacement is detected and the light beam irradiation device is moved in the direction orthogonal to the scanning direction in accordance with the displacement of the substrate by the second stage based on the detection result, the first stage that moves the chuck on which the substrate is mounted Even if a running error such as rolling or yawing occurs, the pattern is drawn with high accuracy.
さらに、本発明の露光装置は、検出手段が、第1のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けられ、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出回路とを有するものである。また、本発明の露光方法は、第1のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けた画像取得装置により、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得し、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出するものである。基板の走査方向に設けた検出用マークを用いて、画像処理により、基板の走査方向と直交する方向の変位が精度良く検出される。 Furthermore, in the exposure apparatus of the present invention, the detection means is provided above the chuck that is moved in the scanning direction by the first stage, acquires an image of the detection mark provided in the scanning direction of the substrate, and receives an image signal. And a detection circuit that processes the image signal output from the image acquisition device and detects displacement in a direction orthogonal to the scanning direction of the substrate. The exposure method of the present invention acquires an image of a detection mark provided in the scanning direction of the substrate by an image acquisition device provided above the chuck moved in the scanning direction by the first stage, and the image acquisition device. Is used to detect the displacement in the direction orthogonal to the scanning direction of the substrate. A displacement in a direction orthogonal to the scanning direction of the substrate is accurately detected by image processing using the detection marks provided in the scanning direction of the substrate.
さらに、本発明の露光装置は、制御手段が、第2のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動させて、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更するものである。また、本発明の露光方法は、第2のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更するものである。基板全体の走査を行うために、第1のステージが基板を搭載したチャックを走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法が小さくなる。 Further, in the exposure apparatus of the present invention, the control means moves the light beam irradiation apparatus in a direction orthogonal to the scanning direction by the second stage, and changes the scanning area by the light beam from the light beam irradiation apparatus. It is. In the exposure method of the present invention, the light beam irradiation device is moved in the direction orthogonal to the scanning direction by the second stage to change the scanning region by the light beam from the light beam irradiation device. In order to scan the entire substrate, it is not necessary for the first stage to move the chuck on which the substrate is mounted in a direction orthogonal to the scanning direction, and the dimension in the direction orthogonal to the scanning direction of the exposure apparatus is reduced.
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うものである。上記の露光装置又は露光方法を用いることにより、パターンの描画が精度良く行われるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。 The method for producing a display panel substrate according to the present invention involves exposing the substrate using any one of the above exposure apparatuses or exposure methods. By using the above exposure apparatus or exposure method, pattern drawing is performed with high accuracy, and thus a high-quality display panel substrate is manufactured.
本発明の露光装置及び露光方法によれば、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージを設け、第1のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第2のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することにより、基板を搭載したチャックを移動する第1のステージに横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画を精度良く行うことができる。従って、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することができる。 According to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, the second stage for moving the light beam irradiation apparatus in the direction orthogonal to the scanning direction is provided, and the chuck is moved by the first stage while moving the chuck in the scanning direction. By detecting the displacement of the mounted substrate in the direction orthogonal to the scanning direction and moving the light beam irradiation device in the direction orthogonal to the scanning direction according to the displacement of the substrate by the second stage based on the detection result Even if a running error such as rolling or yawing occurs on the first stage that moves the chuck on which the substrate is mounted, the pattern can be drawn with high accuracy. Therefore, when the chuck on which the substrate is mounted is moved by the stage and the substrate is scanned by the light beam, it is possible to prevent the drawing quality from being deteriorated due to the stage running error.
さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、第1のステージにより走査方向へ移動されるチャックの上方に設けた画像取得装置により、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得し、画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出することにより、基板の走査方向に設けた検出用マークを用いて、画像処理により、基板の走査方向と直交する方向の変位を精度良く検出することができる。 Furthermore, according to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, the image of the detection mark provided in the substrate scanning direction is acquired by the image acquisition device provided above the chuck moved in the scanning direction by the first stage. Then, the image signal output from the image acquisition device is processed to detect displacement in the direction orthogonal to the substrate scanning direction, and the image processing is performed using the detection marks provided in the substrate scanning direction. The displacement in the direction orthogonal to the scanning direction can be accurately detected.
