JP2010186778A - 冷却装置及び冷却方法 - Google Patents

冷却装置及び冷却方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010186778A
JP2010186778A JP2009028287A JP2009028287A JP2010186778A JP 2010186778 A JP2010186778 A JP 2010186778A JP 2009028287 A JP2009028287 A JP 2009028287A JP 2009028287 A JP2009028287 A JP 2009028287A JP 2010186778 A JP2010186778 A JP 2010186778A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling
holder
processed
cooling air
turntable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009028287A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5612266B2 (ja
Inventor
Masato Okamoto
全人 岡本
Hironobu Arii
宏信 有井
Kentaro Yamamori
健太郎 山森
Tsuyoshi Ueda
剛志 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JTEKT Thermo Systems Corp
Original Assignee
Koyo Thermo Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koyo Thermo Systems Co Ltd filed Critical Koyo Thermo Systems Co Ltd
Priority to JP2009028287A priority Critical patent/JP5612266B2/ja
Publication of JP2010186778A publication Critical patent/JP2010186778A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5612266B2 publication Critical patent/JP5612266B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

【課題】複数の板状の被処理物を同時に冷却することが可能であり、各被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる冷却装置を提供する。
【解決手段】加熱処理された被処理物Sを冷却用エアの吹き付けによって冷却する装置C。少なくとも1枚の板状の被処理物Sを立った状態で保持することができる保持具1と、この保持具1に保持された被処理物Sの面内方向とほぼ平行な方向に冷却用エアを供給するエア供給手段2と、前記被処理物Sの面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度が所定の範囲内で変化するように前記保持具1を揺動させる揺動機構3とを備えている。
【選択図】図1

