JP2010185085A - 固体材料表面の光化学的改質方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固体材料(フッ素樹脂を除く)表面に、化学種を含有し、かつ液体の形態にある化合物の薄層を形成し、該薄層を介して該固体材料表面に紫外線を照射して該固体表面と該化合物を励起して該化学種を該固体材料表面に導入することによって該固体材料表面を光化学的に改質することを包含し、該固体材料表面に該薄層を形成するに先立ち、該固体材料表面を活性化エネルギーまたは酸化剤で処理して該固体材料表面の光化学的改質を促進させることを特徴とする固体材料表面の光化学的改質方法。
【選択図】 なし
Description
[実施例]
プラスチック試料として、硬化エポキシ樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、アクリルニトリルブタジエンスチレン(ABS)、シリコーン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ナイロン−6,6、ナイロン−6、ポリアセタール、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリテトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン(FEP)、セラミック試料としてサファイア、石英ガラス、白板ガラス、金属としてチタン(Ti)、アルミニウム(Al)、シリコン(Si)について未処理時の水との接触角を測定した。次に、これらの試料にDC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマを5分間照射し、その処理面の水との接触角を測定した。さらにプラズマ処理が施された試料面を布で拭いた後の接触角を測定した。併せて、プラズマ照射効果の照射時間依存性を比較するために、同様なグロー放電プラズマ処理を10分間行った。これらの結果を表1に示す。また、プラスチックについての結果を図1にも示す。フッ素樹脂のPTFEとFEPを除いた全てのプラスチック、セラミック、金属が5分間のグロー放電プラズマ照射により水との接触角が著しく小さくなる。接触角変化の少ないフッ素樹脂(PTFE、FEP)についてもプラズマ照射の時間を延ばすと小さくなり、10分照射で65〜72度と撥水性から親水性に変わる。ところがこれらの試料表面を布で軽く拭くと、全ての試料の接触角は元に戻ってしまう。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマ(イオンスパッタを含む;以下同じ)をポリイミドフィルム試料に5分間照射すると、表2に示すように、未処理表面の水との接触角が68度であったものが11度と低くなるが、表面を布で拭くと元の68度に戻ってしまう。このグロー放電プラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射した。未処理の試料ではレーザパルス光を100ショット照射しても接触角56度までしか改善できなかったが、プラズマ処理をした試料では1ショットのレーザパルス照射で接触角25度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても34度以上には戻らなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをシリコーン樹脂フィルム試料に5分間照射すると、表3に示すように未処理試料表面の水との接触角が111度であったものが6度と低くなるが、表面を布で拭くと元の70度になってしまう。このプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射する。未処理の試料ではレーザパルス光を500ショット照射しても接触角102度までしか改善できなかったが、プラズマ処理をした試料では1ショットのレーザパルス照射で接触角50度を達成した。表1に示したようにプラズマのみを照射した場合、接触角は6度と低くなるが、表面を布で拭くと元の値111度より低いが、それでも70度まで高くなる。ところがプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても49度と殆ど接触角の戻りは無かった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをポリアセタールイフィルムに5分間照射すると表4に示すように、未処理試料表面の水との接触角は75度であったものが49度と低くなるが、表面を布で拭くと72度と元の値の近傍に戻ってしまう。このプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射した。未処理試料ではレーザパルス光を3000ショット照射しても78度と接触角に殆ど変化は見られなかった。ところが、プラズマ処理をした試料では1ショットのレーザパルス照射で接触角35度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても35度以上には戻らなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPETフィルムに5分間照射すると表5に示すように、未処理試料表面の水との接触角は71度であったものが8度と極端に低くなる。しかし表面を布で拭くと65度と元の値(71度)の近傍に戻ってしまう。このプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射した。未処理試料でもレーザパルス光を1000ショット照射して40度まで改善される。ところが、プラズマ処理をした試料では1/10の100ショットで接触角40度を達成し、5ショットで接触角47度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を5ショット照射するだけで、布で拭いても50度以上には戻らなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPTFEフィルムに5分間照射すると表6に示すように、未処理試料表面の水との接触角が107度であったものが99度と他のプラスッチクに比べると高い。