さらに、本発明の露光装置及び露光方法によれば、第2のステージにより、光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置からの光ビームによる走査領域を変更することにより、基板全体の走査を行うために、第1のステージが基板を搭載したチャックを走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法を小さくすることができる。 Furthermore, according to the exposure apparatus and the exposure method of the present invention, the scanning region by the light beam from the light beam irradiation apparatus is changed by moving the light beam irradiation apparatus in the direction orthogonal to the scanning direction by the second stage. Thus, in order to scan the entire substrate, it is not necessary for the first stage to move the chuck on which the substrate is mounted in a direction orthogonal to the scanning direction, and the dimension of the exposure apparatus in the direction orthogonal to the scanning direction is reduced. be able to.
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、パターンの描画を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。 According to the method for manufacturing a display panel substrate of the present invention, a pattern can be drawn with high accuracy, and thus a high-quality display panel substrate can be manufactured.
図1は、本発明の一実施の形態による露光装置の概略構成を示す図である。また、図2は本発明の一実施の形態による露光装置の側面図、図3は本発明の一実施の形態による露光装置の正面図である。露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック10、ゲート11、光ビーム照射装置20、リニアスケール31、エンコーダ32、レーザー測長系、レーザー測長系制御装置40、CCDカメラ50、基板変位検出回路51、ステージ駆動回路60,61、及び主制御装置70を含んで構成されている。なお、図2及び図3では、レーザー測長系のレーザー光源41、レーザー測長系制御装置40、基板変位検出回路51、ステージ駆動回路60,61、及び主制御装置70が省略されている。露光装置は、これらの他に、基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
FIG. 1 is a view showing the schematic arrangement of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a side view of the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a front view of the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention. The exposure apparatus includes a
なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。 Note that the XY directions in the embodiments described below are examples, and the X direction and the Y direction may be interchanged.
図1及び図2において、チャック10は、基板1の受け渡しを行う受け渡し位置にある。受け渡し位置において、図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10へ搬入され、また図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10から搬出される。チャック10は、基板1の裏面を真空吸着して支持する。基板1の表面には、フォトレジストが塗布されている。
1 and 2, the
基板1の露光を行う露光位置の上空に、ベース3をまたいでゲート11が設けられている。ゲート11には、複数の光ビーム照射装置20が搭載されている。なお、本実施の形態は、8つの光ビーム照射装置20を用いた露光装置の例を示しているが、光ビーム照射装置の数はこれに限らず、7つ以下又は9つ以上の光ビーム照射装置を用いてもよい。
A
図4は、光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。光ビーム照射装置20は、光ファイバー22、レンズ23、ミラー24、DMD(Digital Micromirror Device)25、投影レンズ26、及びDMD駆動回路27を含んで構成されている。光ファイバー22は、レーザー光源ユニット21から発生された紫外光の光ビームを、光ビーム照射装置20内へ導入する。光ファイバー22から射出された光ビームは、レンズ23及びミラー24を介して、DMD25へ照射される。DMD25は、光ビームを反射する複数の微小なミラーを二方向に配列して構成された空間的光変調器であり、各ミラーの角度を変更して光ビームを変調する。DMD25により変調された光ビームは、投影レンズ26を含むヘッド部20aから照射される。DMD駆動回路27は、主制御装置70から供給された描画データに基づいて、DMD25の各ミラーの角度を変更する。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of the light beam irradiation apparatus. The light
図2及び図3において、チャック10は、θステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向へ移動する。θステージ8は、Xステージ5に搭載され、θ方向へ回転する。Xステージ5及びθステージ8には、図示しないボールねじ等の駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図1のステージ駆動回路60により駆動される。一方、各光ビーム照射装置20は、Yステージ7に搭載されている。Yステージ7は、ゲート11に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向へ移動する。Yステージ7には、図示しないボールねじ等の駆動機構が設けられており、駆動機構は、図1のステージ駆動回路61により駆動される。
2 and 3, the
θステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1は、直交する二辺がX方向及びY方向へ向く様に回転される。Xステージ5のX方向への移動により、チャック10は、受け渡し位置と露光位置との間を移動される。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームが、基板1をX方向へ走査する。また、Yステージ7のY方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームによる基板1の走査領域が、Y方向へ移動される。図1において、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、θステージ8のθ方向へ回転、及びXステージ5のX方向への移動を行う。また、主制御装置70は、ステージ駆動回路61を制御して、Yステージ7のY方向への移動を行う。
By rotation of the
図1及び図2において、ベース3には、X方向へ伸びるリニアスケール31が設置されている。リニアスケール31には、Xステージ5のX方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。図1及び図3において、Xステージ5の一側面には、リニアスケール31に対向して、エンコーダ32が取り付けられている。エンコーダ32は、リニアスケール31の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置70へ出力する。主制御装置70は、エンコーダ32のパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量を検出する。
1 and 2, the
図5は、レーザー測長系の動作を説明する図である。なお、図5においては、図1に示した基板変位検出回路51が省略されている。レーザー測長系は、公知のレーザー干渉式の測長系であって、レーザー光源41、レーザー干渉計42,44、及びバーミラー43,45を含んで構成されている。バーミラー43は、チャック10のY方向の一側面に取り付けられている。また、バーミラー45は、Yステージ7のX方向の一側面に取り付けられている。
FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the laser length measurement system. In FIG. 5, the substrate
レーザー干渉計42は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー43へ照射し、バーミラー43により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー43により反射されたレーザー光との干渉を測定する。この測定は、Y方向の2箇所で行う。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計42の測定結果から、Xステージ5により移動されるチャック10のX方向の位置及び回転を検出する。
The
一方、レーザー干渉計44は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー45へ照射し、バーミラー45により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー45により反射されたレーザー光との干渉を測定する。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計44の測定結果から、Yステージ7のY方向の位置を検出する。
On the other hand, the
図6は、基板を搭載したチャックの上面図である。また、図7はチャック及び光ビーム照射装置の側面図、図8はチャック及び光ビーム照射装置の正面図である。図6に示す様に、チャック10に搭載された基板1の表面の隅には、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査方向(X方向)に伸びる基板変位検出用マーク12が形成されている。図7及び図8に示す様に、ゲート11には、基板1の基板変位検出用マーク12の画像を取得するCCDカメラ50が取り付けられている。
FIG. 6 is a top view of the chuck on which the substrate is mounted. 7 is a side view of the chuck and the light beam irradiation apparatus, and FIG. 8 is a front view of the chuck and the light beam irradiation apparatus. As shown in FIG. 6, substrate displacement detection marks 12 extending in the scanning direction (X direction) of the
以下、本実施の形態による露光装置の動作を説明する。図1において、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5により、チャック10を露光位置へ移動させる。露光位置において、光ビーム照射装置20からの光ビームにより基板1の走査を行う際、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5により、チャック10をX方向へ移動させる。その際、Xステージ5に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生すると、チャック10に搭載された基板1が、X方向へ移動しながらY方向へ変位する。
The operation of the exposure apparatus according to this embodiment will be described below. In FIG. 1, the
図7及び図8において、ゲート11に設けられたCCDカメラ50は、基板1に設けられた基板変位検出用マーク12の画像を取得し、画像信号を図1の基板変位検出回路51へ出力する。図1において、基板変位検出回路51は、CCDカメラ50の画像信号を処理し、検出した基板変位検出用マーク12の画像を予め用意した正しい位置にある基板変位検出用マークの画像と比較して、基板1のY方向の変位を検出する。主制御装置70は、基板変位検出回路51が検出した基板1のY方向の変位に基づき、ステージ駆動回路61を制御して、Yステージ7により、光ビーム照射装置20を基板1の変位に合わせてY方向へ移動させる。
7 and 8, the
光ビーム照射装置20を走査方向と直交する方向へ移動するYステージ7を設け、Xステージ5により、チャック10を走査方向へ移動しながら、チャック10に搭載された基板1の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Yステージ7により、光ビーム照射装置20を基板1の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動するので、基板1を搭載したチャック10を移動するXステージ5に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。
さらに、Xステージ5により走査方向へ移動されるチャック10の上方に設けたCCDカメラ50により、基板1の走査方向に設けた基板変位検出用マーク12の画像を取得し、CCDカメラ50が出力した画像信号を処理して、基板1の走査方向と直交する方向の変位を検出するので、基板1の走査方向に設けた基板変位検出用マーク12を用いて、画像処理により、基板1の走査方向と直交する方向の変位が精度良く検出される。
Further, an image of the substrate
基板1の走査領域を移動する際、主制御装置70は、ステージ駆動回路61を制御して、Yステージ7により各光ビーム照射装置20をY方向へ移動させる。Yステージ7により、光ビーム照射装置20を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置20からの光ビームによる走査領域を変更するので、基板1全体の走査を行うために、Xステージ5が基板1を搭載したチャック10を走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法が小さくなる。