Description

本発明は冷却装置及び冷却方に関する。さらに詳しくは、加熱された板状の被処理物を冷却するのに好適に用いることができる冷却装置及び冷却方法に関する。
半導体デバイスの原料となるシリコンウェーハは、シリコン単結晶棒を薄くスライスすることにより得られる。このシリコン単結晶棒は、石英るつぼ内の溶解したシリコン中から単結晶を成長させるCZ(チョクラルスキー)法により製造することができるが、シリコン単結晶を引き上げる際に、わずかに溶けた石英るつぼからの酸素が溶解したシリコン中に混入する。この酸素は単結晶シリコンの成長とともにその結晶内に混入し、サーマルドナーとして残留する。
サーマルドナーがドープしたシリコンウェーハを半導体デバイスの製造に使用した場合、シリコンウェーハの抵抗率が均一でなくなるなど、半導体デバイスの品質が一定でなくなる。
そこで、サーマルドナーを減少させるために、エッチング処理などが施されたシリコンウェーハに熱処理が施される(ドナーキラー熱処理)。この熱処理は、例えば550〜800℃程度に加熱されたシリコンウェーハを400〜300℃付近に急速に冷却するものであるが、現状にあっては、加熱炉から人手で取り出したシリコンウェーハの両面に扇風機の風を交互に当てて冷却している。したがって、シリコンウェーハを均一に冷却するのが難しく、また、複数のシリコンウェーハを同時に処理することできないので作業効率が悪い。
一方、板ガラスの分野においては、ローラコンベヤ上の板ガラスを、当該ローラコンベヤの上方及び下方に多数配設された噴出口から冷却エアを吹き付けることで冷却することが行なわれている(例えば、特許文献1〜2参照)。特許文献1〜2に記載されている装置では、冷却エアの吹き付けを均一にするために前記板ガラスをその面内方向に揺動させている。
特公平6−23069号公報 特許第2589975号公報
特許文献1〜2記載の装置では、板状の被処理物である板ガラスを自動的に冷却することができるが、ローラコンベヤ上の板ガラスの面に対しほぼ垂直方向から冷却エアを吹き付ける構成であるので、複数の被処理物を同時に冷却しようとすると、ローラコンベヤを長くするとともに冷却エアの噴出口を当該ローラコンベヤ全長に沿って配設する必要があり、設置スペースが大きくなるだけでなく、設備費が嵩むという問題がある。また、シリコンウェーハと板ガラスは、加熱状態の強度や冷却時間などが異なるので、当該板ガラスの冷却方法を参照することはできない。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、複数の板状の被処理物を同時に冷却することが可能であり、各被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる冷却装置及び冷却方法を提供することを目的としている。
本発明の第1の観点に係る冷却装置は、加熱処理された被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する装置であって、
少なくとも1枚の板状の被処理物を立った状態で保持することができる保持具と、
この保持具に保持された被処理物の面内方向とほぼ平行な方向に冷却用エアを供給するエア供給手段と、
前記被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度が所定の範囲内で変化するように前記保持具を揺動させる揺動機構と
を備えたことを特徴としている。
本発明の第1の観点に係る冷却装置では、板状の被処理物を立った状態で保持することができる保持具を揺動させることで、当該板状の被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度を所定の範囲内で変化させることができる。したがって、板状の被処理物に対して均一に冷却用エアを供給することができ、その結果、被処理物を均一に冷却することができる。また、保持具によって立った状態で被処理物を保持するので、複数の被処理物を同時に冷却処理することが可能であり、この場合においても、保持具を揺動させることで当該保持具に保持されている複数の被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
前記所定の範囲を−45°〜+45°の範囲とすることができる。被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度を−45°〜+45°の範囲内で変化させること
で、当該被処理物全体に対して均一に冷却用エアを供給することができ、これにより被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
前記揺動機構を、前記保持具が載置されるターンテーブルと、このターンテーブルを正転及び反転させるモータとで構成することができる。ターンテーブルをモータで正転及び反転させることで当該ターンテーブル上に載置されている保持具に保持された被処理物を簡単に且つ確実に揺動させることができる。
また、本発明の第2の観点に係る冷却装置は、加熱処理された被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する装置であって、
少なくとも1つの被処理物を保持することができる保持具と、
この保持具に保持された被処理物に冷却用エアを供給するエア供給手段と、
前記被処理物に対する冷却用エアの供給方向が変化するように前記保持具を回転させる回転機構と
を備えたことを特徴としている。
本発明の第2の観点に係る冷却装置では、回転機構によって、被処理物に対する冷却用エアの供給方向が変化するように保持具を回転させることで、当該被処理物に対して均一に冷却用エアを供給することができ、これにより被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
前記第1の観点及び第2の観点に係る冷却装置において、被処理物が加熱処理される加熱室内の保持具を、当該被処理物が冷却される冷却室内に搬送する搬送機構を更に備えているのが好ましい。この構成によれば、被処理物を人手によることなく搬送機構により自動的に加熱室から冷却室へ移動させることができる。
前記搬送機構がロッドを備えており、
前記ターンテーブルは昇降可能に構成されており、
前記ロッドの先端には、下方に開放されており且つ前記保持具に係止可能な係止部が形成されており、且つ、
ターンテーブルの下降によって当該ターンテーブル上の保持具とロッド先端の係止部との係合が解除されるように構成されているのが好ましい。この場合、ターンテーブルを下降させることによって自動的にロッドと保持具との係合を解除することができる。