しかも表面を布で拭くと95度と元の値(107度)の近傍に戻ってしまう。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射すると、未処理の試料ではレーザパルス光を3000ショット照射すると55度になった。ところが、プラズマ処理をした試料では1/3000の1ショットのレーザパルス照射で56度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても68度を維持している。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをFEPフィルムに5分間照射すると表7に示すように、未処理試料表面の水との接触角が104度であったものが、83度と他のプラスッチクに比べると高い。しかし表面を布で拭いても85度と極端には元の値(104度)には戻らない。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射すると、未処理の試料ではレーザパルス光を3000ショット照射すると接触角が63度になった。ところが、プラズマ処理をした試料では1/3000の1ショットのレーザパルス照射で接触角75度を、10ショットで接触角63度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても75度以上にはならなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPMMAフィルムに5分間照射すると表8に示すように、未処理試料表面の水との接触角は85度であったものが、44度と低くなる。しかし表面を布で拭くと55度と少々大きくなる。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射すると、未処理の試料ではレーザパルス光を500ショット照射しても76度と殆ど接触角に変化は見られなかった。ところが、プラズマ処理をした試料では1ショットのレーザパルス照射で接触角35度を達成した。しかもプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても接触角40度以上にはならなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをエポキシ樹脂板に5分間照射すると表9に示すように、未処理試料表面の水との接触角が76度であったものが、10度と低くなるが、表面を布で拭くと65度と少々大きくなる。ところが、プラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射すると、未処理試料ではレーザパルス光を1000ショット照射しても45度であった。ところが、プラズマ処理をした試料では1ショットのレーザパルス照射で接触角40度を達成した。しかもプラズマのみを照射した場合接触角はところがプラズマ処理した試料にレーザ光を1ショット照射するだけで、布で拭いても接触角44度と殆ど変わらなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマを白板ガラスに5分間照射すると表10に示すように、未処理試料表面の水との接触角は31度であったものが、5度と低いが、表面を布で拭くと28度まで戻ってしまう。ところが、プラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を未処理試料に5分間照射すると、接触角は23度まで小さくなる。一方プラズマ処理をした試料の接触角は、同一条件で17度まで下がり、布で拭いても23度以上にはならなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをサファイア板に5分間照射すると表11示すように、未処理試料表面の水との接触角は70度であったものが5度と低いが、表面を布で拭くと50度まで戻ってしまう。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を5分間照射すると50度まで小さくなる。ところが、プラズマ処理を施した試料は15度まで下がる。一方プラズマ処理した試料にXeエキシマランプ光を5分間照射するだけで15度まで改善され、布で拭いても36度以上にはならなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをアルミニウム箔に5分間照射すると表12に示すように、未処理試料表面の水との接触角は77度であったものが11度と低くなるが、表面を布で拭くと40度と大きくなる。ところが、プラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を5分間照射すると40度まで下がる。一方プラズマ処理した試料にXeエキシマランプ光を5分間照射するだけで9度まで改善され、布で拭いても28度以上には戻らなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをチタン箔に5分間照射すると表13に示すように、未処理試料表面の水との接触角は93度であったものが28度を呈し、表面を布で拭くと93度と元に戻ってしまう。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を未処理試料に5分間照射すると、未処理の場合は61度まで小さくなる。一方プラズマ処理をした試料に5分間のXeエキシマランプ光照射を施すと34度まで下がる。しかも布で拭いても50度以上にはならなかった。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをSiウエハに5分間照射すると表14に示すように、未処理試料表面の水との接触角は85度であったものが8度と低い値を示すが、表面を布で拭くと85度まで戻ってしまう。ところがプラズマ処理した試料と未処理試料との表面に水の薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を5分間照射すると、未処理の場合は接触角は42度まで小さくなる。一方プラズマ処理をした試料に5分間のXeエキシマランプ光照射を施すと接触角は20度まで下がる。しかも、布で拭いても接触角は26度以上にはならなかった。
