JP2010190985A - 荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents

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薫 鶴田
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Abstract

【課題】マスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、額縁状のフレーム10aにアースピン10cを垂設して成るアース体10をマスクWにセットして描画を行うものにおいて、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにする。
【解決手段】アース体10用のセット室9に、複数種のアース体10を保持し、これらアース体10のうちからマスクWの種類に応じた1つのアース体10を選択してマスクWにセットするセット装置11を設置する。セット装置11は、複数種のアース体10を上下方向の間隔を存して保持する上下複数段の棚部12a,12bを有する保持枠12と、この保持枠12を昇降させる昇降手段13とを備える。
【選択図】図3

Description

本発明は、ガラス基板上に遮光膜とレジスト膜とを順に積層して成るマスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置に関する。
荷電粒子ビーム描画装置は、マスクを載置するステージを設置した描画室と、ステージに載置したマスクに荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段と、搬送ロボットとを備えており、搬送ロボットによりマスクを描画室に搬送してステージに載置するようにしている。ところで、マスクに荷電粒子ビームを照射してパターンを描画していくと、マスクの遮光膜が帯電してしまう。かかる状態のまま描画を続行すると、帯電による電荷の影響で荷電粒子ビームの軌道が曲げられてしまい、描画位置がずれたり、ビームがぼけてしまうといった問題を生ずる。
そこで、従来、額縁状のフレームにアースピンを垂設して成るアース体を用い、アース体をマスクにセットして、アースピンの下端をマスクのレジスト膜を突き破って遮光膜に接触させるようにしたものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。これによれば、遮光膜をアースピンを介してアースすることにより、遮光膜の帯電を防止することができる。尚、アース体を使用する場合は、アース体のセット室を設け、搬送ロボットによりマスクをセット室に搬送して、マスクにアース体をセットした後、マスクをアース体と共に描画室に搬送してステージに載置するようにしている。
ところで、遮光膜とレジスト膜の膜厚は、一般的に、それぞれ70nm、300nmであるが、最近は、LSIの高集積化に伴い微細な線幅のマスクが要求されている。そのためには、遮光膜とレジスト膜の膜厚をそれぞれ10nm、50nm程度まで薄膜化することが必要になっている。
ここで、遮光膜を薄膜化すると、遮光膜の電気抵抗値が高くなるため、遮光膜から電荷を効率良くアースするには、アースピンの本数を増すことが必要になる。また、特許文献1記載のアースピンは、下端部が針状に尖っているが、このようなアースピンを用いると、遮光膜とレジスト膜を上記の如く薄膜化した場合、アースピンの下端がレジスト膜のみならず遮光膜をも突き破ってしまう。これでは、アースピンに作用する荷重がマスクのガラス基板に逃げ、遮光膜に対するアースピンの接触圧が低下して両者間の接触抵抗が増加し、遮光膜から電荷を効率良くアースできなくなる。一方、アースピンの下端を球状面や平坦面に形成すれば、貫通力が弱くなり、アースピンの下端が遮光膜にこれを突き破ることなく接触する。
従って、アースピンの本数やアースピンの下端の形状が異なる複数種のアース体を用意し、マスクの種類(遮光膜、レジスト膜の膜厚)に応じてアース体を交換すればよい。然し、この場合には、マスクの種類を変更するときに、前の種類に対応するアース体をセット室から取り出して、次の種類に対応するアース体をセット室に投入することが必要になり、この交換作業に時間がかかって、スループットが低下する。
特開2008−58809号公報
本発明は、以上の点に鑑み、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにした荷電粒子ビーム描画装置を提供することをその課題としている。
上記課題を解決するために、本発明は、ガラス基板上に遮光膜とレジスト膜とを順に積層して成るマスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、マスクを載置するステージを設置した描画室と、前記ステージに載置したマスクに荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段と、額縁状のフレームに、下端がレジスト膜を突き破って遮光膜に接触するアースピンを垂設して成るアース体と、このアース体をマスクにセットするセット室と、搬送ロボットとを備え、この搬送ロボットによりマスクを前記セット室に搬送して、前記アース体をマスクにセットした後、マスクを前記アース体と共に描画室に搬送して前記ステージに載置するものにおいて、前記セット室に、複数種のアース体を保持し、これらアース体のうちからマスクの種類に応じた1つのアース体を選択してマスクにセットするセット装置が設置されることを特徴とする。