本発明の第3の観点に係る冷却方法は、加熱処理された板状の被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する方法であって、
前記被処理物の面内方向と、冷却用エアの吹き付け方向とのなす角度を所定の範囲内で変化させることを特徴としている。
本発明の第3の観点に係る冷却方法では、板状の被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度を所定の範囲内で変化させることによって、当該板状の被処理物に対して均一に冷却用エアを供給することができ、その結果、被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
前記被処理物を、その面内方向が前記冷却エアの吹きつけ方向とほぼ平行になるように配置し、当該被処理物を揺動させることで前記角度を所定の範囲内で変化させることができる。この場合、被処理物を揺動させることで当該被処理物の面内方向と冷却用エアの吹き付け方向とのなす角度を変化させることができ、これにより、被処理物に対して冷却用エアを均一に供給して当該被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
前記所定の範囲を−45°〜+45°の範囲とすることができる。被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度を−45°〜+45°の範囲内で変化させること
で、当該被処理物全体に対して均一に冷却用エアを供給することができ、これにより被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
また、本発明の第4の観点に係る冷却方法は、加熱処理された板状の被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する方法であって、
前記被処理物に対する冷却用エアの吹き付け方向を変化させることを特徴としている。
本発明の第4の観点に係る冷却方法では、被処理物に対する冷却用エアの供給方向を変化させることで、当該被処理物に対して均一に冷却用エアを供給することができ、これにより被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
本発明の冷却装置及び冷却方法によれば、複数の板状の被処理物を同時に冷却することが可能であり、各被処理物を迅速かつ均一に冷却することができる。
本発明の冷却装置の一実施の形態の平面説明図である。 図1に示される冷却装置の側面説明図である。 冷却用エアの流れと板状の被処理物との関係を説明する図である。
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の冷却装置及び冷却方法の実施の形態を詳細に説明する。
図1は本発明の一実施の形態に係る冷却装置Cの平面説明図であり、図2は図1に示される冷却装置Cの側面説明図である。この冷却装置Cは、シリコンウェーハからサーマルドナーを減少させるドナーキラー熱処理に用いられ、板状の被処理物であるシリコンウェーハSを保持する保持具1と、シリコンウェーハSに冷却用エアを吹き付けるエア供給手段である冷却ファン2と、前記保持具1を揺動させる揺動機構3とで主に構成されている。
保持具1は、底板11の4隅に立設された柱部材12に矩形の下部枠13及び上部枠14が固定された構成であり、前記上部枠14の対向する長辺枠材14間には立った状態のシリコンウェーハSを支持するとともに、複数のシリコンウェーハS間の仕切り材の機能を果たす仕切り棒(図示せず)が所定間隔で複数本配設されている。保持具1は、耐熱性、清浄性、耐熱衝撃性などを考慮して石英で作製されているが、高純度の耐熱衝撃性セラミックスなど他の材料で作製することもできる。また、保持具1は、前記のものに限らず、例えば仕切り棒に代えて、枠材に溝又は突起を設けたものであってもよい。
冷却ファン2は、ファン本体21と、このファン本体21を回転させるモータ22とを備えており、モータ22は、シリコンウェーハSの冷却が行なわれる冷却室4の側壁4aに固設された取付バー23に取り付けられている。冷却ファン2は、前記側壁4aに形成された開口(図示せず)から冷却用エアを前記冷却室4内にほぼ水平方向に吹き出す。その風速は、本発明において特に限定されるものではないが、通常、3〜15m/秒である。また、風量は冷却室4の容積や冷却速度などを考慮して適宜選定することができるが、概ね70〜180m3/分程度である。
揺動機構3は、前記冷却室4内に配設されたターンテーブル31と、このターンテーブル31の下方に配設され、当該ターンテーブル31を正転及び反転させるモータ32とを備えている。ターンテーブル31上に前記保持具1が配置され、この状態でターンテーブル31を交互に正転及び反転させることで保持具1に保持されたシリコンウェーハSを揺動させることができる。
本実施の形態におけるターンテーブル31及びこのターンテーブル31を回転駆動させるモータ32を搭載した昇降ベース33は、モータを備えた駆動機構34によって昇降可能に構成されている。ターンテーブル31を昇降させることで、後述するように、ターンテーブル31上に配置された保持具1と後述するロッドとを係合させたり、又は、当該係合を解除させたりすることができる。
前記冷却室4には、仕切り壁により隔てることなく予備室5が隣接して設けられている。この予備室5には、前記保持具1を配置することができる定位置6が設けられており、冷却後のシリコンウェーハSを保持する保持具1は、図示しない移送機構によってターンテーブル31上から定位置6上に押し出される。
また、前記冷却室4には、昇降可能な開閉扉7を介して、シリコンウェーハSを所定温度に加熱するための加熱室8が隣接して設けられている。この加熱室8と予備室5は、ターンテーブル31を中心として90°の角度をなす位置に配置されている。加熱室8は、電気ヒータによって100〜1000℃程度に加熱可能に構成されている。