表15に示すように、未処理PMMA試料表面の水との接触角は85度であり、マシーン油との接触角は0度であった。そこでDC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPMMA試料に5分間照射した後、パーフルオロポリエーテルの薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射した。レーザパルス光を2000ショット照射すると、水との接触角は113度、マシーン油とは60度と、撥水性及び撥油性を発現するPTFEと同値の表面を達成した。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPMMA試料に5分間照射した後、試料表面にパーフルオロポリエーテルの薄液層を介して、9kV、20kHz、入力20Wの電力を印加したXeエキシマランプ光(172nm)を5分間照射すると、水との接触角は115度、マシーン油とは62度と、撥水性及び撥油性を発現するポーラスPTFEと同値の表面を達成した(表15)。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPTFE試料に1〜10分間照射すると未処理試料表面の水との接触角が107度であった表面が、処理後99〜65度と小さくなった。同プラズマを7.5分間照射したPTFE試料(水との接触角60度)に濃度0.3重量%の硫酸銅水溶液の薄液層を介してエネルギー密度10〜25mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザ光を照射した。この状態で試料表面にレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理試料では1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は3000ショットであったが、プラズマ処理した試料では表16に示すように1/3000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、銅核密度100%が得られるためには硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度25mJ/cm2、レーザパルス4ショットが最適である。レーザパルス1ショット、照射エネルギー密度25mJ/cm2でも銅核密度25%が得られる。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをFEP試料に7.5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は104度であったものが、処理後72度と小さくなった。この試料表面に0.3%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して20mJ/cm2の回路パターンArFレーザ光を照射する。この状態で試料表面にレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬し、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は3000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表17に示すように1/3000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、銅核密度100%が得られるためには硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度20mJ/cm2、レーザパルス4ショット、プラズマ処理時間7.5分が最適である。レーザパルス1ショット、照射エネルギー密度10mJ/cm2でも銅核密度75%が得られる。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをエポキシ樹脂板に1分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は76度であったものが、処理後20度と小さくなった。この試料表面に0.3%および1.0%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して20〜25mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザ光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は3000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表18に示すように1/500パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、レーザパルス1ショットで銅核密度100%が得られるためには硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度24mJ/cm2、プラズマ処理時間1分が最適である。
DC2極スパッタ装置による酸素プラズマをナイロン−6,6板に1〜5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は51度であったものが、処理後19度と小さくなった。この試料表面に0.3%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して24〜28mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザ光を照射する。この状態で試料表面にレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は2000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表19に示すように1/2000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、銅核密度100%が得られるためには硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度24mJ/cm2、レーザパルス1ショット、プラズマ処理時間5分が最適である。