本発明において、前記セット装置は、前記複数種のアース体を上下方向の間隔を存して保持する上下複数段の棚部を有する保持枠と、この保持枠を昇降させる昇降手段とを備え、前記セット室への前記搬送ロボットによるマスクの搬入高さの直上部にこのマスクに対応する所定のアース体が位置するように前記保持枠を昇降調整し、マスク搬入後に前記保持枠を下降させ、或いは、前記搬送ロボットによりマスクを上昇させて、所定のアース体をマスクにセットするように構成できる。
また、前記セット装置は、前記複数種のアース体を上下方向の間隔を存して保持する上下複数段の棚部を有する保持枠を備え、前記搬送ロボットによりマスクを当該マスクに対応する所定のアース体の直下部に搬入した後、前記搬送ロボットによりマスクを上昇させて、所定のアース体をマスクにセットするように構成してもよい。
また、本発明において、前記複数種のアース体は、前記アースピンの本数が互いに異なるものや、アースピンの下端の形状が互いに異なるものとすることができる。
本発明によれば、セット室に設置したセット装置によりマスクの種類に対応する所定のアース体をマスクにセットすることができる。そのため、マスクの種類を変更する際に、前の種類のマスクに対応するアース体をセット室から取り出して、次の種類のマスクに対応するアース体をセット室に投入する交換作業を行う必要がなく、スループットの低下を防止できる。
本発明の実施形態の描画装置である電子ビーム描画装置を示す模式的断面図。 上記電子ビーム描画装置の模式的切断平面図。 (a)上記電子ビーム描画装置に備えるセット装置により薄膜化マスクにこれに対応するアース体をセットするときの状態を示す説明図、(b)上記セット装置により通常のマスクにこれに対応するアース体をセットするときの状態を示す説明図。 (a)通常のマスクに対応するアース体を示す斜視図、(b)薄膜化マスクに対応するアース体を示す斜視図。 アース体のアースピンの取付け部分の拡大断面図。 (a) 通常のマスクに対応するアース体に設けるアースピンの下部の拡大側面図、(b)薄膜化マスクに対応するアース体に設けるアースピンの下部の拡大側面図。
図1、図2は荷電粒子ビーム描画装置の一例である電子ビーム描画装置を示している。電子ビーム描画装置は、マスクWに電子ビームを照射して所定のパターンを描画するものである。
マスクWは、図6に示す如く、ガラス基板Wa上に、Cr等の金属製の遮光膜Wbとレジスト膜Wcとを順に積層して成るものである。マスクWには、遮光膜Wb、レジスト膜Wcの厚さがそれぞれ70nm、300nm程度である図6(a)に示す通常のマスクと、遮光膜Wb、レジスト膜Wcの厚さがそれぞれ10nm、50nm程度である図6(b)に示す薄膜化したマスクとがある。
電子ビーム描画装置は、マスクWを載置するステージ1aを設置した真空の描画室1と、描画室1の天井部に立設したビーム照射手段たる電子鏡筒2と、描画室1に隣接する位置に配置された真空のロボット室3と、ロボット室3に設置した搬送ロボット4と、ロボット室3に描画室1と反対側で隣接する位置に配置されたロードロック室5とを備えている。また、ロボット室3と描画室1及びロードロック室5との間にはそれぞれゲートバルブ6,7が介設されている。更に、ロボット室3の描画室1及びロードロック室5に隣接しない周囲2個所には、マスクWを位置決めする処理を行うアライメント室8と、マスクWに後記詳述するアース体10をセットするセット室9とが配置されている。尚、描画室1、電子鏡筒2、ロボット室3、ロードロック室5、ゲートバルブ6,7及びアライメント室8の構成は従来公知であり、その詳細な説明は省略する。
搬送ロボット4は、鉛直軸線回りに旋回自在なロボット本体4aと、ロボット本体4aに昇降自在に支持される昇降ロッド4bと、昇降ロッド4bの上端に取り付けた屈伸自在なロボットアーム4cと、ロボットアーム4cの先端に取り付けた、マスクWを載置するエンドエフェクタ4dとを有している。ロボット本体4aには、ロボット本体4aの旋回用と昇降ロッド4bの昇降用とロボットアーム4cの屈伸用の駆動源が内蔵されている。
マスクWは、図外のロボットによりロードロック室5に投入される。そして、ロードロック室5を真空にした後、ゲートバルブ7を開き、搬送ロボット4によりマスクWをロードロック室5からアライメント室8に搬送する。アライメント室8でマスクWの位置決めを行うと、搬送ロボット4によりマスクWをアライメント室8からセット室9に搬送して、マスクWにアース体10をセットする。次に、搬送ロボット4によりマスクWをアース体10と共にセット室9から搬出し、ゲートバルブ6を開いて、描画室1内のステージ1aにマスクWを搬送して載置する。
ステージ1aは、水平の直交2方向に移動自在である。そして、ステージ1aに載置したマスクWに電子鏡筒2から電子ビームを照射しながらステージ1aを移動させ、マスクWに電子ビームを走査して所定のパターンを描画する。描画が完了すると、搬送ロボット4によりマスクWを描画室1から搬出してセット室9に搬送し、アース体10をマスクWから取り外す。その後、マスクWをロードロック室5に搬送する。
アース体10は、図4に示す如く、マスクWの上面周縁部を覆う大きさの額縁状のフレーム10aにブラケット10bを介してアースピン10cを複数本垂設して成るものである。アースピン10cは、導電性ダイヤモンド、導電性ジルコニア等の超高硬度の導電性材料で形成されており、図5に示す如く、ブラケット10bにかしめ固定される金属製のブシュ10dに圧入されている。また、図示しないが、ステージ1a上には、フレーム10aの外方に張出すブラケット110bの部分に接触するアース端子が設けられており、アースピン10cがブラケット110bとアース端子とを介してアースされる。