加熱室8を挟んで、前記冷却室4と反対側の位置には、前記保持具1を搬送させるための搬送機構40が設けられている。この搬送機構40は、進退自在に構成されたロッド41と、このロッド41をその軸方向に前進又は後退させる駆動機構42とで主に構成されている。駆動機構42は、ロッド42と所定距離だけ離間して当該ロッド42の下方に並設されているボールネジシャフト43と、このボールネジシャフト43外周に配設されたボールネジナット44と、このボールネジナット44と前記ロッド42とを連結する連結部材45と、減速機構50を介して前記ボールネジシャフト43に連結されたモータ51とからなっている。ボールネジシャフト43の先端側端部(モータ51と反対側の端部)及び後端側端部は、それぞれ軸受装置52によって回転可能に支持されている。ボールネジナット44及びこれに連結された連結部材45は、ボールネジシャフト43の回転により当該ボールネジシャフト43の軸方向に沿って移動可能に構成されている。したがって、モータ51の回転を制御することで連結部材45に連結されたロッド42をその軸方向に沿って所定距離だけ進出又は後退させることができる。
前記ロッド41の先端には、下方が開放された断面略コの字状の部材からなる係止部46が形成されている。この係止部46は、前記保持具1の底板11の端縁から立設された係止壁47の上縁部と係合可能に構成されている。係止部46と係止壁47とを係合させた状態でロッド41を進出又は後退させることにより、保持具1を当該ロッド41の軸方向に沿って移動させることができる。
次に前述した冷却装置Cを用いてシリコンウェーハSを冷却する方法について説明する。
まず、冷却室4内のターンテーブル31上の所定位置に複数のシリコンウェーハSを搭載した保持具1を配置する。このとき、ターンテーブル31は下方位置にあり、また、冷却室4と加熱室8との間の開閉扉7は上方にスライドして、当該冷却室4と加熱室8とは開放された状態になる。
ついで、モータ51を回転させて前記ロッド41を所定位置まで進出させる。その後、ターンテーブル31を上昇させて、ロッド41の先端の係止部46と、保持具1の係止壁47とを係合させる。ターンテーブル31を上昇させた状態において、当該ターンテーブル31の上面と、加熱室8の床面とはほぼ面一の状態である。係合後、モータ51を反転させてロッド41を所定位置まで後退させ、これによりターンテーブル31上の保持具1を加熱室8内の加熱位置まで引き込む。
ついで、前記開閉扉7を下方にスライドさせて冷却室4と加熱室8との間の開口を閉じた後に、図示しない加熱手段によって加熱室8内を加熱し、シリコンウェーハSが所定の温度、例えば600℃程度になるまで昇温し、所定の時間、例えば15分〜2時間、その温度で加熱保持する。その後、モータ51を回転させて前記ロッド41を進出させ、保持具1をできるだけ前記開閉扉7に近接する位置まで移動させ、ついで当該開閉扉7を上方にスライドさせて冷却室4と加熱室8との間の開口を開放する。その後、ロッド41を更に所定位置まで進出させ、加熱されたシリコンウェーハSを保持した保持具1をターンテーブル31上の所定位置に押し出す。
以上の加熱工程では、ロッド31先端の係止部46と、保持具1の係止壁47とを係合させた状態で加熱を行なうので、加熱完了後の保持具1を冷却操作のためにターンテーブル31上へ移動させるのを短時間で行なうことができる。また、保持具1をできるだけ開閉扉7に近接させた状態で当該開閉扉7をあけて保持具1をターンテーブル31上に移動させるので、被処理物であるシリコンウェーハSの温度降下を最小限に抑えることができる。
保持具1をターンテーブル31上の所定位置に移動させた後、当該ターンテーブル31を下降させて、ロッド41の先端の係止部46と、保持具1の係止壁47との係合を解除する。ついで、モータ51を反転させてロッド41を所定位置まで後退させるとともに、前記開閉扉7を下方にスライドさせて冷却室4と加熱室8との間の開口を閉じる。
その後、冷却ファン2のモータ22を駆動してファン本体21を回転させ、冷却用エアを冷却室4内に送り込む。この冷却用エアの供給方向と、被処理物であるシリコンウェーハSの面内方向とがほぼ一致するように、当該シリコンウェーハSを保持する保持具1がターンテーブル31上に配置されている。
冷却に際し、モータ32を所定の周期で正転及び反転させて、シリコンウェーハSを保持する保持具1を載せたターンテーブル31を揺動させる。これにより、シリコンウェーハSの面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度を所定の範囲内で変化させることができる。したがって、シリコンウェーハSに対して均一に冷却用エアを供給することができ、その結果、シリコンウェーハSを迅速かつ均一に冷却することができる。
シリコンウェーハSの面内方向に対して平行な方向に冷却用エアを供給する場合、当該シリコンウェーハSを動かさずにいると、図3の(a)に示されるように、シリコンウェーハSの上流側端部において冷却用エアとの接触が多くなり、他の部分の冷却効率が悪くなる。また、面内での温度差が著しくなり、シリコンウェーハSが割れる惧れもある。これに対し、図3の(b)に示されるように、シリコンウェーハSを揺動させると、当該シリコンウェーハS全体に均一に冷却用エアを供給することができるので、シリコンウェーハSを迅速かつ均一に冷却することができる。
放射温度計などによってシリコンウェーハSの温度を測定し、当該温度を所定の時間、例えば3分以内に所定温度まで低下させた後に、冷却ファン2のモータ22の回転を停止させる。ついで、冷却後のシリコンウェーハSを保持する保持具1を、図示しない移送機構によってターンテーブル31上から予備室5の6で示される定位置に押し出すことで冷却操作が完了する。
〔他の変形例〕
なお、前述した実施の形態は、本発明の例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は、前記実施の形態ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の構成と均等なすべての変更が含まれる。
例えば、前述した実施の形態では、被処理物であるシリコンウェーハSに均一に冷却用エアを供給するために当該シリコンウェーハSを保持する保持具を揺動させているが、被処理物の形状によっては、保持具を回転させることで被処理物に均一に冷却用エアを供給することもできる。具体的に、シリコンウェーハSほど薄くない箱体のような被処理物は、保持具を回転させることで被処理物に均一に冷却用エアを供給することができる。
また、ロッド41を軸方向に移動させるための機構やターンテーブル31を昇降させるための機構としては、例えば油圧装置などを用いることができ、本発明において特に限定されるものではない。
1 保持具
2 冷却ファン(エア供給手段)
3 揺動機構
4 冷却室
5 予備室
7 開閉扉
8 加熱室
21 ファン本体
22 モータ
31 ターンテーブル
40 搬送機構
41 ロッド
42 駆動機構
43 ボールネジシャフト
44 ボールネジナット
45 連結部材
46 係止部
47 係止壁
51 モータ