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPETフィルムに10分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は71度であったものが、処理後7度と小さくなった。この試料表面に0.3〜1.0%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して22〜28mJ/cm2の回路パターンArFレーザ光を照射する。表20に示すように、未処理試料表面の水との接触角は71度である。この状態で試料表面にレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理の試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は6000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表20に示すように1/6000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、レーザパルス1ショットで銅核密度100%が得られるためには硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度28mJ/cm2、プラズマ処理時間10分が最適である。
DC2極スパッタ装置による酸素プラズマをABS板に1分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は79度であったものが、処理後8度と小さくなった。この試料表面に0.3および1.0%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して22mJ/cm2の回路パターンArFレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理の試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は10000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表21に示すように1/10000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、レーザパルス1ショットで硫酸銅水溶液の濃度0.3%、照射エネルギー密度22mJ/cm2の時、銅核密度70%が得られた。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをポリアセタール板に1分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は75度であったものが、処理後47度と小さくなった。この試料表面に0.3重量%の硫酸銅水溶液の薄液層を介して25mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理の試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は6000ショットであった。ところが、プラズマ処理した試料では表22に示すように1/6000パルスの1から4ショットのレーザパルス照射で銅回路パターンが得られ、レーザパルス2ショットで銅核密度60%が得られた。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをポリイミドフィルムに5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は68度であったものが、処理後11度と小さくなった。この試料表面に0.3重量濃度の硫酸銅水溶液の薄液層を介して15〜29mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザパルス光を照射した後、無電解メッキ液に60℃で30分浸漬した。未処理試料については、1ミクロン厚の銅箔が形成されるに必要なレーザ照射パルス数は図2に示すように銅核密度100%が得られるためには、照射エネルギー密度50mJ/cm2が必要であった。ところがプラズマ処理を施した試料では図3
に示すように照射レーザエネルギー密度が約半分の26mJ/cm2とフォトンコストの面で経済的である。
入力10kV、1mAの軟X線発生装置によりエポキシ樹脂板に軟X線を5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は81度であった表面が、処理後64度と小さくなった。この試料に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射したところ、X線未処理試料にレーザパルス光を3000ショット照射する場合55度であったが、X線処理を施した試料では1/1000の3ショットのレーザパルス照射で55度と僅かに改善が見られた。
入力10kV、1mAの軟X線発生装置によりPTFEフィルムに軟X線を5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は107度であった表面が、処理後102度と小さくなった。この試料に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射したところ、X線未処理試料にレーザパルス光を3000ショット照射する場合55度であったが、X線処理を施した試料では1/3000の1ショットのレーザパルス照射で55度と僅かに改善が見られた。