アース体10には、図4(a)に示す如く、アースピン10cの本数を比較的少なく(例えば、3本)した通常マスク用のもの(#1のアース体)と、図4(b)に示す如く、アースピン10cの本数を比較的多く(例えば、6本)した薄膜化マスク用のもの(#2のアース体)との2種類がある。また、#1のアース体10のアースピン10cは、図6(a)に示す如く、厚いレジスト膜Wcを突き破って遮光膜Wbに接触するように、下端が先鋭に形成されている。一方、#2のアース体10のアースピン10cは、図6(b)に示す如く、薄膜化した遮光膜Wbを突き破らないように、下端が球状面に形成されている。尚、#2のアース体10のアースピン10cの下端を平坦面に形成してもよい。
セット室9には、図3に示す如く、#1と#2のアース体10を保持するセット装置11が設置されている。そして、#1と#2のアース体10のうちからマスクWの種類に応じた1つのアース体10を選択してマスクWにセットするようにしている。以下、この点について詳述する。
セット装置11は、#1と#2のアース体10を上下方向の間隔を存して保持する上下2段の棚部12a、12bを有する保持枠12と、この保持枠12を昇降させる昇降手段たる直動アクチュエータ13とを備えている。尚、各アース体10は、フレーム10aの外方に張出すブラケット10bの部分で各棚部12a、12bに支持される。
マスクWの種類を通常のものから薄膜化したものに変更する際は、図3(a)に示す如く、セット室9への搬送ロボット4によるマスクWの搬入高さの直上部に下段の棚部12bに保持される#2のアース体10が位置するように保持枠12を昇降調整する。そして、薄膜化したマスクWを搬送ロボット4によりセット室9に上記の高さで搬入した後、図3(a)に仮想線で示す如く、保持枠12を下降させ、#2のアース体10をマスクWにセットする。
また、マスクWの種類を薄膜化したものから通常のものに変更する際は、図3(b)に示す如く、マスクWの搬入高さの直上部に上段の棚部12aに保持される#1のアース体10が位置するように保持枠12を昇降調整する。そして、通常のマスクWを搬送ロボット4によりセット室9に上記の高さで搬入した後、図3(b)に仮想線で示す如く、保持枠12を下降させ、#1のアース体10をマスクWにセットする。
尚、マスクWは、比較的短いストロークではあるが、搬送ロボット4の昇降ロッド4bの動きで昇降できる。従って、セット室9にマスクWを上記高さで搬入した後に、マスクWを搬送ロボット4により上昇させて、アース体10をマスクWにセットするようにしてもよい。
また、搬送ロボット4によりマスクWをより大きなストロークで昇降可能とすれば、直動アクチュエータ13を省略し、保持枠12を所定高さ(例えば、図3(b)に実線で示す高さ)に固定的に配置してもよい。この場合、マスクWが通常のものであるときは、搬送ロボット4によりマスクWを上段の棚部12aに保持される#1のアース体10の直下部に搬入した後、マスクWを上昇させて、#1のアース体10をマスクWにセットし、また、マスクWが薄膜化したものであるときは、搬送ロボット4によりマスクWを下段の棚部12bに保持される#2のアース体10の直下部に搬入した後、マスクWを上昇させて、#2のアース体10をマスクWにセットする。
何れにしても、薄膜化したマスクWには#2のアース体10がセットされるため、アースピン10cの本数が多くなる。従って、遮光膜Wbの電気抵抗値が薄膜化で高くなっても、遮光膜Wbから電荷を効率良くアースできる。尚、通常のマスクWに#2のアース体10をセットすると、アースピン10cの1本当たりに作用する荷重が軽くなり過ぎて、アースピン10cの下端がレジスト膜Wcを突き破れなくなる。そのため、通常のマスクWには、アースピン10cの本数を少なくした#1のアース体10をセットしている。
また、セット室9に設置したセット装置11によりマスクWの種類に対応する所定のアース体10をマスクWにセットすることができるため、マスクWの種類を変更する際に、前の種類のマスクWに対応するアース体10をセット室9から取り出して、次の種類のマスクWに対応するアース体10をセット室9に投入する交換作業を行う必要がなく、スループットの低下を防止できる。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、上記実施形態は、遮光膜Wb,レジスト膜Wcの厚さが異なる2種類のマスクWに対応する#1と#2の2種類のアース体10を保持するために、セット装置11の保持枠12に上下2段の棚部12a,12bを設けているが、保持枠12を3種類以上のマスクWを保持可能な上下3段以上の棚部を有するものに構成してもよい。また、マスクの大きさが変わる場合は、大きさの異なる複数種のマスクを保持枠12に保持することも可能である。
更に、セット装置を、水平移動自在なテーブル上にその移動方向に間隔を存してマスクの保持部を複数設けたものに構成することも可能である。但し、この場合には、セット装置の設置スペースを広く必要とする。従って、省スペース化のためには、上記実施形態のように、上下複数段の棚部を有する保持枠12を設けることが望ましい。また、上記実施形態の描画装置は、電子ビームを照射する電子ビーム描画装置であるが、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームを照射する描画装置にも同様に本発明を適用できる。
W…マスク
Wa…ガラス基板
Wb…遮光膜
Wc…レジスト膜
1…描画室
1a…ステージ
2…電子鏡筒(ビーム照射手段)
4…搬送ロボット
9…セット室
10…アース体
10a…フレーム
10c…アースピン
11…セット装置
12…保持枠
12a.12b…棚部
13…直動アクチュエータ(昇降手段)