When moving the scanning region of the
図1において、主制御装置70は、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ描画データを供給する描画制御部を有する。図9は、描画制御部の概略構成を示す図である。描画制御部71は、メモリ72、バンド幅設定部73、中心点座標決定部74、及び座標決定部75を含んで構成されている。メモリ72は、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データを、そのXY座標をアドレスとして記憶している。
In FIG. 1, the
バンド幅設定部73は、メモリ72から読み出す描画データのY座標の範囲を決定することにより、光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射される光ビームのY方向のバンド幅を設定する。
The
レーザー測長系制御装置40は、露光位置における基板1の露光を開始する前のチャック10のX方向の位置、及び光ビーム照射装置20を搭載したYステージ7のY方向の位置を検出する。中心点座標決定部74は、レーザー測長系制御装置40が検出したチャック10のX方向の位置から、基板1の露光を開始する前のチャック10の中心点のX座標を決定する。そして、中心点座標決定部74は、エンコーダ32からのパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量を検出し、チャック10の中心点のX座標を決定する。また、中心点座標決定部74は、レーザー測長系制御装置40が検出したYステージ7のY方向の位置から、Yステージ7の中心点のY座標を決定する。
The laser length measurement
座標決定部75は、中心点座標決定部74が決定したチャック10の中心点のX座標とYステージ7の中心点のY座標とに基づき、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データのXY座標を決定する。メモリ72は、座標決定部75が決定したXY座標をアドレスとして入力し、入力したXY座標のアドレスに記憶された描画データを、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ出力する。
Based on the X coordinate of the center point of the
図10〜図13は、光ビームによる基板の走査を説明する図である。図10〜図13は、8つの光ビーム照射装置20からの8本の光ビームにより、基板1のX方向の走査を4回行って、基板1全体を走査する例を示している。図10〜図13においては、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aが破線で示されている。各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームは、Y方向にバンド幅Wを有し、Xステージ5のX方向への移動によって、基板1を矢印で示す方向へ走査する。
10 to 13 are diagrams for explaining scanning of the substrate by the light beam. 10 to 13 show an example in which the
図10は、1回目の走査を示し、X方向への1回目の走査により、図10に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。1回目の走査が終了すると、Yステージ7のY方向への移動により、光ビーム照射装置20のヘッド部20aがY方向へバンド幅Wと同じ距離だけ移動される。図11は、2回目の走査を示し、X方向への2回目の走査により、図11に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。2回目の走査が終了すると、Yステージ7のY方向への移動により、光ビーム照射装置20のヘッド部20aがY方向へバンド幅Wと同じ距離だけ移動される。図12は、3回目の走査を示し、X方向への3回目の走査により、図12に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われる。3回目の走査が終了すると、Yステージ7のY方向への移動により、光ビーム照射装置20のヘッド部20aがY方向へバンド幅Wと同じ距離だけ移動される。図13は、4回目の走査を示し、X方向への4回目の走査により、図13に灰色で示す走査領域でパターンの描画が行われ、基板1全体の走査が終了する。
FIG. 10 shows the first scan, and the pattern is drawn in the scan area shown in gray in FIG. 10 by the first scan in the X direction. When the first scan is completed, the
複数の光ビーム照射装置20からの複数の光ビームにより基板1を走査する際も、各光ビーム照射装置20からの光ビームにより描画されるパターンがXステージ5の走行誤差により互いにずれるのを防止することができるので、パターンの描画を精度良く行うことができる。そして、複数の光ビーム照射装置20からの複数の光ビームにより基板1の走査を並行して行うことにより、基板1全体の走査に掛かる時間を短くすることができ、タクトタイムを短縮することができる。
Even when the
なお、図10〜図13では、基板1のX方向の走査を4回行って、基板1全体を走査する例を示したが、走査の回数はこれに限らず、基板1のX方向の走査を3回以下又は5回以上行って、基板1全体を走査してもよい。
10 to 13 show an example in which the
以上説明した実施の形態によれば、光ビーム照射装置20を走査方向と直交する方向へ移動するYステージ7を設け、Xステージ5により、チャック10を走査方向へ移動しながら、チャック10に搭載された基板1の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Yステージ7により、光ビーム照射装置20を基板1の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することにより、基板1を搭載したチャック10を移動するXステージ5に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画を精度良く行うことができる。従って、基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止することができる。
According to the embodiment described above, the
さらに、以上説明した実施の形態によれば、Xステージ5により走査方向へ移動されるチャック10の上方に設けたCCDカメラ50により、基板1の走査方向に設けた基板変位検出用マーク12の画像を取得し、CCDカメラ50が出力した画像信号を処理して、基板1の走査方向と直交する方向の変位を検出することにより、基板1の走査方向に設けた基板変位検出用マーク12を用いて、画像処理により、基板1の走査方向と直交する方向の変位を精度良く検出することができる。
Furthermore, according to the embodiment described above, the image of the substrate
さらに、以上説明した実施の形態によれば、Yステージ7により、光ビーム照射装置20を走査方向と直交する方向へ移動して、光ビーム照射装置20からの光ビームによる走査領域を変更することにより、基板1全体の走査を行うために、Xステージ5が基板1を搭載したチャック10を走査方向と直交する方向へ移動する必要がなく、露光装置の走査方向と直交する方向の寸法を小さくすることができる。
Furthermore, according to the embodiment described above, the light