入力10kV、1mAの軟X線発生装置によりPETフィルムに軟X線を5分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は71度であった表面が、処理後65度と僅かに小さくなった。この試料に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射したところ、X線未処理試料にレーザパルス光を100ショット照射する場合水との接触角は58度であったが、X線処理を施した試料では1/100の1ショットのレーザパルス照射で60度と僅かに改善が見られた。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをシリコーン樹脂フィルムに5分間照射すると、未処理試料表面の水との接触角は111度であったものが6度と低くなる。その処理面に水を塗布し、パターン状10mJ/cm2のArFレーザ光を1ショット投影する。これにより露光部分がパターンに対応して親水性が発現され、水との接触角は50度を達成した。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをポリイミドフィルムに1分間照射すると未処理試料表面の水との接触角は68度であったものが、処理後7度と小さくなる。この試料表面に0.3%の硫酸銅水溶液を塗布し、の薄液層を介して26mJ/cm2の回路パターン状ArFレーザ光を1ショット投影露光する。これにより露光部分がパターンに対応して銅核が形成され、これを無電解メッキ液に60℃で30分浸漬し、1ミクロン厚のプリント配線板が形成された。
エポキシ樹脂板をクロム酸混液に5分間浸漬すると未処理試料表面の水との接触角は81度であった表面が、処理後38度、10分で30度、15分で25度と小さくなる。これらの試料に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射したところ、未処理試料にレーザパルス光を3000ショット照射する場合55度であったが、クロム酸混液処理を施した試料では1/3000の1ショットのレーザパルス照射で50度と僅かに改善が見られた。
ポリイミドフィルムをクロム酸混液に5分間浸漬すると未処理試料表面の水との接触角は68度であった表面が、処理後45度と小さくなる。これらの試料に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射したところ、未処理試料にレーザパルス光を100ショット照射する場合56度であったが、クロム酸混液処理を施した試料では1/3000の1ショットのレーザパルス照射で50度と僅かに改善が見られた。
DC2極スパッタ装置によるグロー放電プラズマをPTFEフィルムに照射すると図4に示すように、未処理試料表面の水との接触角は107度であったものがプラズマ照射時間に連れて小さくなっていく。この接触角が小さいほどレーザによる表面改質効率が高くなる。そこで、プラズマをパルス的に照射し、パルスが休止している時にDC2極スパッタ装置のチャンバー内に酸素を導入し、すぐにそのガスを吸引する。この操作により試料表面に酸素が吸着する。ここで再度プラズマ照射を持続させる。
図4に示すように、15分間連続照射をした試料の水との接触角が76度であるのに対し、5分照射後2.5分毎に2回プラズマ照射を止め、試料表面に酸素吸着を繰り返した試料(5分照射+酸素吸着+2.5分照射+酸素吸着+2.5分照射)の水との接触角は62度と改善された。この試料表面に水の薄液層を介して10mJ/cm2のArFレーザ光を照射すると、未処理の試料ではレーザパルス光を3000ショット照射すると水との接触角が55度であったものが、1/3000の1ショットのレーザパルス照射で40度を達成した。
上部電極を同軸的に有するXe2エキシマランプ(172nm;165kcal)と、PET試料を載置した下部電極を上部電極とPET試料が0.1〜1mmの感覚となるように設置し、上部電極と下部電極との間に大気中で高周波電圧を印加すると、PET試料表面とエキシマランプとの間の間隙でグロー放電が生じた。これにより、大気中の酸素がオゾン化され、PET試料表面に活性酸素が吸着され、かつ同時に発振した172nmのエキシマランプ光によりPET試料表面が励起されてPET試料表面に酸素原子を置換させることができた。これに、実施例18と同様に硫酸銅水溶液の薄層を介してArFレーザ光を照射したところ、未処理PET試料では6000ショット照射しなければPET表面に銅核を形成できなかったものが、処理PET試料では1ショットで表面に銅核を形成することができた。
Claims (4)
- 固体材料(フッ素樹脂を除く)表面に、化学種を含有し、かつ液体の形態にある化合物を該固体材料表面に塗布することにより薄層を形成するか、あるいは該固体表面と紫外線透過部材との間隙に毛細管現象により該薄層を形成し、該薄層を介して該固体材料表面に紫外線を照射して該固体表面と該化合物を励起して該化学種を該固体材料表面に導入することによって該固体材料表面を光化学的に改質することを包含し、該固体材料表面に該薄層を形成するに先立ち(前処理)、該固体材料表面を活性化エネルギーによる処理を酸素の存在下で行ない、または酸化剤で処理して、一時的に該固体材料表面が該薄層と高い濡れ性を呈している間に、紫外線を該薄層に照射して露光部のみ選択的に官能基や原子を置換し、該固体材料表面の光化学的改質を促進させることを特徴とする固体材料表面の光化学的改質方法。
- 前記活性化エネルギーとしてプラズマ照射を施す前処理においては、前記化学種含有液体化合物による被改質固体材料表面部位に濡れ性を発現させるために、連続的なパルス信号としてプラズマを繰り返し照射し、プラズマ照射によるパルス信号が休止している期間には、酸素雰囲気下で被改質固体材料表面に酸素を供給させることを特徴とする請求項1記載の固体表面材料表面の光化学的改質方法。
- 請求項1記載の前処理終了後に、前記化学種含有液体化合物による被改質固体表面材料部位に形成された薄層を介して、紫外線のパターン露光による照射で、露光部と未露光部のパターンに対応させて選択的に官能基を置換させることを特徴とする請求項1及び請求項2記載の固体表面材料の光化学的改質方法。
- フッ素樹脂を除く固体表面材料にプラズマ照射後に銅化合物水溶液存在下で回路パターン状レーザパルス照射により該露光部固体表面材料に銅核を形成させるに際して、プラズマ照射後にレーザ光エネルギー密度が10mJ/cm 2 から28mJ/cm 2 であり、それに対応させるレーザ光パルス数が1から5の照射エネルギーにより固体材料表面を改質させることを特徴とする請求項1、請求項2及び請求項3記載の固体表面材料の光化学的改質方法。
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