Claims (5)

  1. ガラス基板上に遮光膜とレジスト膜とを順に積層して成るマスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、
    マスクを載置するステージを設置した描画室と、前記ステージに載置したマスクに荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段と、額縁状のフレームに、下端がレジスト膜を突き破って遮光膜に接触するアースピンを垂設して成るアース体と、このアース体をマスクにセットするセット室と、搬送ロボットとを備え、この搬送ロボットによりマスクを前記セット室に搬送して、前記アース体をマスクにセットした後、マスクを前記アース体と共に描画室に搬送して前記ステージに載置するものにおいて、
    前記セット室に、複数種のアース体を保持し、これらアース体のうちからマスクの種類に応じた1つのアース体を選択してマスクにセットするセット装置が設置されることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
  2. 前記セット装置は、前記複数種のアース体を上下方向の間隔を存して保持する上下複数段の棚部を有する保持枠と、この保持枠を昇降させる昇降手段とを備え、前記セット室への前記搬送ロボットによるマスクの搬入高さの直上部にこのマスクに対応する所定のアース体が位置するように前記保持枠を昇降調整し、マスク搬入後に前記保持枠を下降させ、或いは、前記搬送ロボットによりマスクを上昇させて、所定のアース体をマスクにセットすることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  3. 前記セット装置は、前記複数種のアース体を上下方向の間隔を存して保持する上下複数段の棚部を有する保持枠を備え、前記搬送ロボットによりマスクを当該マスクに対応する所定のアース体の直下部に搬入した後、前記搬送ロボットによりマスクを上昇させて、所定のアース体をマスクにセットすることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  4. 前記複数種のアース体は、前記アースピンの本数が互いに異なることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  5. 前記複数種のアース体は、前記アースピンの下端の形状が互いに異なることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012134205A (ja) * 2010-12-20 2012-07-12 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
US8742376B2 (en) 2012-07-02 2014-06-03 Nuflare Technology, Inc. Method and apparatus of mask drawing using a grounding body at lowest resistance value position of the mask

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