本発明の露光装置又は露光方法を用いて基板の露光を行うことにより、パターンの描画を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。 By exposing the substrate using the exposure apparatus or the exposure method of the present invention, the pattern can be drawn with high accuracy, so that a high-quality display panel substrate can be manufactured.
例えば、図14は、液晶ディスプレイ装置のTFT基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程(ステップ101)では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長(CVD)法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程(ステップ102)では、ロール塗布法等によりフォトレジストを塗布して、薄膜形成工程(ステップ101)で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程(ステップ103)では、露光装置を用いて、フォトレジスト膜にパターンを形成する。現像工程(ステップ104)では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程(ステップ105)では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程(ステップ101)で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程(ステップ106)では、エッチング工程(ステップ105)でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にTFTアレイが形成される。 For example, FIG. 14 is a flowchart showing an example of the manufacturing process of the TFT substrate of the liquid crystal display device. In the thin film formation step (step 101), a thin film such as a conductor film or an insulator film, which becomes a transparent electrode for driving liquid crystal, is formed on the substrate by sputtering, plasma chemical vapor deposition (CVD), or the like. In the resist coating process (step 102), a photoresist is applied by a roll coating method or the like to form a photoresist film on the thin film formed in the thin film forming process (step 101). In the exposure step (step 103), a pattern is formed on the photoresist film using an exposure apparatus. In the development step (step 104), a developer is supplied onto the photoresist film by a shower development method or the like to remove unnecessary portions of the photoresist film. In the etching process (step 105), a portion of the thin film formed in the thin film formation process (step 101) that is not masked by the photoresist film is removed by wet etching. In the stripping step (step 106), the photoresist film that has finished the role of the mask in the etching step (step 105) is stripped with a stripping solution. Before or after each of these steps, a substrate cleaning / drying step is performed as necessary. These steps are repeated several times to form a TFT array on the substrate.
また、図15は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程(ステップ201)では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程(ステップ202)では、印刷法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、R、G、Bの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程(ステップ203)では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程(ステップ204)では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄/乾燥工程が実施される。 FIG. 15 is a flowchart showing an example of the manufacturing process of the color filter substrate of the liquid crystal display device. In the black matrix forming step (step 201), a black matrix is formed on the substrate by processing such as resist coating, exposure, development, etching, and peeling. In the colored pattern forming step (step 202), a colored pattern is formed on the substrate by a printing method or the like. This process is repeated for the R, G, and B coloring patterns. In the protective film forming step (step 203), a protective film is formed on the colored pattern, and in the transparent electrode film forming step (step 204), a transparent electrode film is formed on the protective film. Before, during or after each of these steps, a substrate cleaning / drying step is performed as necessary.