Claims (10)

  1. 加熱処理された被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する装置であって、
    少なくとも1枚の板状の被処理物を立った状態で保持することができる保持具と、
    この保持具に保持された被処理物の面内方向とほぼ平行な方向に冷却用エアを供給するエア供給手段と、
    前記被処理物の面内方向と冷却用エアの供給方向とのなす角度が所定の範囲内で変化するように前記保持具を揺動させる揺動機構と
    を備えたことを特徴とする冷却装置。
  2. 前記所定の範囲が−45°〜+45°の範囲である請求項1に記載の冷却装置。
  3. 前記揺動機構が、前記保持具が載置されるターンテーブルと、このターンテーブルを正転及び反転させるモータとからなる請求項1〜2のいずれかに記載の冷却装置。
  4. 加熱処理された被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する装置であって、
    少なくとも1つの被処理物を保持することができる保持具と、
    この保持具に保持された被処理物に冷却用エアを供給するエア供給手段と、
    前記被処理物に対する冷却用エアの供給方向が変化するように前記保持具を回転させる回転機構と
    を備えたことを特徴とする冷却装置。
  5. 被処理物が加熱処理される加熱室内の保持具を、当該被処理物が冷却される冷却室内に搬送する搬送機構を更に備えている請求項1〜4のいずれかに記載の冷却装置。
  6. 前記搬送機構がロッドを備えており、
    前記ターンテーブルは昇降可能に構成されており、
    前記ロッドの先端には、下方に開放されており且つ前記保持具に係止可能な係止部が形成されており、且つ、
    ターンテーブルの下降によって当該ターンテーブル上の保持具とロッド先端の係止部との係合が解除されるように構成されている請求項5に記載の冷却装置。
  7. 加熱処理された板状の被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する方法であって、
    前記被処理物の面内方向と、冷却用エアの吹き付け方向とのなす角度を所定の範囲内で変化させることを特徴とする冷却方法。
  8. 前記被処理物を、その面内方向が前記冷却エアの吹きつけ方向とほぼ平行になるように配置し、当該被処理物を揺動させることで前記角度を所定の範囲内で変化させる請求項7に記載の冷却方法。
  9. 前記所定の範囲が−45°〜+45°の範囲である請求項8に記載の冷却方法。
  10. 加熱処理された板状の被処理物を冷却用エアの吹き付けによって冷却する方法であって、
    前記被処理物に対する冷却用エアの吹き付け方向を変化させることを特徴とする冷却方法。
JP2009028287A 2009-02-10 2009-02-10 冷却装置 Expired - Fee Related JP5612266B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009028287A JP5612266B2 (ja) 2009-02-10 2009-02-10 冷却装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009028287A JP5612266B2 (ja) 2009-02-10 2009-02-10 冷却装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010186778A true JP2010186778A (ja) 2010-08-26
JP5612266B2 JP5612266B2 (ja) 2014-10-22