図14に示したTFT基板の製造工程では、露光工程(ステップ103)において、図15に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、着色パターン形成工程(ステップ202)の露光処理において、本発明の露光装置又は露光方法を適用することができる。 In the TFT substrate manufacturing process shown in FIG. 14, in the exposure process (step 103), in the color filter substrate manufacturing process shown in FIG. 15, in the exposure process of the colored pattern forming process (step 202), the exposure of the present invention. An apparatus or an exposure method can be applied.
1 基板
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 ゲート
12 基板変位検出用マーク
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26 投影レンズ
27 DMD駆動回路
31 リニアスケール
32 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
50 CCDカメラ
51 基板変位検出回路
60,61 ステージ駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
DESCRIPTION OF
26
Claims (8)
前記チャックを移動する第1のステージと、
前記チャックに搭載された基板へ光ビームを照射する光ビーム照射装置とを備え、
前記第1のステージにより前記チャックを移動しながら、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、
前記光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージと、
前記チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出手段と、
前記第1のステージにより、前記チャックを走査方向へ移動させながら、前記検出手段の検出結果に基づき、前記第2のステージにより、前記光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動させる制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。 A chuck for mounting a substrate coated with a photoresist;
A first stage for moving the chuck;
A light beam irradiation device for irradiating the substrate mounted on the chuck with a light beam,
An exposure apparatus that draws a pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam from the light beam irradiation apparatus while moving the chuck by the first stage,
A second stage for moving the light beam irradiation device in a direction perpendicular to the scanning direction;
Detecting means for detecting displacement in a direction perpendicular to the scanning direction of the substrate mounted on the chuck;
While moving the chuck in the scanning direction by the first stage, based on the detection result of the detection means, the second stage causes the light beam irradiation device to be orthogonal to the scanning direction in accordance with the displacement of the substrate. An exposure apparatus comprising a control means for moving in a direction.
前記第1のステージにより走査方向へ移動される前記チャックの上方に設けられ、基板の走査方向に設けた検出用マークの画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置と、
前記画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出する検出回路とを有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 The detection means includes
An image acquisition device that is provided above the chuck that is moved in the scanning direction by the first stage, acquires an image of a detection mark provided in the scanning direction of the substrate, and outputs an image signal;
The exposure apparatus according to claim 1, further comprising: a detection circuit that processes an image signal output from the image acquisition apparatus and detects a displacement in a direction orthogonal to a scanning direction of the substrate.
光ビーム照射装置を走査方向と直交する方向へ移動する第2のステージを設け、
第1のステージにより、チャックを走査方向へ移動しながら、チャックに搭載された基板の走査方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、第2のステージにより、光ビーム照射装置を基板の変位に合わせて走査方向と直交する方向へ移動することを特徴とする露光方法。 An exposure method in which a substrate coated with a photoresist is mounted on a chuck, the substrate is scanned by a light beam from a light beam irradiation apparatus while a chuck is moved by a first stage, and a pattern is drawn on the substrate. ,
A second stage for moving the light beam irradiation device in a direction perpendicular to the scanning direction;
While moving the chuck in the scanning direction by the first stage, the displacement in the direction orthogonal to the scanning direction of the substrate mounted on the chuck is detected, and the light beam irradiation device is moved by the second stage based on the detection result. An exposure method characterized by moving in a direction orthogonal to the scanning direction in accordance with the displacement of the substrate.
画像取得装置が出力した画像信号を処理して、基板の走査方向と直交する方向の変位を検出することを特徴とする請求項4に記載の露光方法。 The image acquisition device provided above the chuck moved in the scanning direction by the first stage acquires an image of the detection mark provided in the substrate scanning direction,
5. The exposure method according to claim 4, wherein the image signal output from the image acquisition device is processed to detect displacement in a direction orthogonal to the scanning direction of the substrate.
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