Family

ID=42767284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009028287A Expired - Fee Related JP5612266B2 (ja) 2009-02-10 2009-02-10 冷却装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5612266B2 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57211729A (en) * 1981-06-23 1982-12-25 Fujitsu Ltd Furnace for semiconductor heat treatment
JPS6336524A (ja) * 1986-07-30 1988-02-17 Nec Corp ウエ−ハ熱処理装置
JPH07147257A (ja) * 1993-09-30 1995-06-06 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び装置
JP2001338890A (ja) * 2000-05-26 2001-12-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2003197497A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2006319201A (ja) * 2005-05-13 2006-11-24 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2007073564A (ja) * 2005-09-02 2007-03-22 Fujitsu Ltd アッシング装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57211729A (en) * 1981-06-23 1982-12-25 Fujitsu Ltd Furnace for semiconductor heat treatment
JPS6336524A (ja) * 1986-07-30 1988-02-17 Nec Corp ウエ−ハ熱処理装置
JPH07147257A (ja) * 1993-09-30 1995-06-06 Tokyo Electron Ltd 熱処理方法及び装置
JP2001338890A (ja) * 2000-05-26 2001-12-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2003197497A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2006319201A (ja) * 2005-05-13 2006-11-24 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2007073564A (ja) * 2005-09-02 2007-03-22 Fujitsu Ltd アッシング装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5612266B2 (ja) 2014-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100979615B1 (ko) 기판 이송 장치, 기판 처리 장치, 기판 이송용 아암, 기판이송 방법
JP6560172B2 (ja) 連続的なサファイア成長
US8449238B2 (en) In-line furnace conveyors with integrated wafer retainers
JP5569758B2 (ja) 回転型ドア開閉装置を備えた多結晶シリコン鋳塊製造装置
KR20080101113A (ko) 링기어의 기어치 고주파 열처리장치
KR20090034465A (ko) 실리콘 잉곳 성장방법
US20090191348A1 (en) Zone melt recrystallization for inorganic films
JP5612266B2 (ja) 冷却装置
CN113227464A (zh) 用于高电阻率及超高电阻率单晶硅锭生长的阔颈板的改进型电阻率稳定测量
JP4894111B2 (ja) 熱処理装置
JP3973852B2 (ja) 半導体基材製造装置
CN210065981U (zh) 一种碳化硅单晶生长中的籽晶固定装置
JP2000269137A (ja) 半導体製造装置及びウェハ取扱方法
JP3129908B2 (ja) 大量生産型単結晶引き上げシステム
EP2478135A1 (en) Apparatus and method for crystallization of silicon
CN1289720C (zh) 具有受控缺陷分布的硅晶片及其制法
JP2009008306A (ja) 熱処理装置
JPS6016416A (ja) 気相成長装置
CN203923450U (zh) 一种直拉式单晶炉用取晶运晶装置
JP2013235899A (ja) プラズマ処理装置用シリコン円板の熱処理装置
CN117051480B (zh) 晶片处理方法和系统
JP2017065982A (ja) ディスプレイ用ガラス基板の製造方法、およびディスプレイ用ガラス板製造装置
CN117497461B (zh) 晶圆镀膜前处理装置
KR20110098870A (ko) 급속열처리장치 및 열처리방법
JPH065613A (ja) 高速熱処理法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111028

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130820

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130827

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131003

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140318

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140611

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140618

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140826

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5612266

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees